專利名稱：一種吸力噴頭和微粒清除系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及吸力裝置，尤其涉及一種吸力噴頭以及微粒清除系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
太陽能發(fā)電工藝，作為現(xiàn)有最為環(huán)保的新型能源。所謂的太陽能發(fā)電工藝，其通過太陽能電池板對于太陽輻射能量收集，并通過光電之間的轉(zhuǎn)換，實現(xiàn)發(fā)電的工藝。太陽能發(fā)電工藝以其高效、節(jié)能、適用范圍廣、生產(chǎn)投入低、取之不竭以及環(huán)保無污染等優(yōu)勢逐漸取代傳統(tǒng)化石燃料。因而如何提高太陽能電池板制造工藝，從而提高太陽能發(fā)電效率已成為現(xiàn)代清潔能源研發(fā)、利用的主要課題。太陽能電池板一般包括作為基底的玻璃基板；所述玻璃基板上生成正負電極層，以及夾于所述正負電極層之間的光電轉(zhuǎn)換層。光線透過所述玻璃基片、正/負電極后，射入光伏轉(zhuǎn)化層，并激發(fā)光電轉(zhuǎn)換層材料的電子的遷移，形成自由電子及空穴，并由電子及空穴間的移動產(chǎn)生電流。其中，在制備工藝中，玻璃基板上每沉積一層薄膜后，需要將該層薄膜切割成數(shù)個部分，之后再在該層薄膜上方生成另一層薄膜。并最終，形成多個包括正、負電 極層和光電轉(zhuǎn)換層的發(fā)電單元。在這其中對于上述各層薄膜切割要求較高，因而一般都采用切割精度較高的鐳射激光切割完成。在鐳射激光切割的實際操作過程中，由于被切割后的薄膜在小范圍發(fā)生小型爆炸，并由此產(chǎn)生大量的細小顆粒。這些細小顆粒中包括了大量的金屬顆粒，若是不及時清除，讓其留在切割后的薄膜上，極有可能混雜在其它材料層中，從而造成太陽能電池板發(fā)電及電流傳輸過程中，電流泄露以及其他足以損毀太陽能電池板的問題。因而參考圖I所示，在鐳射激光頭(圖中未顯示)對薄膜層6(可為上述太陽能電池板中的任一層)進行切割時，通常會在切割端口上方設置一吸力裝置1，從而吸取切割產(chǎn)生的細小顆粒10。這些細小顆粒分散在薄膜層上，給吸力裝置吸取造成較大困難。而且如上所述，由于這些細小顆粒10中包括了大量的金屬顆粒，其質(zhì)量較大，因而細小顆粒10吸取過程中會在其自身重力作用下而墜落?；谏鲜鲈?，因切割產(chǎn)生的細小顆粒10往往給太陽能電池板制造造成較大麻煩，若要提升這些因切割產(chǎn)生的細小顆粒10吸附清除，往往需提高所用的吸力裝置I的負載能力，或是添加額外的清除工序。鑒于此，參考圖2所示，如專利號JP3151187A的日本專利申請，在將鐳射激光頭2設在一框架3上，并在該框架3的X/Y軸向，鐳射激光頭2的旁側(cè)各開設多個吸取窗口 5，由連接所述框架3的通風管4連接吸力裝置，從而由各方向吸取切割后產(chǎn)生的顆粒，從而提高顆粒吸附效果。上述專利公開的技術(shù)方案，只是相對的多個方向增加吸附窗口，通過多個方向顆粒吸附，從而盡可能提高這些顆粒的吸附效果，而其吸附效果依然單純地取決于吸力裝置的吸附力。而且，鑒于多個吸附窗口 5開啟，單個吸附窗口5的吸附力得到削弱，若要保持各個吸附窗口 5的吸附力，則勢必增加吸力裝置的負載能力及耗能，這些措施直接加大了對于吸力裝置的要求，從而增加太陽能制造設備的投入和加工制造過程的復雜度。因而，如何在保持吸力裝置一定的負載力下，更高效地提高吸力裝置對于因切割產(chǎn)生的細小顆粒的清除效果，對于提高太陽能電池板制備エ藝水準具有重要的意義。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種吸カ噴頭，其在吸力裝置負載固定條件下，改變所述吸カ裝置的氣流走向，有效增強吸力，將切割形成的細小顆粒集中后強力吸取，從而提升細小顆粒的清除效率。為解決上述問題，本實用新型提供了ー種吸カ噴頭，包括吸力氣流輸出裝置；在所述吸カ氣流輸出裝置的開口下方設有氣流強化組件；所述氣流強化組件包括上端固定于所述吸力氣流輸出裝置開ロ處的氣流導向裝置以及位于所述氣流導向裝置外圍的氣流引向裝置；所述氣流導向裝置和氣流引向裝置均為下端開ロ結(jié)構(gòu)，且在所述氣流導向裝置外壁與所述氣流引向裝置的內(nèi)壁之間形成氣流腔 體；在所述氣流腔體中，基于所述吸力氣流輸出裝置輸出的氣流形成覆蓋所述吸力氣流輸出裝置開ロ下方的循環(huán)氣流，且所述循環(huán)氣流由所述吸カ氣流輸出裝置的開ロ周側(cè)流向開口中心?？蛇x地，所述氣流導向裝置呈筒狀結(jié)構(gòu)，其上端固定套于所述吸カ氣流輸出裝置開口處；且所述氣流導向裝置外壁由上至下向所述吸カ氣流輸出裝置的開口內(nèi)側(cè)傾斜。可選地，所述氣流導向裝置以所述吸力氣流輸出裝置開ロ中心呈中心對稱。 可選地，所述氣流導向裝置呈上端開ロ大于下端開ロ的倒圓錐形筒狀結(jié)構(gòu)?？蛇x地，所述氣流引向裝置為ー氣流引向蓋，其上端圍繞所述氣流導向裝置且與所述氣流導向裝置固定連接；其內(nèi)壁由內(nèi)側(cè)向外拱起，形成一曲面空腔?？蛇x地，所述氣流引向蓋內(nèi)壁以所述吸力氣流輸出裝置開ロ中心呈中心對稱?？蛇x地，由所述吸カ氣流輸出裝置開ロ向下延伸，所述氣流導向裝置下端開ロ至所述吸カ氣流輸出裝置開ロ之間距離小于所述氣流引向裝置下端開ロ至所述吸カ氣流輸出裝置開ロ之間距離。本實用新型還提供了一種用于薄膜切割過程中，用于清除切割過程中產(chǎn)生的細小微粒的微粒清除系統(tǒng)，包括上述吸力噴頭和安裝所述吸カ噴頭的安裝支架，所述吸カ噴頭位于待切割薄膜上方；所述吸カ噴頭的吸力氣流輸出裝置開ロ向下放置；所述安裝支架包括縱向調(diào)整軌道，所述吸カ噴頭通過滑動裝置安裝與所述縱向調(diào)整軌道上。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有以下優(yōu)點I.本實用新型吸カ噴頭中,所述的氣流導向裝置與氣流引向裝置改變由吸カ氣流輸出裝置產(chǎn)生的氣流流向，并在兩者之間形成的氣流腔體中，基于所述吸力氣流輸出裝置輸出的氣流形成覆蓋所述吸力氣流輸出裝置開ロ下方的循環(huán)氣流，且所述循環(huán)氣流由所述吸力氣流輸出裝置的開ロ周側(cè)流向開口中心。借助于循環(huán)氣流可將原本散落在薄膜上的細小顆粒迅速集中至所述吸カ氣流輸出裝置開ロ下方；而且循環(huán)氣流集中于所述吸力氣流輸出裝置開ロ下方后，還可直接增強了吸力氣流輸出裝置開ロ下方向上的氣流強度，從而強化了吸力氣流輸出裝置的吸力，從而在負載能力不變的條件下，增強噴頭對于細小顆粒的吸附作用，提高了吸附效率。2.可選方案中，所述氣流導向裝置以及氣流引向裝置內(nèi)壁以所述吸力氣流輸出裝置開口中心呈中心對稱設計可增強氣流腔體中氣流流動穩(wěn)定性，并提高向上的氣流吸力。[0019]3.本實用新型微粒清除系統(tǒng)安裝支架的縱向調(diào)整軌道，從而可根據(jù)實際情況有效調(diào)整吸力噴頭與待切割薄膜之間的距離，從而優(yōu)化微粒的清除效率。

圖I是采用現(xiàn)有吸力噴頭吸附薄膜切割產(chǎn)生的細小顆粒方法I示意圖；圖2是現(xiàn)有吸附薄膜切割產(chǎn)生的細小顆粒方法II的示意圖；圖3是本實用新型吸力噴頭的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是采用本實用新型吸力噴頭吸附薄膜切割產(chǎn)生的細小顆粒的方法示意圖；圖5是本實用新型吸力噴頭的底部結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是本實用新型微粒清除系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
為使本實用新型的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，
以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
做詳細的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本實用新型，但是本實用新型還可以采用不同于此處的其它方式來實施，因此本實用新型不受下面公開的具體實施例的限制。正如技術(shù)背景中所描述，太陽能電池板制造工藝中，對太陽能電池板各層切割工序中，會產(chǎn)生大量有礙于后續(xù)制備工藝進行以及影響太陽能電池板性能的細小顆粒。這些細小顆粒分散在薄膜層上，且包括大量的金屬顆粒，質(zhì)量較大，采用現(xiàn)有的吸力裝置吸取清除時，往往因難以集中，以及受到細小顆粒受到自身重力影響而無法有效清除。本實用新型鑒于上述現(xiàn)有吸力裝置吸收清除在薄膜鐳射激光切割工藝中產(chǎn)生的細小顆粒的不足，提供了一種吸力噴頭，包括吸力氣流輸出裝置，并在所述吸力氣流輸出裝置的開口下方設置氣流強化組件；所述氣流強化組件包括氣流導向裝置以及位于所述氣流導向裝置外圍的氣流引向裝置。使用時，所述吸力氣流輸出裝置裝于待切割薄膜鐳射激光切割端面上方，形成由下至上的氣流。由所述的氣流導向裝置與氣流引向裝置改變部分吸力氣流輸出裝置產(chǎn)生的氣流流向，并在兩者之間形成的氣流腔體中，基于所述吸力氣流輸出裝置輸出的氣流形成覆蓋所述吸力氣流輸出裝置開口下方的循環(huán)氣流，且所述循環(huán)氣流由所述吸力氣流輸出裝置的開口周側(cè)流向開口中心。其中，在所述開口中心對稱的兩側(cè)的兩股循環(huán)氣流流向相反并同時指向所述吸力氣流輸出裝置的開口中心。借助于所述循環(huán)氣流“席卷”散落在薄膜上的細小顆粒，并且這些細小顆粒在隨著循環(huán)氣流迅速集中至所述吸力氣流輸出裝置開口下方。而且所述的循環(huán)氣流集中于所述吸力氣流輸出裝置開口下方后，其中一部分匯入由下至上(即由所述待切割薄膜層至所述吸力噴頭)的氣流中，從而直接增強了吸力氣流輸出裝置開口下方向上的氣流強度，強化了吸力氣流輸出裝置的吸力，最終實現(xiàn)在負載能力不變的條件下，增強噴頭對于細小顆粒的吸附作用，提高了吸附效率。其具體結(jié)構(gòu)如圖3和圖5所示本實用新型包括吸力氣流輸出裝置11 ;在所述吸力氣流輸出裝置11的開口 12的下方設有氣流強化組件。所述氣流強化組件包括固定于所 述吸力氣流輸出裝置11的開口 12下方的氣流導向裝置7以及位于所述氣流導向裝置7外圍的氣流引向裝置8。所述氣流導向裝置7和氣流引向裝置8均呈下端開口結(jié)構(gòu)。[0031]其中，所述氣流導向裝置7套于所述吸カ氣流輸出裝置11的下端開ロ 12下方，圍繞著所述吸カ氣流輸出裝置11的下端開ロ 12與其固定連接。所述氣流導向裝置7的外壁由上至下向所述吸カ氣流輸出裝置11的開ロ 12內(nèi)側(cè)傾斜，且所述氣流導向裝置7以所述吸力氣流輸出裝置11的開ロ 12的中心呈中心對稱。使得所述氣流導向裝置7呈上端開ロ大于下端開ロ的倒圓錐形筒狀。所述氣流導向裝置7的外壁與吸力氣流輸出裝置11的開ロ的中心軸間的傾斜角度a可間于5 75度，其中優(yōu)選20 60度，特別優(yōu)選30 50度，包括30度、40度、45度、50度等。而所述氣流引向裝置8為ー氣流引向蓋，其上端圍繞所述氣流導向裝置7且與其固定連接，而且所述氣流引向蓋下端開ロ，且其內(nèi)壁由內(nèi)側(cè)向外拱起，形成一曲面空腔，且所述氣流引向蓋的內(nèi)壁同樣以所述吸カ氣流輸出裝置11開ロ 12的中心呈中心對稱。所述氣流導向裝置7的外壁與氣流引向蓋的內(nèi)壁之間形成圍繞所述吸カ氣流輸出裝置11開ロ 12中心布置的氣流腔體200。而且由所述吸カ氣流輸出裝置11開ロ12向下延伸，所述氣流導向裝置7下端開ロ至所述吸カ氣流輸出裝置11開ロ 12間距離小于所述氣流引向蓋下端開ロ至所述吸カ氣流輸出裝置開ロ 12間距離。即，以所述氣流引向蓋下端為水平基面，所述氣流導向裝置7下端位于所述氣流引向蓋下端的上方，兩者間的距離dl間于I 20mm,其中優(yōu)選范圍為3 15mm,進一步可優(yōu)選5 IOmm,包括5mm、7mm、9mm 等。結(jié)合參考圖6，本實用新型還提供了一種微粒清除系統(tǒng)，所述微粒清除系統(tǒng)包括了所述的吸カ噴頭100和安裝所述吸カ噴頭100的安裝支架13，所述吸カ噴頭100的吸カ氣流輸出裝置11開ロ 12向下放置，位于所述薄膜層6的正上方；所述安裝支架13包括縱向調(diào)整軌道14，所述吸カ噴頭100通過滑動裝置15安裝于所述縱向調(diào)整軌道14上。從而實現(xiàn)所述吸カ噴頭100相對于所述薄膜層6表面上下移動。其中，當作為所述氣流引向裝置8的氣流引向蓋下端距所述薄膜層6為O. 5 2cm(d2 = O. 5 2cm)吋，經(jīng)試驗證明，該距離對于所述顆粒10的清除效果最佳。值得注意的是，所述吸カ噴頭100位于所述薄膜層6切割端口上方，由于需要在所述薄膜層6不同的位置進行切割，因而本實用新型吸カ噴頭通過移動裝置隨著玻璃基板9或是鐳射激光頭橫向移動，隨時處于切割端口上方。該內(nèi)容都為現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。下面結(jié)合具體的使用，從而進一步闡明本實用新型。結(jié)合參考圖4和圖6，在玻璃基板9上沉積ー層薄膜層6之后，通過鐳射激光在所述薄膜層6上進行切割エ藝，從而將所述薄膜層6切割成為數(shù)個部分。其中，在切割過程中，會在所述薄膜層6切割端口中形成小范圍爆炸，并由此在切割端ロ形成大量的顆粒10。這些顆粒10散落在薄膜層6表面，且由于所述薄膜層6中摻雜了大量的金屬，因而產(chǎn)生的顆粒10中同時包括了大量的金屬顆粒。所述吸カ噴頭100的作為氣流引向裝置8的所述氣流引向蓋的下端開ロ位于所述薄膜層6的上方I厘米(d2= Icm)處。在鐳射激光切割的同時，開啟所述吸カ氣流輸出裝置11，在所述薄膜層6的切割端口上方形成由下至上的氣流A。由于所述氣流導向裝置7的外壁由上至下向所述吸カ氣流輸出裝置11開ロ 12內(nèi)側(cè)傾斜，在氣流A由下往上流動的過程中，其遠離吸力氣流輸出裝置11開ロ 12中心處的一部分氣流順著所述氣流導向裝置7的外壁進入所述氣流導向裝置7與氣流引向蓋之間的氣流腔體200中形成側(cè)向氣流。由于所述氣流引向蓋的內(nèi)壁由內(nèi)側(cè)向外拱起，形成一曲面空腔，所述側(cè)向氣流順著所述氣流引向蓋的曲面空腔的內(nèi)壁流動，并在所述氣流A帶動下，在所述氣流導向裝置7的外壁與氣流引向蓋的內(nèi)壁形成循環(huán)氣流，從而在所述薄膜層6的表面形成覆蓋所述吸力氣流輸出裝置11開口下方，且由所述吸力氣流輸出裝置11開口 12周側(cè)向所述吸力氣流輸出裝置11開口 12中心靠近的循環(huán)氣流。其中，所述曲面空腔優(yōu)選為球形的曲面空腔，從而利于循環(huán)氣流的形成以及其穩(wěn)定性。而且由于氣流A的帶動下，各股所述的循環(huán)氣流，靠近所述吸力氣流輸出裝置11開口 12中心的部分氣流重新匯集于氣流A中，從而形成更為強勁的向上氣流。在所述薄膜層6表面的循環(huán)氣流影響下，散落在所述薄膜層6上的顆粒10迅速被“席卷”并隨著循環(huán)氣流由所述吸力氣流輸出裝置11開口 12旁側(cè)的迅速被“席卷”向所述吸力氣流輸出裝置11開口 12的中心集中。而且由于循環(huán)氣流由所述吸力氣流輸出裝置11開口 12旁側(cè)向所述吸力氣流輸出裝置11開口 12的中心流動，由所述吸力氣流輸出裝置11開口 12周側(cè)各方向的循環(huán)氣流交匯后，部分氣流重新匯入所述氣流A中，由所述薄膜層6的表面指向所述吸力氣流輸出裝置11開口 12，從而同時增加了氣流A的吸力，而位于吸力氣流輸出裝置11開口 12下方顆粒10借著氣流A被吸入所述吸力噴頭100中。這樣在相同負載情況下，在所述吸力氣流輸出裝置11開口 12的下方形成了更為強勁的吸力，有助于所述顆粒10的吸附，從而提高了這些細小顆粒10的清除效率。其中，優(yōu)選方案中，所述氣流導向裝置7以及所述氣流引向蓋的內(nèi)壁均以所述吸力氣流輸出裝置11開口 12的中心呈中心對稱。這樣，在以所述吸力氣流輸出裝置11的開口 12中心呈中心對稱的兩側(cè)形成的兩股流向相反、大小相似的兩股側(cè)向氣流BI和B2，并由此形成兩股流向相反、大小相似，且由所述吸力氣流輸出裝置11的開口 12的周側(cè)流向中心的循環(huán)氣流Cl和C2，從而提高氣流腔體200中的氣流和最終進入所述吸力噴頭100的氣流A的穩(wěn)定性，并最終提高所述吸力噴頭100的工作穩(wěn)定性。 雖然本實用新型已以較佳的實施例披露如上，但本實用新型并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本實用新型的精神和范圍內(nèi)，均可做各種更動與修改，因此本實用新型的保護范圍應當以權(quán)利要求所限定的范圍為準。
權(quán)利要求1.ー種吸カ噴頭，其特征在于，包括吸力氣流輸出裝置；在所述吸カ氣流輸出裝置的開ロ下方設有氣流強化組件； 所述氣流強化組件包括上端固定于所述吸力氣流輸出裝置開ロ處的氣流導向裝置以及位于所述氣流導向裝置外圍的氣流引向裝置；所述氣流導向裝置和氣流引向裝置均為下端開ロ結(jié)構(gòu)，且在所述氣流導向裝置外壁與所述氣流引向裝置的內(nèi)壁之間形成氣流腔體；在所述氣流腔體中，基于所述吸力氣流輸出裝置輸出的氣流形成覆蓋所述吸力氣流輸出裝置開口下方的循環(huán)氣流，且所述循環(huán)氣流由所述吸カ氣流輸出裝置的開ロ周側(cè)流向開口中心。
2.如權(quán)利要求I所述的吸カ噴頭，其特征在于，所述氣流導向裝置呈筒狀結(jié)構(gòu)，其上端固定套于所述吸カ氣流輸出裝置開口處；且所述氣流導向裝置外壁由上至下向所述吸カ氣流輸出裝置的開口內(nèi)側(cè)傾斜。
3.如權(quán)利要求2所述的吸カ噴頭，其特征在于，所述氣流導向裝置以所述吸力氣流輸出裝置開ロ中心呈中心對稱。
4.如權(quán)利要求2所述的吸カ噴頭，其特征在于，所述氣流導向裝置的外壁與所述吸カ氣流輸出裝置開ロ的中心軸呈5 75度角傾斜。
5.如權(quán)利要求2所述的吸カ噴頭，其特征在于，所述氣流導向裝置呈上端開ロ大于下端開ロ的倒圓錐形筒狀結(jié)構(gòu)。
6.如權(quán)利要求I所述的吸カ噴頭，其特征在于，所述氣流引向裝置為ー氣流引向蓋，其上端圍繞所述氣流導向裝置且與所述氣流導向裝置固定連接；其內(nèi)壁由內(nèi)側(cè)向外拱起，形成一曲面空腔。
7.如權(quán)利要求6所述的吸カ噴頭，其特征在于，所述氣流引向蓋內(nèi)壁以所述吸カ氣流輸出裝置開ロ中心呈中心對稱。
8.如權(quán)利要求I 7任一項所述的吸カ噴頭，其特征在干，由所述吸カ氣流輸出裝置開ロ向下延伸，所述氣流導向裝置下端開ロ至所述吸カ氣流輸出裝置開ロ之間距離小于所述氣流引向裝置下端開ロ至所述吸カ氣流輸出裝置開ロ之間距離。
9.如權(quán)利要求8所述的吸力噴頭，其特征在干，所述氣流導向裝置下端開ロ與所述氣流引向裝置下端開ロ之間距離為I 20mm。
10.一種微粒清除系統(tǒng)，其特征在于，包括上述權(quán)利要求I 9任一項所述的吸カ噴頭和安裝所述吸カ噴頭的安裝支架，所述吸カ噴頭位于待切割薄膜上方；所述吸カ噴頭的吸力氣流輸出裝置開ロ向下放置；所述安裝支架包括縱向調(diào)整軌道，所述吸カ噴頭通過滑動裝置安裝于所述縱向調(diào)整軌道上。
專利摘要一種吸力噴頭和微粒清除系統(tǒng)，包括吸力氣流輸出裝置；在所述吸力氣流輸出裝置的開口下方設有氣流強化組件；所述氣流強化組件包括固定于所述吸力氣流輸出裝置開口處的氣流導向裝置以及位于所述氣流導向裝置外圍的氣流引向裝置。所述的氣流導向裝置與氣流引向裝置改變由吸力氣流輸出裝置產(chǎn)生的氣流流向，并在兩者之間形成由所述吸力氣流輸出裝置的開口周側(cè)向其中心流動的循環(huán)氣流；借助于循環(huán)氣流可將原本散落在薄膜上的細小顆粒迅速集中至所述吸力氣流輸出裝置開口下方；且各股所述的循環(huán)氣流集中于所述吸力氣流輸出裝置開口下方，直接增強了吸力氣流輸出裝置開口下方向上的氣流強度，強化了吸力氣流輸出裝置的吸力，及對于細小顆粒的吸附。
文檔編號B08B5/04GK202438493SQ20122005467
公開日2012年9月19日 申請日期2012年2月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月20日
發(fā)明者林信安, 林志明 申請人:杜邦太陽能有限公司