專利名稱：用于表面處理器具的清潔器頭的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用于表面處理器具的清潔器頭。在其優(yōu)選實施例中，本發(fā)明涉及用于真空清潔器具的清潔器頭。
背景技術：
真空吸塵器通常被提供多個工 具用于處理特定類型的清潔。工具包括用于一般地板清潔的清潔器頭。清潔器頭包括主體，其與地面接合。主體具有包括吸口的下表面，在使用中臟物和灰塵通過該吸口被從地面吸入清潔器頭。對于主體有利的是被可樞轉地連接至清潔器頭的其余部分以使得當清潔器頭被在地面上操縱時吸口可保持緊鄰地面。例如，JP 11-155786描述了ー種清潔器頭，其具有主體和連接至主體用于傳送氣流離開主體的導管組件。主體包括位于主體的下表面的吸口，其且位于抽吸平面中。導管組件可連接至真空吸塵器的棒，其具有手柄，該手柄由用戶操作以在地面上操縱地板工具。導管組件包括大致管狀前導管，其具有圓形空氣入ロ，該入口被連接至主體的后部以繞第ー軸線旋轉，該第一軸線從主體平行于抽吸平面向后延伸且穿過前導管的孔?？諝獬謦硌厍皩Ч艿纳媳砻鎻闹胁肯蚯皩Ч艿暮蟛垦由臁Ч芙M件還包括后導管，其被連接至前導管以相當于前導管繞第二軸線樞轉運動，該第二軸線垂直于第一軸線且平行于抽吸平面。相對凹部被設置在鄰近空氣出口的前部的前導管的內表面上用于接收后導管的前部的上表面上的軸的端部。通過接收在凹部內的軸的端部，后導管可在前導管內且繞第二軸線在抬高位置和下降位置之間運動。通過前導管繞第一軸線的旋轉與后導管繞第二軸線的旋轉的組合，導管組件能采取相對于主體的不同配置以便于主體在地面上、以及在家具物件之間和之下的操縱。但是，由于前和后導管之間的樞轉連接部位于穿過導管的氣流路徑之中，存在繞該連接部空氣泄漏的風險，其降低了清潔器頭的拾取性能。氣流路徑內的這種連接部的存在可干擾穿過導管的空氣流動，其可產生湍流和噪音。

發(fā)明內容
在第一方面本發(fā)明提供一種用于表面處理器具的清潔器頭，包括主體，具有位于主體的后部的流體端ロ ；前導管，包括前區(qū)段、后肘狀區(qū)段和至少ー個第一連接器，前區(qū)段連接至主體用于相對于該主體繞第一軸線旋轉的前區(qū)段，該第一軸線從主體向后且穿過流體端口和前區(qū)段延伸；以及后導管，包括前肘狀區(qū)段、后區(qū)段和至少ー個第二連接器，該前肘狀區(qū)段能在前導管的后肘狀區(qū)段內運動或在后肘狀區(qū)段周圍運動，該至少ー個第二連接器被連接至所述至少ー個第一連接器以使得后導管能相對于前導管繞第二軸線樞轉，該第二軸線垂直于第一軸線且位于穿過前導管和后導管的流體流動路徑之外。
由于用于將前導管和后導管連接在一起的連接件位于穿過導管的流體流動路徑之外，連接件可具有任意期望的配置而不要求任何密封件以防止流體在連接件之間泄漏。在優(yōu)選實施例中，前導管包括ー對臂，其朝向后導管延伸，且后導管包括軸，其被接收在臂之間。螺栓、銷或其它連接構件可被提供用于將軸連接至臂，從而軸可相對于臂旋轉。替換地，連接件可通過卡扣配合連接而被連接在一起。相對簡單的密封件于是可被設置在肘狀區(qū)段之間以防止流體在肘狀區(qū)段之間泄漏。前導管的后區(qū)段優(yōu)選地被插入后導管的前區(qū)段中。由于前導管被插入后導管中，至少后導管的前區(qū)段比前導管的后區(qū)段具有更大的橫截面積。在優(yōu)選實施例中，清潔器頭被用作清潔器頭的一部分，其中流體從前導管流至后導管。當流體流進入后導管時，流體流不撞擊在后導管的前端上，否則其將干擾流體流穿過導管且產生噪音，而是替代地穿入具有更大橫截面積的區(qū)域中。肘狀區(qū)段優(yōu)選地具有實質上相同的曲率，從而當后導管被相對于前導管運動時密封可被容易地保持在肘狀區(qū)段之間。例如，當后導管被相對于前導管樞轉時，環(huán)形密封件可位于前導管的后肘狀區(qū)段的外表面上以接合后導管的前肘狀區(qū)段的內表面。替換地，密封構件可被布置在前肘狀區(qū)段的內表面上，以接合后肘狀區(qū)段的外表面。后導管的前區(qū)段的 內表面優(yōu)選具有一直徑，其僅稍微大于前導管的后區(qū)段的外表面，從而當后導管被樞轉時前導管的后區(qū)段可引導后導管的前區(qū)段相對于其的運動且后導管相對于前導管具有最小擺動以最小化流體在導管之間泄漏的風險。優(yōu)選地，當后導管相對于前導管樞轉時后導管的前肘狀區(qū)段的內表面在前導管的后肘狀區(qū)段的外表面上滑動。當后導管在抬高位置和下降位置之間相對于前導管樞轉時，后導管的前肘狀區(qū)段的前端優(yōu)選在前導管的后肘狀區(qū)段的后端和前端之間運動。在這種情況下，肘狀區(qū)段的彎曲可確定后區(qū)段可相對于前區(qū)段樞轉的范圍。每個肘狀區(qū)段的彎曲優(yōu)選地是至少60°，且在優(yōu)選實施例中每個肘狀區(qū)段具有大約90°的彎曲。當清潔器頭位于基本上水平表面上時，當后導管相對于前導管樞轉時，后導管的后區(qū)段則可在相對水平位置和相對垂直位置之間運動。當后導管處于相對于前導管的下降位置中時，前導管的前區(qū)段優(yōu)選地也是水平的。這可使得當后導管處于下降位置中時，包括前和后導管的導管組件具有相對低的姿態(tài)。每個導管優(yōu)選地包括彎曲中間段，其位于前區(qū)段和后區(qū)段之間，每個中間段優(yōu)選地具有從40°至50°范圍的彎曲，以允許導管組件具有低姿。每個導管可包括多個管或管子，其被連接在一起且每個都提供導管的相應段。替換地，每個導管可為單個管或管子，其提供該導管的不同段。清潔器頭優(yōu)選地包括支架用于將前導管支撐在表面上。支架優(yōu)選地被連接至前導管用干與其一起繞第一軸線旋轉。支架可繞前導管，且繞用于將前和后導管連接在一起的連接器延伸，以阻止灰塵進入連接器之間。支架優(yōu)選地包括本體，和由該本體支撐的ー對輪子。后導管和支架之間的接觸可限制后導管運動離開下降位置。本體可包括凹陷部分用于接收繞第二軸線樞轉運動的后導管，從而支架不阻止后導管的運動直至后導管到達，或運動超過，期望的抬高位置。這可允許支架被定位為鄰近后導管，且由此允許導管組件相對緊湊以最小化清潔器頭的長度。清潔器頭可包括屏蔽構件，用于在后導管不處于抬高位置中時阻止灰塵通過凹陷進入支架的本體。當后導管在抬高和下降位置之間樞轉吋，屏蔽構件優(yōu)選地與后導管一起運動。例如，屏蔽構件可被連接至后導管。替換地，屏蔽構件可被可樞轉地連接至支架的本體，且可被朝向后導管偏壓。屏蔽構件可繞第三軸線樞轉，該第三軸線垂直地與第一軸線相交。屏蔽構件優(yōu)選地被布置在本體的凹陷部分和后導管之間。屏蔽構件和本體的凹陷部分可每個都具有彎曲外表面，屏蔽構件的外表面的曲率優(yōu)選地與本體的凹陷部分的曲率基本上相同。支架的輪子優(yōu)選地為穹頂形，且優(yōu)選地具有大致球形曲率。輪子的外表面的曲率優(yōu)選地與本體的凹陷部分的外表面的曲率基本上相同，從而本體的外表面和支架的輪子位于共用球的表面上。屏蔽構件相對于支架的主體樞轉所繞的第三軸線優(yōu)選地穿過該球的中心。當屏蔽構件隨著后導管運動離開抬高位置而露出吋，屏蔽構件和支架的本體的類似曲率意味著屏蔽構件的出現(xiàn)不會不適當?shù)馗蓴_支架的球形外觀。清潔器頭可被用于任意清潔或表面處理器具，其傳送流體至和/或離開ー表面，例如濕式/干式真空吸塵器，拋光/打蠟機和地毯清洗機。
在第二方面，本發(fā)明提供一種用于表面處理器具的清潔器頭的導管組件，該導管組件包括前導管、可樞轉地連接至前導管以在抬高位置和下降位置之間運動的后導管、和用于支持前導管的支架，該支架包括本體和可樞轉地連接至該本體的ー對輪子，該本體具有凹陷部分用于在后導管朝向抬高位置運動時接收后導管，該支架還包括屏蔽構件用于覆蓋當后導管運動離開抬高位置時在后導管和本體的凹陷部分之間形成的間隙。結合本發(fā)明的第一方面描述的特征可同等地應用于本發(fā)明的第二方面，反之亦然。


參考附圖且僅通過示例的方式描述本發(fā)明的實施例，在附圖中圖I是清潔器頭的分解視圖；圖2是清潔器頭的頂部視圖，該清潔器頭的后導管處于下降位置中；圖3是清潔器頭的側視圖，后導管處于下降位置中，且清潔器頭的支架被去除以露出清潔器頭的前導管；圖4是沿圖2中的線A-A截取的截面?zhèn)纫晥D；圖5是清潔器頭的頂部視圖，后導管處于抬高位置中；圖6是清潔器頭的側視圖，后導管處于抬高位置中，且清潔器頭的支架被去除以露出清潔器頭的前導管；以及圖7是沿圖5中的線B-B截取的截面?zhèn)纫晥D。
具體實施例方式圖I至4示出了用于表面處理器具的清潔器頭的實施例。在該實施例中，清潔器頭10被設置為可連接至筒式真空清潔器具的棒或軟管。清潔器頭10包括主體12和連接至該主體12的導管組件14。主體12包括從主體12的后區(qū)段20的相對端部向前延伸的大致平行的側壁16、18，和位于主體12的側壁16、18之間的活動區(qū)段22。在該實施例中，活動區(qū)段22可旋轉地連接至主體12用于繞軸線旋轉，該軸線在主體12的側壁16、18之間大致正交地延伸?；顒訁^(qū)段22包括上壁24、下板或底板26、和把底板26連接至上壁24的兩個側壁28。側壁28被定位在主體12的側壁16、18之間，每個側壁28被定位為鄰近且基本上平行于主體12的側壁16、18中的相應ー個。在使用中，底板26面對要被清潔的地面，并接合鋪地毪地面的表面。特別參考圖3和4，底板26包括位于吸口 34的相對側上的前導區(qū)段(leadingsection) 30和尾部區(qū)段(trailing section) 32,攜帶臟物的空氣流通過該吸口 34進入清潔器頭10。吸口 34是大致矩形。底板26包括位于吸口 34的相對長側邊上的兩個工作邊緣36、38，用于在清潔器頭10被在鋪地毯地面上操縱時攪動該表面的纖維。為了防止在清潔器頭10被在硬地面表面上操縱時工作邊緣36、38刮擦或以其它方式在該地面表面上形成痕跡，清潔器頭10包括表面接合支撐構件，其用于把工作邊緣36、38從硬地面隔開。在 該實施例中，清潔器頭10包括多個表面接合支撐構件，其每個都是滾動元件的形式，優(yōu)選地為輪子。第一對輪子40被可旋轉地安裝在底板26的前導區(qū)段30中形成的一對凹部中，且第二對輪子42被可旋轉地安裝在底板26的尾區(qū)段32中形成的一對凹部中。在使用過程中，壓カ差產生于穿過清潔器頭10的空氣和外部環(huán)境之間。該壓カ差產生力，該カ向下朝向地面表面作用在清潔器頭10上。當清潔器頭10被定位在地毯地面上時，輪子40、42在清潔器頭10的重量和向下作用在清潔器頭10上的力的作用下被壓入鋪地毯地面表面的纖維中。輪子40、42的厚度被選擇為使得輪子40、42容易地沒入鋪地毯地面表面以至少使底板26的工作邊緣36、38與地面表面的纖維接觸。當清潔器頭10被用戶在鋪地毯地面表面上向后拉時，對于用戶存在把清潔器頭10的主體12的后區(qū)段20抬起的傾向。但是，活動區(qū)段22至主體12的可旋轉連接允許底板26相對于主體12樞轉以保持工作邊緣36、38接觸地面表面。通過位于活動區(qū)段22上的向上朝向的表面44與位于主體12的側壁16、18的前部附近的向下朝向表面46的鄰接，活動區(qū)段22相對于主體12的順時針旋轉受到限制。通過底板26的尾部區(qū)段32的上表面48與主體12的側壁16、18的底表面50的鄰接，活動區(qū)段22相對于主體12的逆時針旋轉受到限制。清潔器頭10還包括攪動器組件，用于攪動位于地面上的臟物和灰塵。在該實例中，攪動器組件包括可旋轉刷條60，其被安裝在主體12的活動區(qū)段22的攪動器腔室62內。攪動器腔室62部分地由活動區(qū)段22的上壁24限定。上壁24優(yōu)選地由透明材料形成，以允許用戶看見是否攪動器腔室62已被阻塞。刷條60由馬達(未示出)驅動，該馬達位于主體12的后區(qū)段20中。馬達可被電連接至位于導管組件14內的端子，以與位于清潔器具的管內的隨形端子連接，以使得電能被供應至馬達。替換地，馬達可由位于主體12的后區(qū)段20中的電池供電。刷條60被驅動機構連接至馬達，該驅動機構至少部分地位于驅動機構殼體66內使得驅動機構被與穿過抽吸通道的空氣隔離。刷條60的一端被連接至驅動機構以使得刷條60能被馬達驅動，而刷條60的另一端由端帽(未示出)可旋轉地支撐，該端帽可移除地連接至主體12的側壁18。驅動機構包括驅動帶輪和從動帶輪，驅動帶輪被連接至由驅動馬達旋轉的驅動軸，以及從動帶輪通過帶連接至驅動帶輪。驅動卡爪被安裝在從動帶輪的ー側上，用于連接至刷條60。
刷條60包括細長本體70。刷條60通過驅動機構而被繞細長本體70的縱向軸線旋轉。細長本體70支撐兩種不同類型的鬃毛用于當刷條60被馬達旋轉時從地面攪動臟物和灰塵。當刷條60被馬達旋轉時，不同類型的鬃毛的每個從底板26中的吸口 36突出各自的不同的量。在該實施例中，刷條60包括較短的優(yōu)選地較硬的鬃毛72，和較長的優(yōu)選地較軟的鬃毛74。較短鬃毛72被布置為沿本體70延伸的兩個成角度地間隔開的螺旋排。在每排內，較短鬃毛72被布置為ー系列沿該排規(guī)律地間隔開的簇或叢。較長鬃毛被布置為兩個連續(xù)的螺旋排，每排被與較短鬃毛72形成的簇的排成角度地間隔開。較短鬃毛72的長度被選擇為使得，當刷條60被旋轉時，這些鬃毛72的末端向外突出超過包含吸口 34的第一平面，但是不超過包含輪子40、42的最下端的第二平面。較長鬃毛74從本體70徑向向外突出超過較短鬃毛72，從而在刷條60的旋轉過程中較長鬃毛74突出超過第一平面和第二平面二者。當清潔器頭10被定位在地毯地面上時，輪子40、42沒入地毯的纖維之間，從而底板26的底面接合地毯的纖維。由于在刷條60旋轉時較短鬃毛72和較長鬃毛74 二者都從吸口 26突出，兩種不同類型的鬃毛能從地面攪動臟物和灰塵。當通過清潔器頭10被連接至的真空清潔器具的風扇單元的操作，氣流被產生并通過清潔器頭10時，臟物和灰塵被夾帶在氣流中且被通過吸口 34傳送至清潔器頭10中。 當清潔器頭10被從地毯地面移動至硬地面上時，底板26通過輪子40、42而與硬地面間隔開。由于較短鬃毛72的末端不突出至包含輪子40、42的最下端的平面之下，這些鬃毛不接觸硬地面，由此防止這些鬃毛刮擦或以其它方式劃傷硬地面。但是，由于較長鬃毛74突出超過該平面，隨著刷條60的旋轉，這些鬃毛接合且掃過硬地面以將臟物和灰塵從地面驅走以被夾帶在氣流中。吸ロ 34提供開ロ，通過刷條60的旋轉鬃毛72、74，臟物、灰塵顆粒和其它碎屑通過該開ロ被掃入攪動器腔室62。在該例中，馬達和驅動機構被布置為沿一方向旋轉刷條，使得鬃毛72、54向后掃臟物和灰塵，即越過后工作邊緣38，進入攪動器腔室62。攪動器腔室62由上壁24的彎曲前區(qū)段76、底板26、側壁28和連接至上壁24的彎曲內壁78界定。內壁78和上壁24的前區(qū)段76是圓柱形的段的形式，其與刷條60的旋轉軸線大致共軸線。內壁78的下端從底板26的上表面80間隔開，以限定攪動器腔室62的灰塵出ロ 82。在該實例中，內壁78的下端是大致直的，且基本上延伸攪動器腔室62的整個長度，從而灰塵出ロ 82的高度沿攪動器腔室62的長度基本上恒定。排出端ロ 84被形成在上壁24的后區(qū)段85中。在該實例中，排出端ロ 84位于側壁28之間的中途處?；覊m通道86在攪動器腔室62的灰塵出口 82和排出端ロ 84之間延イ申，以將灰塵和碎屑傳送至排出端ロ 84?；覊m通道86大致為彎曲漏斗形，其具有較寬的嘴部和較窄的出口?；覊m通道86限定了氣流路徑的部分，該氣流路徑延伸穿過清潔器頭10，且空氣被清潔器頭所附連至的真空清潔器具的馬達和風扇單元沿該路徑抽吸。氣流路徑從吸口 34延伸，穿過攪動器腔室62的灰塵出口 82且穿過灰塵通道86至排出端ロ 84。主體12的后區(qū)段20包括從其中心穿過的空氣通道88，以從主體12的活動區(qū)段22傳送氣流至導管組件14?？諝馔ǖ?8包括入口端ロ 90，用于從排出端ロ 84接收氣流，和出ロ端ロ 92。密封構件94位于主體12的活動區(qū)段22和后區(qū)段20之間以在活動區(qū)段22相對于后區(qū)段20樞轉時保持排出端ロ 84和入口端ロ 90之間的氣密密封。出口端ロ 92是大致圓形，且被取向為使得當清潔器頭10位于硬地面上，且底板26的尾部區(qū)段32的上表面48鄰接主體12的側壁16、18的底表面50時，出口端ロ 92基本上垂直于包含輪子40、42的最下端的第二平面。導管組件14被連接至主體12的后區(qū)段20。導管組件14包括前導管100和后導管102，前導管100用于接收來自主體12的出口端ロ 92的氣流，導管102用于接收來自前導管100的氣流。后導管102能被連接至用于接收來自導管組件14的氣流的真空清潔器具的棒和軟管。前導管100包括前區(qū)段104，其連接至主體12。前區(qū)段104是大致圓柱形。前區(qū)段104被插入出ロ端ロ 92，且被連接至出ロ端ロ 92，例如通過C形卡子或卡扣連接，從而前導管100能相對于主體12旋轉。環(huán)形密封件106位于前區(qū)段104和出口端ロ 92之間，以保持主體12和導管組件14之間的氣密密封。前導管100能相對于主體12繞第一軸線A旋轉，如圖2和4所示，該第一軸線A從主體12向后延伸且中心地穿過出口端ロ 92和前導 管100的前區(qū)段104。第一軸線A基本上垂直于刷條60的旋轉軸線。 前導管100還包括后肘狀區(qū)段108，氣流從該段進入后導管102。后肘狀區(qū)段108具有大致90°的彎曲，且繞第二軸線B延伸，如圖3和4所示。第二軸線B垂直于第一軸線A。后肘狀區(qū)段108通過彎曲的中間段110而被連接至前區(qū)段104。中間段110具有小于后肘狀區(qū)段108的彎曲，且在該實施例中彎曲的角度是約40°。后導管102包括前肘狀區(qū)段112，前導管100的后肘狀區(qū)段108被插入該前肘狀區(qū)段。肘狀區(qū)段108、112優(yōu)選地具有基本上相同的曲率，且由此前肘狀區(qū)段112具有大致90°的彎曲。前肘狀區(qū)段112也繞第二軸線B延伸，如圖3和4所示。環(huán)形密封件114位于前導管100的后肘狀區(qū)段108的外周周圍，用干與后導管102的前肘狀區(qū)段112的內表面形成氣密密封。后導管還包括后區(qū)段116，其能被連接至真空清潔器具的棒或軟管。后區(qū)段116是大致圓柱形。前肘狀區(qū)段112通過彎曲的中間段118而被連接至后區(qū)段116。如上，中間段118具有小于前肘狀區(qū)段112的彎曲，且在該實施例中彎曲的角度是約50°。后導管102被連接至前導管100,從而后導管102可相對于前導管100樞轉。后導管102能相對于前導管100在下降位置(如圖2至4所示)和抬高位置(如圖5-7所示)之間運動，在該下降位置中后導管102的后區(qū)段116大致平行于前導管100的前區(qū)段104，在該抬高位置中后導管102的后區(qū)段116大致垂直于前導管100的前區(qū)段104。當后導管102處于下降位置中吋，前導管100的后肘狀區(qū)段108基本上完全被后導管102的前肘狀區(qū)段112包圍。在后導管102的下降位置中，后導管102的前肘狀區(qū)段112的前端抵靠前導管100的中間段110的外壁。后導管102被連接至前導管100,從而后導管102可相對于前導管100繞第二軸線B樞轉。在該示例中，前導管100包括ー對臂120，其從前導管100的中間段110向后朝向后導管102延伸。后導管102包括軸122，其被接收在臂120之間，且被插入臂120中形成的孔的銷或桿(未示出)固定至臂120，從而軸122能繞第二軸線B旋轉。當然，前導管100和后導管102之間的連接可被顛倒，從而臂120位于后導管120而軸122位于前導管100 上。前導管100和后導管102之間的樞轉連接由此位于穿過導管組件14的氣流路徑的外部。這意味著前導管100和后導管102之間的連接可被以任意期望的方式進行，而不用管該連接的部件之間或周圍的任何空氣泄漏。當后導管102從下降位置運動至抬高位置時，后導管102的前肘狀區(qū)段112的內表面在前導管100的后肘狀區(qū)段108的外表面上滑動，其中前和后導管100、102之間的密封由位于前導管100的周邊周圍的環(huán)形密封件114保持。導管組件14還包括支架，用于在地面上支撐導管組件14。支架被連接至前導管100，從而當前導管繞第一軸線A旋轉時該 支架隨前導管100 —起旋轉。支架繞前導管100延伸，其被連接至前導管100，例如通過卡扣連接，其將支架相對于前導管100保持在固定的角度位置中。支架包括本體124，和ー對輪子，其由本體124支撐以相對于本體124旋轉。在該實施例中，每個輪子126都為穹頂形，且繞各自的旋轉軸線旋轉。旋轉軸線是不平行的且位于公共平面內，該平面平行于主體12的出口端ロ 92。旋轉軸線相對于第二軸線B傾斜，從而輪子126在本體124之下會聚以接合地面。輪子126具有大致球形曲率，且被布置為使得輪子126的表面與公共球一致。第一軸線A穿過該球的中心，使得當導管組件14繞第一軸線A旋轉時球的表面保持與地面接觸。支架的本體124的上表面具有類似于輪子126的曲率，從而本體124的該表面也與該球一致。如圖7所示，后導管102的中間構件118在支架的本體124上的抵靠沿ー個方向限制了后導管102相對于前導管100的樞轉運動。為了允許后導管102被抬高至圖5至7中所示的位置，同時允許支架位于后導管102附近，支架的本體124包括凹陷部分128，其位于后導管102附近。當后導管102被朝向抬高位置樞轉時，后導管102運動進入由支架的本體124限定的凹部中。該凹部由此允許后導管102自由地朝向圖5和7中所示的抬高位置運動，且該凹部被設定形狀使得后導管102不抵靠支架直至后導管102的后區(qū)段116基本上垂直。為了在后導管102不處于抬高位置中時抑制灰塵通過該凹部進入支架的本體124中，支架包括屏蔽構件130，其被布置在本體124的凹陷部分128之下。屏蔽構件130被布置為覆蓋支架的本體124和后導管之間形成的間隙。屏蔽構件130被可樞轉地連接至本體124。如圖I所示，屏蔽構件130包括一對凸耳132，其每個都位于本體124的相應側表面中形成的孔134中，以允許屏蔽構件130繞第三軸線C樞轉，如圖2和4所示，該軸線穿過由本體124和輪子126限定的球的中心且垂直地與第一軸線A相交。屏蔽構件130被朝向后導管102偏壓。在該實施例中，扭カ彈簧(未示出)或其它弾性元件被設置在本體124和屏蔽構件130之間，用于將屏蔽構件130朝向后導管102促動。弾性元件的偏壓カ被選擇為使得弾性元件不過度地阻止后導管102相對于前導管100且由此相對于支架的樞轉運動。由于作用在屏蔽構件130上的偏壓力，當后導管在其抬高和下降位置之間樞轉時屏蔽構件130與后導管102 —起運動，以保持蓋住后導管102和支架的本體124之間的間隙。屏蔽構件130優(yōu)選地具有彎曲外表面，屏蔽構件130的該外表面的曲率與支架的本體124的上表面的曲率基本上相同。這可使得屏蔽構件130被定位為當后導管102處于其抬高位置中時緊位于本體124的上表面之下，且導致當由于后導管102被樞轉離開其抬高位置而屏蔽構件130被露出時對支架的外部球形外觀的最小干擾。
在使用中，后導管102的后區(qū)段116可被連接至真空清潔器具的棒。真空清潔器具被打開以操作風扇單元，其抽吸氣流穿過清潔器頭10的主體12和導管組件14。清潔器頭10位于地面上或其他要被處理的表面，且被利用該器具的棒在該表面上前后操縱。當清潔器頭10被前后操縱時，后導管102相對于前導管100繞第二軸線B樞轉，以使得清潔器頭10保持隨清潔表面的扁平姿態(tài)，且主體12的活動區(qū)段22相對于后區(qū)段20樞轉以保持底板26，或底板的輪子40、42與地面接觸。清潔器頭10的轉向是通過旋轉棒實現(xiàn)的，而該棒的旋轉導致導管組件14繞第一軸線A旋轉，從而清潔器頭10響應于清潔器具的棒的順時針或逆時針旋轉而向右或向左運動。當清潔器頭10被前后操縱時，支架的輪子126旋轉以對導管組件14提供滾動支撐。響應于清潔器頭10的轉向，前導管100和由此支架繞第一軸線A旋轉。當支架旋轉時，兩個輪子126中的ー個保持接觸地面且由此繼續(xù)給導管組件14提供滾動支撐。由于輪子 126的表面與公共球保持一致，該公共球中心與第一軸線A—致，輪子126繼續(xù)支撐前導管100于地面上相同高度，從而不會發(fā)生清潔器頭10的抬離且隨地面的扁平姿態(tài)得以保持。
權利要求
1.一種用于表面處理器具的清潔器頭，包括 主體，具有位于主體的后部的流體端ロ ； 前導管，包括前區(qū)段、后肘狀區(qū)段和至少ー個第一連接器，該前區(qū)段連接至主體用于相對于該主體繞第一軸線旋轉，該第一軸線從主體向后且穿過流體端口和前區(qū)段延伸；以及 后導管，包括前肘狀區(qū)段、后區(qū)段和至少ー個第二連接器，該前肘狀區(qū)段能在前導管的后肘狀區(qū)段內運動或在后肘狀區(qū)段周圍運動，該至少ー個第二連接器被連接至所述至少一個第一連接器以使得后導管能相對于前導管繞第二軸線樞轉，該第二軸線垂直于第一軸線且其位于穿過前導管和后導管的流體流動路徑之外。
2.如權利要求I所述的清潔器頭，其中，肘狀區(qū)段具有基本上相同的曲率。
3.如權利要求I所述的清潔器頭，其中前導管的后肘狀區(qū)段被插入后導管的前肘狀區(qū)段。
4.如權利要求3所述的清潔器頭，其中當后導管相對于前導管樞轉時后導管的前肘狀區(qū)段的內表面在前導管的后肘狀區(qū)段的外表面上滑動。
5.如權利要求I所述的清潔器頭，其中，每個肘狀區(qū)段具有大致90°的彎曲。
6.如權利要求I所述的清潔器頭，其中每個導管包括位于其前區(qū)段和后區(qū)段之間的彎曲的中間段。
7.如權利要求6所述的清潔器頭，其中每個中間段具有從40°至50°范圍的彎曲。
8.如權利要求I所述的清潔器頭，其中所述至少ー個第一連接器包括ー對臂，該臂朝向后導管延伸，且所述至少ー個第二連接器包括被接收在臂之間的軸。
9.如前述權利要求任一項所述的清潔器頭，包括用于在ー表面上支撐前導管的支架，該支架被連接至前導管以與其一起繞第一軸線旋轉。
10.如權利要求9所述的清潔器頭，其中，支架繞前導管延伸。
11.如權利要求9所述的清潔器頭，其中支架包括本體，和由該本體支撐的ー對輪子。
12.如權利要求11所述的清潔器頭，其中支架的本體包括凹陷部分用于接收繞第二軸線的樞轉運動的后導管。
13.如權利要求12所述的清潔器頭，包括布置在本體的凹陷部分和后導管之間的屏蔽構件。
14.如權利要求13所述的清潔器頭，其中，所述屏蔽構件被可樞轉地連接至本體。
15.如權利要求14所述的清潔器頭，其中所述屏蔽構件能繞第三軸線樞轉，該第三軸線垂直地與第一軸線相交。
16.如權利要求14所述的清潔器頭，其中，屏蔽構件被朝向后導管偏壓。
17.如權利要求13所述的清潔器頭，其中屏蔽構件和本體的凹陷部分每個都具有彎曲外表面。
18.如權利要求17所述的清潔器頭，其中屏蔽構件的外表面的曲率基本上與本體的凹陷部分的曲率相同。
19.如權利要求17所述的清潔器頭，其中輪子是穹頂形的。
20.如權利要求19所述的清潔器頭，其中，輪子具有大致球形曲率。
21.如權利要求20所述的清潔器頭，其中輪子的外表面的曲率基本上與本體的凹陷部分的外表面的曲率相同。
全文摘要
一種用于表面處理器具的清潔器頭包括主體，該主體具有位于主體的后部的流體出口端口；前導管，用于接收來自主體的出口端口的流體流；和后導管，用于接收來自前導管的流體流。前導管包括連接至主體用于相對于該主體繞第一軸線旋轉的前區(qū)段，該第一軸線從主體向后且中心地穿過前區(qū)段延伸，以及后肘狀區(qū)段和至少一個第一連接器。后導管包括前肘狀區(qū)段，前導管的后肘狀區(qū)段被插入該前肘狀區(qū)段，以及后區(qū)段和至少一個第二連接器，該至少一個第二連接器被連接至至少一個第一連接器以使得后導管能相對于前導管繞第二軸線樞轉，該第二軸線垂直于第一軸線且其位于穿過前導管和后導管的流體流動路徑之外。
文檔編號A47L9/04GK102648833SQ20121004826
公開日2012年8月29日 申請日期2012年2月28日 優(yōu)先權日2011年2月28日
發(fā)明者D.A.米靈頓, P.D.甘米克, S.R.迪姆比洛 申請人:戴森技術有限公司