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      用于清洗設(shè)備的清洗元件和用來制造清洗元件的方法

      文檔序號:1428005閱讀:150來源:國知局
      用于清洗設(shè)備的清洗元件和用來制造清洗元件的方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于清洗設(shè)備、特別是自動化的機(jī)動車輛清洗設(shè)備的清洗元件,該清洗元件由泡沫材料構(gòu)成。為了提供這種類型的清洗元件(10;50),在使用該清洗元件的情況下,可以減小損害待清洗的對象的危險,根據(jù)本發(fā)明提出,該清洗元件(10;50)為泡沫薄膜,其至少一側(cè)上具有皮(24、26),其中,皮(24、26)至少區(qū)段式地設(shè)置有表面造型(28)。
      【專利說明】用于清洗設(shè)備的清洗元件和用來制造清洗元件的方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種用于清洗設(shè)備、特別是自動化的機(jī)動車輛清洗設(shè)備的清洗元件,該清洗元件由泡沫材料構(gòu)成。
      [0002]此外,本發(fā)明涉及一種用來制造用于清洗設(shè)備的清洗元件的方法。
      【背景技術(shù)】
      [0003]在清洗設(shè)備并且特別是機(jī)動車輛清洗設(shè)備中使用由多孔泡沫材料構(gòu)成的清洗元件是公知的。為了制造這種類型的清洗元件,以塊的形式存在泡沫材料通常被切割成單獨(dú)的片或者帶,其分別形成清洗元件。在割開以塊狀存在的泡沫材料的情況下產(chǎn)生清洗元件,在這些清洗元件的表面上泡沫材料的孔是打開的。據(jù)此,清洗液體,例如水,可以被這種類型的清洗元件良好地容納,這對于可以通過清洗元件獲得的清潔效果是有利的。然而在實(shí)踐中問題在于,污物顆粒在清洗元件的打開的孔中粘牢。這可以導(dǎo)致對待清洗的對象的損害,特別是當(dāng)清洗元件使用在機(jī)動車輛清洗設(shè)備中時,可以導(dǎo)致對機(jī)動車輛的損害。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明的任務(wù)在于,提供一種開頭所提到的類型的清洗元件以及一種用來制造清洗元件的方法,在使用該清洗元件的情況下,可以減小損害待清洗的對象的危險。
      [0005]這個任務(wù)在類屬的清洗元件中根據(jù)本發(fā)明通過以下所述解決,S卩,清洗元件為泡沫薄膜,其至少一側(cè)上具有皮,其中,皮至少區(qū)段式地設(shè)置有表面造型。
      [0006]在根據(jù)本發(fā)明的清洗元件中,使用泡沫薄膜,其包括由發(fā)泡材料構(gòu)成的芯以及在泡沫薄膜的至少一個表面上的皮。皮可以在制造時在泡沫薄膜上構(gòu)成,并且因此也被稱作“泡沫皮”。泡沫薄膜基于皮構(gòu)成閉孔的材料,從而沒有污物顆??梢栽谄ど险忱?,這種污物顆粒本來會導(dǎo)致對待清洗的對象的損害。額外地,清洗元件的皮至少區(qū)段式的設(shè)置有表面造型。在表面造型的區(qū)域中,皮配備有峰和谷,從而皮在表面造型的區(qū)域中具有表面粗糙度,其超出沒有表面造型的泡沫薄膜的粗糙度。在實(shí)踐中表明了,通過表面造型的構(gòu)造,否則會很大程度上疏液性的泡沫薄膜的通過清洗液體的可潤濕性可以明顯地得到提高。此夕卜,由于表面造型改善了待清潔對象的污物的機(jī)械去除性。這使得,可以通過根據(jù)本發(fā)明的清洗元件獲得高清潔效果。
      [0007]表面造型可以例如在皮上形成,其方式是,機(jī)械式地作用到泡沫薄膜上,例如泡沫薄膜通過預(yù)先給出表面造型的模板或模具壓印。
      [0008]當(dāng)泡沫薄膜在兩側(cè)具有皮時是有利的。由此,泡沫薄膜是兩側(cè)閉孔地形成的,從而可以在泡沫薄膜的兩側(cè)上防止污物顆粒在泡沫芯的孔中粘牢。
      [0009]優(yōu)選地,兩個皮分別區(qū)段式地設(shè)置有表面造型。泡沫薄膜的可潤濕性以及泡沫薄膜的用來機(jī)械去除污垢的能力可以由此在兩側(cè)上得到提高。這導(dǎo)致可以通過清洗元件獲得的清潔效果的提高。
      [0010]泡沫薄膜的這種皮或這些皮,至少區(qū)段式地設(shè)置有表面造型,其優(yōu)選布置在清洗元件有效清洗區(qū)域中。清洗元件的有效清洗區(qū)域是可以接觸到待清洗的對象的區(qū)域。
      [0011]在根據(jù)本發(fā)明的清洗元件的優(yōu)選實(shí)施形式中,當(dāng)泡沫薄膜的至少一個皮并且優(yōu)選兩個皮完全地設(shè)置有表面造型時,是有利的。這使得,泡沫薄膜的可潤濕性以及泡沫薄膜的用來機(jī)械去除污垢的能力在整個這種皮上或者整個這些皮上得到提高。
      [0012]優(yōu)選地,皮在表面造型的區(qū)域中的表面粗糙度是相同大小的或基本上相同大小的。這使得,泡沫薄膜在表面造型的區(qū)域中均勻規(guī)則地或基本均勻規(guī)則地通過清洗液體潤濕,以及從待清潔的對象中均勻規(guī)則地去除污垢。由此,給出了盡可能均勻規(guī)則地清潔待清洗的對象的可能性。此外,可以以更容易的方式制造清洗元件。
      [0013]在根據(jù)本發(fā)明的清洗元件在實(shí)踐中的具體實(shí)行證實(shí)了以下情況是有利的,S卩,皮在表面造型的區(qū)域中具有根據(jù)ISO標(biāo)準(zhǔn)25178的第二部分作為參數(shù)Sz來測量的、由大約50 μ m到大約1000 μ m的表面粗糙度,優(yōu)選由大約100 μ m到大約500 μ m的表面粗糙度,并且更優(yōu)選地由大約200 μ m到大約400 μ m的表面粗糙度。根據(jù)表面粗糙度Sz基于ISO標(biāo)準(zhǔn)25178的第二部分的定義,在皮設(shè)置有表面造型的區(qū)域中最大峰高和最低谷深的總和有利地為大約50 μ m到大約1000 μ m,優(yōu)選為大約100 μ m到大約500 μ m,并且特別優(yōu)選地為大約200 μ m到大約400 μ m。在實(shí)踐中表明了,在表面粗糙度選擇以上所提到的大小時,一方面可以保證皮通過清洗液體的可潤濕性,另一方面可以在很大程度上防止,在維持泡沫薄膜的已改善的去除待清潔的對象的污物顆粒能力時污物顆粒在泡沫薄膜上粘牢。
      [0014]當(dāng)表面造型至少在局部上是均勻規(guī)則地形成,以便簡化清洗元件的制造時,是有利的。表面造型優(yōu)選是均勻規(guī)則地,這涉及表面粗糙度和/或涉及峰和谷在皮上的布置。優(yōu)選地,表面造型整體上均勻規(guī)則地形成。
      [0015]在實(shí)踐中證實(shí)了,當(dāng)表面造型的相鄰谷的彼此間距和/或表面造型的相鄰峰的彼此間距是同樣大小或基本上同樣大小時,是有利的。這使清洗元件的制造變?nèi)菀撞⑶铱梢詫?shí)現(xiàn),通過清洗液體盡可能均勻規(guī)則地潤濕清洗元件,并且盡可能均勻規(guī)則地機(jī)械式去除污垢。當(dāng)各個間距為小于3mm時,優(yōu)選小于2mm并且更優(yōu)選地小于Imm時,是有利的。
      [0016]在根據(jù)本發(fā)明的清洗元件在實(shí)踐中特別優(yōu)選的實(shí)施形式中證實(shí)了,當(dāng)相鄰谷的彼此間距和/或相鄰峰的彼此間距分別為大約500 μ m到大約600 μ m時,是有利的。在此,如上述定義為參數(shù)Sz的、皮在表面造型的區(qū)域中的表面粗糙度有利地為大約100 μ m到大約250 μ m0
      [0017]在根據(jù)本發(fā)明的清洗元件在實(shí)踐中的另一有利實(shí)施形式中證實(shí)了,當(dāng)相鄰谷的彼此間距和/或相鄰峰的彼此間距為大約1.5mm到大約2.5mm時,是有利的。在此,如上述定義為參數(shù)Sz的、皮在表面造型的區(qū)域中的表面粗糙度有利地為大約200 μ m到大約500 μ m。
      [0018]可以例如據(jù)此獲得均勻規(guī)則的表面造型,S卩,表面造型沿著至少一個最重要的空間方向,優(yōu)選沿著兩個彼此橫向地取向的空間方向,沿著皮周期性地形成。
      [0019]表面造型優(yōu)選設(shè)計為網(wǎng)格結(jié)構(gòu)、肋結(jié)構(gòu)、鱗片結(jié)構(gòu)或疙瘩結(jié)構(gòu)。由此,皮可以例如通過壓印泡沫薄膜,以構(gòu)造上簡單的方式設(shè)置有表面造型。
      [0020]當(dāng)清洗元件至少區(qū)段式地分割為帶時,是有利的。例如清洗元件可以具有邊沿,從其開始清洗元件分割為多個彼此并排布置的帶。帶可以例如通過切割泡沫薄膜構(gòu)成。在實(shí)踐中證實(shí)了,當(dāng)帶寬度至少為大約4mm時,特別是在泡沫薄膜的厚度為大約2mm到大約4mm時,是有利的。由此,減小了污物顆粒粘固在泡沫薄膜的泡沫芯的開孔上的可能性,這些開孔布置在帶的沒有通過皮包覆的側(cè)面上。
      [0021]泡沫薄膜的帶優(yōu)選設(shè)置有表面造型。特別地,帶構(gòu)成清洗元件的有效清洗區(qū)域。
      [0022]當(dāng)泡沫薄膜為含有乙烯/乙酸乙烯酯共聚物的或者由乙烯/乙酸乙烯酯共聚物構(gòu)成的聚烯烴泡沫薄膜時,被證實(shí)是有利的。
      [0023]有利地,泡沫薄膜具有大約100kg/m3到大約200kg/m3的密度。
      [0024]如在開頭所提到的那樣,本發(fā)明還涉及一種用來制造用于清洗設(shè)備的清洗元件的方法。開頭所提出的任務(wù)通過根據(jù)本發(fā)明的方法解決,其特征在于,一種至少一側(cè)上具有皮的泡沫薄膜經(jīng)受至少一個表面處理步驟,在該表面處理步驟中使皮至少區(qū)段式地設(shè)置有表面造型,增加它的表面粗糙度。
      [0025]通過泡沫薄膜的皮設(shè)置有表面造型相對于沒有經(jīng)受表面處理步驟的泡沫薄膜增加它的表面粗糙度,提高了泡沫薄膜通過清洗液體的可潤濕性,其中,泡沫薄膜的閉孔構(gòu)造同時得以保留,以便避免污物顆粒粘牢。此外由于表面造型,對于待清洗對象的污物的機(jī)械去除性被改善。
      [0026]當(dāng)表面造型通過壓印泡沫薄膜形成時,是有利的。例如,表面造型通過熱壓印形成,其方式是,加熱網(wǎng)格狀的、板條狀或者設(shè)置有盲孔的模板或模具并且壓到皮上。由此,可以獲得皮的網(wǎng)格狀的、板條狀的或疙瘩狀的表面造型。
      [0027]可以設(shè)置,泡沫薄膜隨后在另一個處理步驟中部分地被切開或被割開。例如,泡沫薄膜由它的邊沿之一開始,設(shè)置有多個彼此并排地延伸的切割部。由此可以制造清洗元件,其區(qū)段式地分割為多個帶。
      [0028]還可以設(shè)置,泡沫薄膜被完全地切割為各個帶,這些帶接著被聯(lián)合成清洗元件束?!緦@綀D】

      【附圖說明】
      [0029]以下的本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施形式的描述用于結(jié)合附圖詳細(xì)地闡述本發(fā)明。在附圖中:
      [0030]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的清洗元件的第一優(yōu)選實(shí)施形式的示意性立體視圖;
      [0031]圖2示出了出自圖1的清洗元件在沒有設(shè)置表面造型的區(qū)域中的側(cè)視圖;
      [0032]圖3示出了出自圖1的清洗元件在沒有設(shè)置表面造型的區(qū)域中的俯視圖;
      [0033]圖4示出了在傾斜的視角下,出自圖1的清洗元件在設(shè)置有表面造型的區(qū)域中的側(cè)視圖;
      [0034]圖5示出了出自圖1的清洗元件在設(shè)置有表面造型的區(qū)域中的區(qū)段式的側(cè)視圖;并且,
      [0035]圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的清洗元件的第二優(yōu)選實(shí)施形式的示意性立體視圖?!揪唧w實(shí)施方式】
      [0036]圖1以立體的示意圖示出了整體上通過附圖標(biāo)記10標(biāo)明的清洗元件的第一優(yōu)選實(shí)施形式。清洗元件10由泡沫薄膜12以材料帶14的形態(tài)制造。
      [0037]泡沫薄膜12包括泡沫芯16,其由發(fā)泡的、包括孔18的泡沫材料構(gòu)成。泡沫芯16在泡沫薄膜12的兩個彼此相對置的表面20和22上分別通過皮24或26包覆。在泡沫材料中,涉及到例如聚烯烴泡沫,其含有乙烯/乙酸乙烯酯共聚物或由乙烯/乙酸乙烯酯共聚物構(gòu)成。皮24和26可以在制造時,也就是說在泡沫薄膜12發(fā)泡時就已經(jīng)構(gòu)成,因此這些皮也被稱為“泡沫皮”?;谄?4和26,泡沫薄膜12是閉孔的材料,在其中,孔18在表面20和22上由封閉這些孔的皮24或26所覆蓋。
      [0038]圖2和圖3以側(cè)視圖以及以俯視圖示出了,在發(fā)泡后在制造清洗元件10的初始狀態(tài)中的泡沫薄膜12。可以辨識出,泡沫薄膜12兩側(cè)平滑地形成,帶有基本上平坦的沒有造型的皮24和26。
      [0039]通過泡沫薄膜12的閉孔性,可以在清洗元件10中防止,污物顆粒滲入到通過皮24和26所覆蓋的孔18中并且在這些孔中粘牢。污物顆粒也不能粘著在皮24和26上。由此,在泡沫薄膜12用于清洗元件10的情況下,很大程度上避免了對于待清洗的對象的、例如機(jī)動車輛的損害。
      [0040]為了提高清洗元件10的清潔效果,與材料帶14的長度相關(guān)地,在材料帶長度的一部分上設(shè)置有表面造型28。這種表面造型28在圖1中通過陰影線示明,并且僅可以在表面20上被辨識。由材料帶14的第一窄側(cè)30開始,表面造型28沿著表面20和22,向材料帶14的第二窄側(cè)32方向延伸。
      [0041]皮24和26的設(shè)置有表面造型28的區(qū)段占有材料帶14長度的大約三分之一,并且在圖4和圖5中以側(cè)視圖示出。皮24和26的其余的、連接到表面造型28上并且直至到達(dá)第二窄側(cè)32的區(qū)段,與此相對地不設(shè)置表面造型28,并且在圖1中不劃陰影線地示出。在這個區(qū)段的區(qū)域中,泡沫薄膜12如在圖2中所示出側(cè)視圖以及在圖3中所示出的俯視圖那樣,形成有平坦的或基本上平坦的皮24和26。
      [0042]隨后將研究例如皮24的表面造型28。與此相關(guān)地,該說明也切合于皮26的表面造型28。
      [0043]皮24可以設(shè)置有表面造型28,其方式是泡沫薄膜12在發(fā)泡后,相應(yīng)于在圖2和圖3中所示出的構(gòu)型,經(jīng)受表面處理步驟。為了這個目的,泡沫薄膜12可以被熱壓印,其方式例如是,加熱如前所述的網(wǎng)格狀的模板并且將其壓到皮24上。這導(dǎo)致皮24的機(jī)械變形,但是使皮24不受損害,從而泡沫薄膜12在壓印后繼續(xù)是閉孔的材料。
      [0044]圖4和圖5示出了泡沫薄膜12的設(shè)置有表面造型28的區(qū)段??梢员孀R出,皮24仍然是完好的。與在圖2和圖3中所示出的、泡沫薄膜12的沒有經(jīng)受壓印的區(qū)段相反,皮24在表面造型28的區(qū)域中具有增加的表面粗糙度。通過皮24的最大峰高和皮24的最低谷深的總和34來測定作為根據(jù)ISO標(biāo)準(zhǔn)25178的第二部分的參數(shù)Sz的表面粗糙度當(dāng)前例如為大約140 μ m。在此理解為,由參考線開始來測定最大峰高和最低谷深,該參考線不高于最大峰高并且不低于最低谷深延伸。相對地,泡沫薄膜12的表面粗糙度在它的沒有設(shè)置表面造型28的區(qū)段中,基于那里皮24的平坦的或者基本上平坦的構(gòu)造,大約為零。
      [0045]在當(dāng)前情況下,皮24在表面造型28的區(qū)域中的表面粗糙度基本上是恒定的。這是由于,泡沫薄膜12通過恒定網(wǎng)孔尺寸的均勻的網(wǎng)格形態(tài)的模板壓印,來產(chǎn)生表面造型28。出于這種原因,表面造型28沿著表面20進(jìn)一步地均勻規(guī)則地形成,并且具有近似網(wǎng)格狀或鱗片狀的形態(tài)。表面造型28的相鄰谷的彼此間距36在當(dāng)前為大約550 μ m。在相應(yīng)的方式下,表面造型28的兩個相鄰的峰彼此間距38同樣為大約550 μ m。
      [0046]如提到的那樣,表面造型28用于提高泡沫薄膜12通過清洗液體的可潤濕性,以及改善待清潔對象的污物的機(jī)械去除性。由此可以提高在使用清洗元件10的情況下可獲得的清潔效果。同時可以減小損害待清洗的對象的可能性。這一方面是由于,如所提到的那樣,皮24即使在表面造型28的區(qū)域中也還是完好的,也就是說泡沫薄膜12是閉孔的并且污物顆粒不會在孔18中粘牢。另一方面在實(shí)踐中表明,即使是在表面造型28的區(qū)域中污物顆粒也僅以微小的可能性粘著。
      [0047]為了進(jìn)一步提高清潔效果,泡沫薄膜12以區(qū)段方式分割為多個帶40??偣苍O(shè)置有8個帶40。通過從第一窄側(cè)30開始向第二窄側(cè)30方向切割設(shè)置有表面造型28的泡沫薄膜12,在材料帶14長度的大約三分之一上構(gòu)成帶40。
      [0048]材料帶14的切開部大約是如此深的,即,如皮24從第一窄側(cè)30開始設(shè)置有表面造型28的那樣。皮24設(shè)置有表面造型28的區(qū)段,限定了清洗元件10的有效清洗區(qū)域,其在清潔時通常與待清潔的對象相接觸。由此,帶40同樣大約在清洗元件10的整個有效清洗區(qū)域上延伸。
      [0049]在清洗元件10在實(shí)踐中實(shí)行的情況下證實(shí)了,當(dāng)帶40的寬度為至少大約4mm時,特別是在泡沫薄膜12的厚度為從大約2mm到大約3mm時,是有利的。據(jù)此可以在很大程度上避免,污物顆粒在帶40的設(shè)置有開孔18的側(cè)上的積聚以及可能導(dǎo)致的對待清洗對象的損害。
      [0050]替代于當(dāng)前所示出的網(wǎng)格狀或鱗片狀表面造型28,可以想到的是,表面造型以肋狀的或疙瘩狀的形態(tài)在皮24上構(gòu)成。為了這個目的可以設(shè)置,泡沫薄膜12通過包括板條狀的或者通過包括盲孔的模板壓印。
      [0051]此外還可以想到的是,皮24在表面造型28的區(qū)域中的表面粗糙度具有不同于當(dāng)前所描述的大約140 μ m的其他值。例如,當(dāng)表面粗糙度為大約50 μ m到大約1000 μ m時,優(yōu)選大約100 μ m到大約500 μ m時,在實(shí)踐中證實(shí)了清洗元件的變型方案的實(shí)行是有利的。
      [0052]此外可以設(shè)置,相鄰的谷的間距和相鄰的峰的間距偏離于所描述的均為大約550 μ m的間距36或38。例如,特別是在大約200 μ m到大約500 μ m的表面粗糙度的情況下,相鄰的谷的間距和/或相鄰的峰的間距為大約1.5mm到大約2.5_。
      [0053]在圖6中以示意性立體圖示出了根據(jù)本發(fā)明的清洗元件的第二優(yōu)選實(shí)施例,并且在那里整體上通過附圖標(biāo)記50標(biāo)明。針對清洗元件10和50的相同的或起相同作用的特征使用同樣的附圖標(biāo)記??梢酝ㄟ^清洗元件10獲得的優(yōu)點(diǎn)同樣可以通過清洗元件50獲得。
      [0054]清洗元件50只是通過以下所述區(qū)別于清洗元件10,即,皮24和26分別完全地設(shè)置有表面造型28,也就是說,在材料帶14的整個寬度上以及從第一窄側(cè)30直至第二窄側(cè)32上設(shè)置有表面造型。
      [0055]為了在清洗設(shè)備中,特別是在自動化的機(jī)動車輛清洗設(shè)備中使用清洗元件10和50,可以通過這些清洗元件具有第二窄側(cè)32的端部將這些清洗元件固定在例如旋轉(zhuǎn)的軸上。在軸的旋轉(zhuǎn)下,位于有效清洗區(qū)域中的帶40則可以洗滌待清洗的對象。
      【權(quán)利要求】
      1.一種用于清洗設(shè)備、特別是自動化的機(jī)動車輛清洗設(shè)備的清洗元件,所述清洗元件由泡沫材料構(gòu)成,其特征在于,所述清洗元件(10 ;50)為泡沫薄膜(12),所述泡沫薄膜至少一側(cè)上具有皮(24、26),其中,所述皮(24、26)至少區(qū)段式地設(shè)置有表面造型(28)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗元件,其特征在于,所述泡沫薄膜(12)兩側(cè)上具有皮(24、26)。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗元件,其特征在于,這兩個皮(24、26)分別區(qū)段式地設(shè)置有表面造型(28)。
      4.根據(jù)上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的清洗元件,其特征在于,所述泡沫薄膜(12)的至少一個皮(24、26 )完全地設(shè)置有所述表面造型(28 )。
      5.根據(jù)上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的清洗元件,其特征在于,所述皮(24、26)在所述表面造型(28 )區(qū)域中的表面粗糙度是相同大小的或基本上相同大小的。
      6.根據(jù)上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的清洗元件,其特征在于,所述皮(24、26)在所述表面造型(28)的區(qū)域中具有根據(jù)ISO標(biāo)準(zhǔn)25178的第二部分作為參數(shù)Sz來測量的、由大約50 μ m到大約1000 μ m的表面粗糙度,優(yōu)選由大約100 μ m到大約500 μ m的表面粗糙度,并且更優(yōu)選地由大約200 μ m到大約400 μ m的表面粗糙度。
      7.根據(jù)上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的清洗元件,其特征在于,所述表面造型(28)至少局部上是均勻規(guī)則地形成的。
      8.根據(jù)上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的清洗元件,其特征在于,所述表面造型(28)的相鄰谷的彼此間距(36)和/或所述表面造型(28)的相鄰峰的彼此間距(38)是同樣大小或基本上同樣大小的。
      9.根據(jù)上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的清洗元件,其特征在于,所述表面造型(28)是設(shè)計為網(wǎng)格結(jié)構(gòu)、肋結(jié)構(gòu)、鱗片結(jié)構(gòu)或疙瘩結(jié)構(gòu)的。
      10.根據(jù)上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的清洗元件,其特征在于,所述清洗元件(10;50 )至少區(qū)段式地被分割為帶(40 )。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的清洗元件,其特征在于,所述帶(40)設(shè)置有表面造型(28)。
      12.根據(jù)上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的清洗元件,其特征在于,所述泡沫薄膜(12)為聚烯烴泡沫薄膜。
      13.根據(jù)上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的清洗元件,其特征在于,所述皮(24、26)在所述皮沒有設(shè)置所述表面造型(28)的區(qū)段上基本上是平坦的。
      14.一種用來制造用于清洗設(shè)備的清洗元件的方法,其特征在于,至少一側(cè)上具有皮的泡沫薄膜經(jīng)受至少一個表面處理步驟,在所述表面處理步驟中使所述皮至少區(qū)段式地設(shè)置有表面造型,增加所述皮的表面粗糙度。
      15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其特征在于,所述表面造型通過壓印所述泡沫薄膜形成。
      【文檔編號】A46B13/00GK103476567SQ201280018456
      【公開日】2013年12月25日 申請日期:2012年4月12日 優(yōu)先權(quán)日:2011年4月13日
      【發(fā)明者】尤努斯·德米爾塔什, 阿爾佛雷德·洛桑斯基 申請人:阿爾弗雷德·凱馳兩合公司
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