專利名稱：超聲硅片清洗機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種硅片清洗機，特別是超聲硅片清洗機。
背景技術(shù)：
硅片在生產(chǎn)時會伴隨有大量的殘留物和金屬雜質(zhì)，在清洗時相當(dāng)麻煩，而且清洗效果不好。專利申請?zhí)枮閆L200720192576. 8中公開了一種超聲波清洗單晶硅片裝置，包括清洗槽，清洗槽的槽壁上設(shè)有進水口和出水口，槽底部下方設(shè)有超聲波振子，其特征是清洗槽槽內(nèi)設(shè)有一擱置單晶硅片的框架，框架底壁為柵欄狀石英棒，石英棒形成的平面低于離子水水平面，整個框架由支撐腳支撐在清洗槽呢。這種結(jié)構(gòu)的清洗裝置，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，清洗時浪費了大量水資源。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，清洗效果好且能夠節(jié)約水資源的超聲硅片清洗機。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型所設(shè)計的超聲硅片清洗機，它包括超聲槽，其特征是在超聲槽的一側(cè)設(shè)有排水閥門，超聲槽的槽口處搭接有用于放置硅片的支架，超聲槽的底部設(shè)有超聲波振子；超聲槽上還設(shè)有循環(huán)水管路，循環(huán)水管路上通過過濾裝置和抽水泵連有噴頭。在支架上通過連桿連有收集網(wǎng)，用于收集清洗時可能脫落的硅片。本實用新型得到的超聲硅片清洗機，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，采用超聲清洗，使清洗硅片的效果更好，且能夠節(jié)約水資源。

圖I是實施例整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖中超聲槽I、排水閥門2、支架3、連桿31、超聲波振子4、循環(huán)水管路5、、過濾裝置51、抽水泵52、噴頭6、收集網(wǎng)7、注水閥門8。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。實施例如圖I所示，本實施例提供的超聲硅片清洗機，它包括超聲槽I，在超聲槽I的一側(cè)設(shè)有排水閥門2，超聲槽I的槽口處搭接有用于放置硅片的支架3，在支架3上通過連桿31連有收集網(wǎng)7，超聲槽I的底部設(shè)有超聲波振子4 ;超聲槽I上還設(shè)有循環(huán)水管路5，循環(huán)水管路5上通過過濾裝置51和抽水泵52連有噴頭6。當(dāng)超聲槽I的水位不足時，開啟超聲槽I上方的注水閥門8，水位過高時，開啟排水閥門2。當(dāng)超聲槽I內(nèi)的水逐漸清澈時,開啟抽水泵52，使清水經(jīng)過過濾裝置51后通過噴頭6噴出，噴頭6由人工操作控制水流方向和位置，將清水重新打入超聲槽I內(nèi)，達到循環(huán)清洗的作用 。通過超聲波振子4發(fā)生的超聲波將硅片上的殘留物和金屬雜質(zhì)清洗。
權(quán)利要求1.一種超聲硅片清洗機，它包括超聲槽(I)，其特征是在超聲槽(I)的一側(cè)設(shè)有排水閥門(2)，超聲槽(I)的槽口處搭接有用于放置硅片的支架(3)，超聲槽(I)的底部設(shè)有超聲波振子(4);超聲槽(I)上還設(shè)有循環(huán)水管路(5)，循環(huán)水管路(5)上通過過濾裝置(51)和抽水泵(52)連有噴頭(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的超聲硅片清洗機，其特征是在支架(3)上通過連桿(31)連有收集網(wǎng)(7)。
專利摘要本實用新型公開了一種超聲硅片清洗機，它包括超聲槽，其特征是在超聲槽的一側(cè)設(shè)有排水閥門，超聲槽的槽口處搭接有用于放置硅片的支架，超聲槽的底部設(shè)有超聲波振子；超聲槽上還設(shè)有循環(huán)水管路，循環(huán)水管路上通過過濾裝置和抽水泵連有噴頭。本實用新型得到的超聲硅片清洗機，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，采用超聲清洗，使清洗硅片的效果更好，且能夠節(jié)約水資源。
文檔編號B08B3/12GK202427679SQ201120573330
公開日2012年9月12日 申請日期2011年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月31日
發(fā)明者鐘平 申請人:寧波科論太陽能有限公司