專利名稱：蝕刻前用清潔機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種清潔機(jī)，特別是涉及ー種蝕刻前用清潔機(jī)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的蝕刻過程中，涂敷感光膠方法是將加工好的蝕刻片直接放入涂敷機(jī)的滾輪上，滾輪轉(zhuǎn)動后將感光膠直接涂敷在蝕刻片上，這種方法的主要缺點(diǎn)是直接加工好的蝕刻片表面通常存在加工屑和各類灰塵，如果將蝕刻片直接放入涂敷機(jī)的滾輪上，將感光膠直接涂敷在蝕刻片上，蝕刻片表面原有的加工屑和各類灰塵，就會同感光膠一起固著在蝕刻片表面上。這些加工屑和各類灰塵存在于感光膠中，影響感光膠的涂敷質(zhì)量，導(dǎo)致在蝕刻時出現(xiàn)各類蝕刻缺陷。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種可清除蝕刻片表面原有的加工屑和各類灰塵的蝕刻前用清潔機(jī)。本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為一種蝕刻前用清潔機(jī)，包括支架以及設(shè)置干支架上的滾輪，其特征在于所述滾輪包括呈軸向平行上下設(shè)置的上內(nèi)滾輪和下內(nèi)滾輪，并且上內(nèi)滾輪和下內(nèi)滾輪可繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)方向相反，所述上內(nèi)滾輪和下內(nèi)滾輪之間供蝕刻片通過，并且所述上內(nèi)滾輪和下內(nèi)滾輪的外表面具有粘性；所述上內(nèi)滾輪的上方和下內(nèi)滾輪的下方分別設(shè)有上外滾輪和下外滾輪，所述上外滾輪和上內(nèi)滾輪呈軸向平行設(shè)置，并且上外滾輪的外表面與上內(nèi)滾輪的外表面相互接觸，所述上外滾輪繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)，上外滾輪的旋轉(zhuǎn)方向與上內(nèi)滾輪的旋轉(zhuǎn)方向相反；所述下外滾輪和下內(nèi)滾輪呈軸向平行設(shè)置，所述下外滾輪和下內(nèi)滾輪的外表面相互接觸，并且下外滾輪繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)，所述下外滾輪的旋轉(zhuǎn)方向與下內(nèi)滾輪的旋轉(zhuǎn)方向相反。優(yōu)選地，為了便于清潔，所述上外滾輪和下外滾輪的外表面上設(shè)有可拆卸的吸附膜。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于該蝕刻前用清潔機(jī)，可以自動、方便地通過粘附作用清潔蝕刻片表面的加工屑或者灰塵等雜物，使其不會影響蝕刻片表面的光刻膠的涂布，而且該蝕刻前用清潔機(jī)結(jié)構(gòu)簡單，易于拆卸和清洗，只要更換或者清潔吸附膜即可進(jìn)行蝕刻片的連續(xù)清潔，提高了蝕刻的質(zhì)量，并且提高了生產(chǎn)效率。

圖I為本實(shí)用新型蝕刻前用清潔機(jī)的示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)ー步詳細(xì)描述。[0011]如圖I所示，該蝕刻前用清潔機(jī)包括支架10，以及位于支架10上的上內(nèi)滾輪I、下內(nèi)滾輪2，所述上內(nèi)滾輪I和下內(nèi)滾輪2的軸上下平行設(shè)置，并且上內(nèi)滾輪I和下內(nèi)滾輪2可繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)方向相反。并且該上內(nèi)滾輪I和下內(nèi)滾輪2的表面粗糙，具有粘性，可以吸附蝕刻片上的加工屑和各類灰塵，蝕刻片從該上內(nèi)滾輪I和下內(nèi)滾輪2之間通過。在該上內(nèi)滾輪I的上方和下內(nèi)滾輪2的下方還分別設(shè)有上外滾輪3和下外滾輪4，所述上外滾輪3的軸和上內(nèi)滾輪I的軸平行設(shè)置，上外滾輪3的外表面與上內(nèi)滾輪I的外表面相互接觸，并且上外滾輪3繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)，上外滾輪3的旋轉(zhuǎn)方向與上內(nèi)滾輪I的旋轉(zhuǎn)方向相反。所述下外滾輪4的軸和下內(nèi)滾輪2的軸平行設(shè)置，所述下外滾輪4和下內(nèi)滾輪2的外表面相互接觸，并且下外滾輪4繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)，下外滾輪4的旋轉(zhuǎn)方向與下內(nèi)滾輪2的旋轉(zhuǎn)方向相反。該上外滾輪3和下外滾輪4的外表面上均分別設(shè)置有可拆卸的吸附膜5，吸附膜5與上內(nèi)滾輪I和下內(nèi)滾輪2接觸，因此當(dāng)蝕刻片從上內(nèi)滾輪I和下內(nèi)滾輪2之間通過時，蝕刻片上的加工屑和灰塵會被上內(nèi)滾輪I和下內(nèi)滾輪2的外表面所吸附,而這些加工屑和灰塵會通過吸附膜5吸附在上外滾輪3和下外滾輪4的外表面上，進(jìn)而完成蝕刻片的清潔，清潔完蝕刻片后，可以如圖I所示，將上外滾輪3和下外滾輪4拆卸下，然后將表面的吸附膜5拆下進(jìn)行清潔或者更換即可。該蝕刻前用清潔機(jī)，可以自動、方便地通過粘附作用清潔蝕刻片表面的加工屑或者灰塵等雜物，使其不會影響蝕刻片表面的光刻膠的涂布，而且該蝕刻前用清潔機(jī)結(jié)構(gòu)簡單，易于拆卸和清洗，只要更換或者清潔吸附膜即可進(jìn)行蝕刻片的連續(xù)清潔，提高了蝕刻的質(zhì)量，并且提高了生產(chǎn)效率。
權(quán)利要求1.一種蝕刻前用清潔機(jī)，包括支架(10)以及設(shè)置干支架(10)上的滾輪，其特征在于所述滾輪包括呈軸向平行上下設(shè)置的上內(nèi)滾輪(I)和下內(nèi)滾輪(2)，并且上內(nèi)滾輪(I)和下內(nèi)滾輪(2)可繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)方向相反，所述上內(nèi)滾輪(I)和下內(nèi)滾輪(2)之間供蝕刻片通過，并且所述上內(nèi)滾輪⑴和下內(nèi)滾輪⑵的外表面具有粘性； 所述上內(nèi)滾輪(I)的上方和下內(nèi)滾輪(2)的下方分別設(shè)有上外滾輪(3)和下外滾輪(4)，所述上外滾輪(3)和上內(nèi)滾輪(I)呈軸向平行設(shè)置，并且上外滾輪(3)的外表面與上內(nèi)滾輪⑴的外表面相互接觸，所述上外滾輪⑶繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)，上外滾輪⑶的旋轉(zhuǎn)方向與上內(nèi)滾輪⑴的旋轉(zhuǎn)方向相反； 所述下外滾輪⑷和下內(nèi)滾輪⑵呈軸向平行設(shè)置，所述下外滾輪⑷和下內(nèi)滾輪(2)的外表面相互接觸，并且下外滾輪(4)繞其自身的軸旋轉(zhuǎn)，所述下外滾輪(4)的旋轉(zhuǎn)方向與下內(nèi)滾輪(2)的旋轉(zhuǎn)方向相反。
2.如權(quán)利要求I所述的蝕刻前用清潔機(jī)，其特征在于所述上外滾輪(3)和下外滾輪(4)的外表面上設(shè)有可拆卸的吸附膜(5)。
專利摘要一種蝕刻前用清潔機(jī)，包括支架以及設(shè)置于支架上的滾輪，所述滾輪包括呈軸向平行上下設(shè)置的上內(nèi)滾輪和下內(nèi)滾輪，并且所述上內(nèi)滾輪和下內(nèi)滾輪的外表面具有粘性；所述上內(nèi)滾輪的上方和下內(nèi)滾輪的下方分別設(shè)有上外滾輪和下外滾輪，上外滾輪的旋轉(zhuǎn)方向與上內(nèi)滾輪的旋轉(zhuǎn)方向相反；所述下外滾輪的旋轉(zhuǎn)方向與下內(nèi)滾輪的旋轉(zhuǎn)方向相反。該蝕刻前用清潔機(jī)，可以自動、方便地通過粘附作用清潔蝕刻片表面的加工屑或者灰塵等雜物，使其不會影響蝕刻片表面的光刻膠的涂布，而且該蝕刻前用清潔機(jī)結(jié)構(gòu)簡單，易于拆卸和清洗，只要更換或者清潔吸附膜即可進(jìn)行蝕刻片的連續(xù)清潔，提高了蝕刻的質(zhì)量，并且提高了生產(chǎn)效率。
文檔編號B08B7/00GK202447326SQ201220043299
公開日2012年9月26日 申請日期2012年2月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月10日
發(fā)明者何公明, 史小軍, 梁泰頻, 王滿根, 陳雪堯 申請人:寧波東盛集成電路元件有限公司