專利名稱：Yag晶體的清理方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種清理方法，尤其是YAG晶體的清理方法。
背景技術：
YAG晶體是一種優(yōu)秀的Nd和Yb激光被動Q開關材料，由于它在0. 8 1. 2mm范圍內吸收穩(wěn)定，YAG基質晶體導熱率聞，可聞重頻工作晶體被動Q開關，應用廣泛。YAG晶體機械光學加工完成，要及時清潔晶體加工過程中留下的殘留物。殘留物在機械運動中組合形成了凝膠狀，隨著晶體加工時間延長慢慢積累附著在晶體側面。晶體側面是精磨面，相對拋光面顯得很粗糙，因此殘留物對晶體的附著力很大。一般選用超聲波清洗或手洗，超聲波清洗方便，資金成本大，固化物很難去掉，還是要用清洗劑清洗。手工清洗，工作效率低，容易造成劃傷通光平面，二次污染嚴重，要反復再清洗。造成晶體器件殘留物清洗難度主要是，凝膠狀殘留物的附著力，結痂后就更難去除。

發(fā)明內容
本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種YAG晶體的清理方法，能有效去除YAG晶體表面的殘留物。本發(fā)明是通過以下技術方案來實現的。一種YAG晶體的清理方法，步驟包括(I)在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片50%-60%，酒精 25%-30%、白灰粉 10%-20% ；(2)將YAG晶體放入上述容器，1-2分鐘取出分開晾干；(3)反復步驟(2) 3-5次，上述YAG晶體表面形成一層濁膜；(4)將上述YAG晶體放入爐中在150° C_200° C下加溫1-1. 5小時取出；(5 )將上述YAG晶體用水清洗；(6)將上述YAG晶體烘干。進一步地，上述步驟(I)中，先在容器內放置漆片，然后加入酒精充分稀釋融化至飽和狀態(tài)后，再加入白灰粉均勻攪拌。進一步地，上述步驟(4)中，上述爐為馬弗爐。進一步地,上述步驟(5)中，使用去離子水清洗上述YAG晶體。進一步地，上述步驟(5)中，使用去離子水清洗后，再用清洗液進行清洗。本發(fā)明的有益效果選用本發(fā)明的方法進行清洗，附著在晶體器件的有機物在高溫下燃燒干凈，無機物和晶體器件被有機物隔離，高溫作用下自動脫離不留字跡。工藝簡單，加工方便快捷，成本低，收益提高15% -20%。
具體實施方式
下面根據實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。實施案例1:(I)在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片50%，酒精30%、白灰粉20% ；具體是先在容器內放置漆片，然后加入酒精充分稀釋融化至飽和狀態(tài)后，再加入白灰粉均勻攪拌；(2)將YAG晶體放入上述容器，1-2分鐘取出分開晾干；(3)反復步驟(2) 3-5次，上述YAG晶體表面形成一層濁膜；(4)將上述YAG晶體放入馬弗爐中在150° C_200° C下加溫1_1. 5小時取出；(5)將上述YAG晶體用水清洗，選用去離子水清洗上述YAG晶體，再用清洗液進行清洗；(6 )將上述YAG晶體烘干。實施案例2 (I)在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片60%，酒精30%、白灰粉10% ；具體是先在容器內放置漆片，然后加入酒精充分稀釋融化至飽和狀態(tài)后，再加入白灰粉均勻攪拌；(2)將YAG晶體放入上述容器，1-2分鐘取出分開晾干；(3)反復步驟(2) 3-5次，上述YAG晶體表面形成一層濁膜；(4)將上述YAG晶體放入馬弗爐中在150° C_200° C下加溫1_1. 5小時取出；(5)將上述YAG晶體用水清洗，選用去離子水清洗上述YAG晶體，再用清洗液進行
清洗；(6 )將上述YAG晶體烘干。實施案例3 (I)在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片55%，酒精28%、白灰粉17% ；具體是先在容器內放置漆片，然后加入酒精充分稀釋融化至飽和狀態(tài)后，再加入白灰粉均勻攪拌；(2)將YAG晶體放入上述容器，1-2分鐘取出分開晾干；(3)反復步驟(2) 3-5次，上述YAG晶體表面形成一層濁膜；(4)將上述YAG晶體放入馬弗爐中在150° C_200° C下加溫1_1. 5小時取出；(5)將上述YAG晶體用水清洗，選用去離子水清洗上述YAG晶體，再用清洗液進行
清洗；(6 )將上述YAG晶體烘干。本發(fā)明，YAG晶體的清理方法，選用本發(fā)明的方法進行清洗，附著在晶體器件的有機物在高溫下燃燒干凈，無機物和晶體器件被有機物隔離，高溫作用下自動脫離不留字跡。工藝簡單，加工方便快捷，成本低，收益提高15% -20%。上述實施例只為說明本發(fā)明的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此領域技術的人士能夠了解本發(fā)明內容并加以實施，并不能以此限制本發(fā)明的保護范圍。凡根據本發(fā)明精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍內。
權利要求
1.一種YAG晶體的清理方法，其特征在于，步驟包括: (1)在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片50%-60%，酒精 25%-30%、白灰粉 10%-20% ； (2)將YAG晶體放入所述容器，1-2分鐘取出分開晾干； (3)反復步驟(2)3-5次，所述YAG晶體表面形成一層濁膜； (4)將所述YAG晶體放入爐中在150°C-200。C下加溫1-1.5小時取出； (5)將所述YAG晶體用水清洗； (6 )將所述YAG晶體烘干。
2.根據權利要求1所述的YAG晶體的清理方法，其特征在于，所述步驟(I)中，先在容器內放置漆片，然后加入酒精充分稀釋融化至飽和狀態(tài)后，再加入白灰粉均勻攪拌。
3.根據權利要求1所述的YAG晶體的清理方法，其特征在于，所述步驟(4)中，所述爐為馬弗爐。
4.根據權利要求1所述的YAG晶體的清理方法，其特征在于，所述步驟(5)中，使用去離子水清洗所述YAG晶體。
5.根據權利要求4所述的YAG晶體的清理方法，其特征在于，所述步驟(5)中，使用去離子水清洗后，再用清洗液進行清洗。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種YAG晶體的清理方法，步驟包括在容器內放置漆片，酒精、白灰粉，充分攪拌，其中按照重量百分比，漆片50%-60%，酒精25%-30%、白灰粉10%-20%；將YAG晶體放入上述容器，1-2分鐘取出分開晾干；反復步驟(2)3-5次，上述YAG晶體表面形成一層濁膜；將上述YAG晶體放入爐中在150°C-200°C下加溫1-1.5小時取出；將上述YAG晶體用水清洗；將上述YAG晶體烘干。本發(fā)明的優(yōu)點在于，選用本發(fā)明的方法進行清洗，附著在晶體器件的有機物在高溫下燃燒干凈，無機物和晶體器件被有機物隔離，高溫作用下自動脫離不留字跡。工藝簡單，加工方便快捷，成本低，收益提高15% -20%。
文檔編號B08B7/00GK103071656SQ201310030370
公開日2013年5月1日 申請日期2013年1月25日 優(yōu)先權日2013年1月25日
發(fā)明者萬文, 萬黎明 申請人:安徽環(huán)巢光電科技有限公司