專利名稱：旋轉清洗裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及向旋轉的半導體晶片等工件供給清洗液來進行清洗的旋轉清洗裝置。
背景技術：
在半導體器件制造工序中，在半導體晶片等工件的表面利用格子狀的分割預定線劃分出大量矩形形狀的器件區(qū)域，并在這些器件區(qū)域的表面形成由ICdntegrated Circuit,集成電路)、LSI (Large Scale Integration,大規(guī)模集成電路)等構成的電子電路，接著在磨削背面后實施研磨等必要的處理，然后將工件沿分割預定線切斷、分割，從而由一張工件得到大量的器件。作為分割工件的裝置，已知具備切削構件和旋轉清洗裝置的切削裝置，所述切削構件使高速旋轉的切削刀具切入工件來進行切斷，所述旋轉清洗裝置對切斷的工件進行清洗(專利文獻I)。該旋轉清洗裝置形成為如下的結構將工件吸附并保持在配設于圓筒狀的腔體內的保持工作臺并且使保持工作臺旋轉，從清洗液供給噴嘴朝向旋轉的工件噴出清洗液來清洗工件，接著從空氣噴嘴向工件噴出空氣來使工件干燥。專利文獻I :日本特開2006-128359號公報在該種清洗裝置中，由于使保持工作臺高速地旋轉，因此當向工件供給清洗液時會產生被污染的霧。因此，在上述腔體設置管道，經(jīng)由管道抽吸腔體內的空氣來將霧排出到外部。不過由于管道一般是開口設置于腔體的內壁面的單側，因此產生了距離管道最遠的、 相當于該管道的相反側的內壁面附近的霧無法被高效排出這樣的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明正是鑒于上述情況而完成的，其主要的技術課題為提供一種旋轉清洗裝置，即使是腔體內的位于遠離管道的位置的霧也能夠被運到管道側，能夠比以往高效地對腔體內進行排氣。本發(fā)明的旋轉清洗裝置具有圓盤形狀的保持工作臺，所述保持工作臺用于保持工件；旋轉部，所述旋轉部使所述保持工作臺以鉛直方向為旋轉軸旋轉；腔體，所述腔體用于收納所述保持工作臺，并且所述腔體的上表面開口 ；以及管道，所述管道將氣體從所述腔體內排出，所述旋轉清洗裝置的特征在于，該旋轉清洗裝置具有葉片，所述葉片形成于所述保持工作臺的外周側面，在通過所述旋轉部使所述保持工作臺旋轉時，所述葉片同時旋轉， 并產生沿著所述保持工作臺的外周周圍的空氣的氣流以向所述管道進行引導。根據(jù)本發(fā)明，能夠通過與保持工作臺一起旋轉的葉片來在保持工作臺的外周周圍產生沿著該外周周圍的空氣的氣流，能夠將霧隨著該空氣的氣流引導至管道。由此，即使是腔體內的位于遠離管道的位置的霧也能夠被運到管道側。本發(fā)明所稱工件并沒有特別限定，例如可以列舉出由硅、砷化鎵(GaAs)、碳化硅 (SiC)等構成的半導體晶片、用于安裝芯片而設于晶片的背面的DAF(Die Attach Film，芯片貼裝薄膜)等粘接部件、半導體產品的封裝體、陶瓷或玻璃、藍寶石(Al2O3)類或者硅類的無機材料基板、控制驅動液晶顯示裝置的LCD驅動器等各種電子部件、以及要求微米級的加工位置精度的各種加工材料等。根據(jù)本發(fā)明，起到了如下效果提供一種旋轉清洗裝置，即使是腔體內的位于遠離管道的位置的霧也能夠被運到管道側，因此能夠比以往高效地對腔體內進行排氣。


圖I是本發(fā)明的一個實施方式涉及的旋轉清洗裝置的縱剖視圖。
圖2是沿圖I的II-II箭頭觀察的剖視圖。
圖3是沿圖I的III-III箭頭觀察的剖視圖(未示出閘板)。
圖4是沿圖I的VI-VI箭頭觀察的剖視圖，其示出了閘板進入到腔體內的狀態(tài)。
圖5是閘板后退的狀態(tài)下的沿圖I的VI-VI箭頭觀察的剖視圖。
標號說明
I 旋轉清洗裝置；
10:保持工作臺；
12:保持工作臺的外周側面；
13:葉片;
20:旋轉部;
30:噴嘴;
40:腔體;
46:腔體的上表面開口 ；
50:管道;
C 清洗液；
W :工件。
具體實施方式
下面，參考

本發(fā)明涉及的一個實施方式。
圖I和圖2示出了對實施過預定的加工的半導體晶片等圓板狀的工件W進行清洗
的一個實施方式的旋轉清洗裝置。該旋轉清洗裝置I為未圖示的加工裝置所具備，或者在單獨的狀態(tài)下使用。作為對工件W實施的加工，例如可以列舉出通過由切削刀具實現(xiàn)的切削或激光光線照射而分割工件W的分割加工、由擴張實現(xiàn)的分割加工、由激光光線照射實現(xiàn)的開孔加工、磨削加工、研磨加工等。旋轉清洗裝置的結構本實施方式的旋轉清洗裝置I具備圓盤形狀的保持工作臺10，其用于保持工件 W ;旋轉部20，其使保持工作臺10以鉛直方向為旋轉軸旋轉；噴嘴30，其向工件W供給清洗液和干燥空氣；有底圓筒狀的腔體40，其用于收納保持工作臺10和噴嘴30，并且該腔體40 的上表面開口 ；以及管道50，其將氣體從腔體40內排出。腔體40具有圓筒狀的側壁部41和使側壁部41的下表面開口封閉的底板部42，并且該腔體40由未圖示的支承部件支承成側壁部41的軸心沿著鉛直方向的狀態(tài)。在側壁部 41的下端部經(jīng)由臺階部44形成有小徑部45，所述臺階部44具有水平的環(huán)狀的上表面43，在該小徑部45的下端設有底板部42。在腔體40的內部經(jīng)由旋轉部20呈同心狀地配設有保持工作臺10。保持工作臺10 為一般公知的真空卡盤式的工作臺，其使作為工件W的保持面11的水平的上表面產生負壓從而將工件W吸附并保持在該保持面11，并且該保持工作臺10被旋轉部20驅動旋轉。在保持工作臺10的外周側面12沿周向隔開等間隔地形成有多個葉片13。這些葉片13為具有與保持工作臺10的厚度對應的縱向尺寸和恰當?shù)臋M向尺寸的矩形形狀的板片，并且這些葉片13以沿保持工作臺10的徑向延伸的方式整體呈放射狀地形成。驅動保持工作臺10旋轉的旋轉部20由旋轉軸21和使該旋轉軸21旋轉的馬達22 構成。馬達22固定在腔體40的底板部42的下表面，旋轉軸21貫穿底板部42并向鉛直上方延伸，保持工作臺10的下表面的中心固定在該旋轉軸21的上端。此外，旋轉部20的旋轉軸21為能夠伸縮的結構，并且形成為借助未圖示的氣缸等伸縮機構而伸縮。如圖I所示，保持工作臺10隨著旋轉軸21的伸縮而在腔體40內的靠近腔體40的上表面開口 46的交接位置(以雙點劃線示出)和下部的清洗位置(以實線示出)這兩個位置之間升降。腔體40的上表面開口 46形成為通過未圖示的罩而開閉。在腔體40內配設有噴嘴30，所述噴嘴30向保持于保持工作臺10的保持面11上的工件W的上表面噴出并供給清洗液C。如圖I和圖3所示，噴嘴30通過在沿著腔體40的側壁部41的內表面彎曲的配管部31的末端設置向下噴出清洗液C的噴出部32而形成，并且該噴嘴30被支承成能夠在定位于清洗位置的保持工作臺10的上方以配管部31的基部為旋轉軸水平回轉。另外，在圖3中，為了使噴嘴30的結構明確而省略了后述的閘板60的圖示。如圖3所示，噴嘴30形成為在噴出位置(以實線示出)和退避位置(以雙點劃線示出)之間回轉，所述噴出位置為將噴出部32定位于保持工作臺10的中心的上方的位置， 所述退避位置為噴出部32靠近側壁部41的內表面的位置。利用該噴嘴30，通過使其在噴出位置和退避位置之間往復回轉并同時從噴出部32噴出清洗液，從而向保持于保持工作臺10并旋轉的工件W的上表面整個面均勻地噴出清洗液。此外，也從噴嘴30噴出干燥空氣，將該噴嘴30形成為能夠切換清洗液和干燥空氣的供給。在噴嘴30定位于退避位置的狀態(tài)下，保持工作臺10形成為能夠在清洗位置和交接位置之間升降而不與噴嘴30干涉。如圖I所示，在腔體40的底板部42設有排水口 47， 該排水口 47用于將清洗液C的廢液引導到外部并排出到預定的處理設備。另外，清洗液C 優(yōu)選采用純水或者為了防止靜電而加入了 CO2的純水。如圖I所示，在腔體40的側壁部41的下部形成有排氣口 48，在該排氣口 48設置有管道50。管道50水平且與側壁部41的切線方向平行地延伸。管道50延伸至未圖示的預定的處理設備為止，在管道50的中途或者在該處理設備裝配有未圖示的排氣扇，所述排氣扇抽吸腔體40內的空氣以使其流入至管道50。設有管道50的排氣口 48的高度位置形成為與保持工作臺10的清洗位置的高度位置大致相同。在腔體40的側壁部41設有多個閘板60，所述多個閘板60沿側壁部41的徑向移動并相對于腔體40內同步地進退。如圖4所示，閘板60為沿側壁部41的周向形成為大致圓弧狀的板狀部件。如圖I所示，各閘板60形成為插入到形成于側壁部41的狹縫411中的狀態(tài)，并且各閘板60通過氣缸等進退機構61而在圖4所示的進入到腔體40內的進入位置和圖5所示的退避到比葉片13靠外側的位置而打開的退避位置之間往復移動。閘板60 的高度位置被設定在排氣口 48與噴嘴30之間。當閘板60定位于進入位置時，如圖I所示，通過閘板60、臺階部44的上表面43以及側壁部41的內表面在腔體40內形成沿著周向的槽狀空間49。該槽狀空間49形成于保持工作臺10的外周側面12的周圍，并且形成為在保持工作臺10的外周側面12形成的葉片13的末端側進入槽狀空間49。與管道50連通的排氣口 48向槽狀空間49開口。當閘板60從進入位置后退并定位于退避位置時，保持工作臺10能夠在清洗位置和交接位置之間升降而不與閘板60干涉。旋轉清洗裝置的動作以及作用效果以上為本實施方式的旋轉清洗裝置I的結構，接下來對通過該裝置I來清洗工件 W的動作以及作用效果進行說明。首先，使保持工作臺10上升并定位于交接位置，打開上述罩并從腔體40的上表面開口 46將工件W載置于保持工作臺10的保持面11，并且將工件W吸附并保持于保持面11。 在使保持工作臺10上升時，噴嘴30和閘板60定位于不與保持工作臺10干涉的退避位置。接著，使保持了工件W的保持工作臺10下降并定位于清洗位置。接下來，使閘板 60進入腔體40內并定位于圖I和圖4所示的進入位置。此外，關閉上述罩，并且使上述排氣扇運轉，將腔體40內的空氣經(jīng)管道50排出到外部。由此，完成了清洗的準備，接著，使保持工作臺10向圖2的箭頭R方向以例如800rpm左右的速度旋轉，并且在使噴嘴30往復回轉的同時從該噴嘴30的噴出部32向下方噴出清洗液C。由此，向工件W的上表面整個面均勻地供給清洗液C，利用清洗液C沖洗附著于工件W的污染成分(例如切削屑或磨削屑)。在經(jīng)過預定的清洗時間后停止清洗液C的供給，使保持工作臺10的旋轉繼續(xù)，從而利用離心力甩掉附著于工件W的清洗液C，并且從往復回轉著的噴嘴30的噴出部32噴出干燥空氣，使工件W干燥。在該干燥過程中，可以使保持工作臺10的旋轉速度上升至例如 3000rpm左右以便迅速地進行干燥。在經(jīng)過預定的干燥時間后停止保持工作臺10的旋轉。接著，使噴嘴30和閘板60 回到退避位置，使保持工作臺10上升至交接位置為止。此后，解除工件W相對于保持面11 的保持，從保持工作臺10拿起工件W并轉移至下一工序。以上是搬入工件W并進行清洗、搬出這樣的旋轉清洗裝置I的一次循環(huán)。不過，在工件W的清洗和干燥的過程中，由于向旋轉的工件W供給清洗液C，因而會從工件W產生含有污染成分的霧。該霧不會從腔體40漏出，而是通過來自管道50的空氣抽吸作用從排氣口 48經(jīng)管道50排出到外部。此時，在以往會發(fā)生這樣的問題飄在遠離排氣口 48的部位的霧難以到達排氣口 48從而無法被高效地排出。但是在本實施方式中，通過與保持工作臺10 —起旋轉的葉片 13而在保持工作臺10的外周周圍產生沿著外周側面12的空氣的氣流，霧隨著該空氣的氣流而到達排氣口 48并被引導至管道50。由此，腔體40內的位于遠離管道50的位置的霧也被運到管道50側，因此與以往相比能夠高效地對腔體40內進行排氣。特別地，在本實施方式中，通過使閘板60進入腔體40內而在保持工作臺10的外周側面12的周圍形成槽狀空間49，由此，由葉片13產生的、保持工作臺10的外周周圍的空氣向上下方向逃逸的情況受到抑制，所述空氣在槽狀空間49內流動。由此，有效地產生了在保持工作臺10的外周周圍產生的空氣的氣流，其結果是，更多的空氣被運到排氣口 48， 實現(xiàn)了排氣性的進一步提高。
權利要求
1.一種旋轉清洗裝置，其具有圓盤形狀的保持工作臺，所述保持工作臺用于保持工件；旋轉部，所述旋轉部使所述保持工作臺以鉛直方向為旋轉軸旋轉；腔體，所述腔體用于收納所述保持工作臺，并且所述腔體的上表面開口 ；以及管道，所述管道將氣體從所述腔體內排出，所述旋轉清洗裝置的特征在于，該旋轉清洗裝置具有葉片，所述葉片形成于所述保持工作臺的外周側面，在通過所述旋轉部使所述保持工作臺旋轉時，所述葉片同時旋轉，并產生沿著所述保持工作臺的外周周圍的空氣的氣流以向所述管道進行引導。
全文摘要
本發(fā)明提供一種旋轉清洗裝置，即使是腔體內的位于遠離管道的位置的霧也能夠被運到管道側，能夠比以往高效地對腔體內進行排氣。該旋轉清洗裝置在腔體(40)內的保持工作臺(10)上保持工件(W)，在使保持工作臺(10)旋轉的狀態(tài)下向工件(W)的上表面供給清洗液(C)，其中，通過形成于保持工作臺(10)的外周側面(12)的多個葉片(13)來在保持工作臺(10)的外周周圍產生沿著該外周周圍的空氣的氣流，通過該空氣的氣流來將腔體(40)內的位于管道(50)相反側的霧也引導到管道(50)側。
文檔編號B08B3/02GK102580938SQ201210001890
公開日2012年7月18日 申請日期2012年1月5日 優(yōu)先權日2011年1月5日
發(fā)明者大谷秀明 申請人:株式會社迪思科