專利名稱：一種有機(jī)發(fā)光微型顯示器抗反射層清洗劑及清洗工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光領(lǐng)域，尤其是有機(jī)發(fā)光顯示器制造過(guò)程中的剝離清洗工藝及其光刻返工工藝中使用的清洗劑。
背景技術(shù)：
在有機(jī)發(fā)光顯示器的制造過(guò)程中，需要采用有抗反射層的雙層膠光刻(一層光刻膠，一層抗反射層)工藝來(lái)保證陽(yáng)極剝離工藝的圖形質(zhì)量。但是光刻膠下層的抗反射層很難在保證陽(yáng)極不被破壞的情況下被通用溶劑所溶解，使得在剝離清洗工藝后，抗反射層仍殘留在陽(yáng)極像素中而導(dǎo)致諸多缺陷的產(chǎn)生，而使用其他溶劑會(huì)造成二次污染以及對(duì)金屬陽(yáng)極表面的腐蝕，影響最終的發(fā)光效果和成品率。同樣由于該抗反射層光膠的存在造成了光刻工藝在返工過(guò)程中面臨諸多的困難。所以需要研究在不損傷金屬電極及IC電路的前提下達(dá)到完全清除抗反射層的效果。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)有機(jī)發(fā)光顯示器抗反射層不便于清洗給像素點(diǎn)剝離工藝及光刻返工工藝帶來(lái)的困難，找到一種適用的清洗劑及與之配套的工藝。本發(fā)明公開(kāi)了一種有機(jī)發(fā)光微型顯示器抗反射層清洗劑，其特征在于用N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機(jī)胺類溶液按照體積比為15:4:Γ15:4:4混合而成。本發(fā)明還公開(kāi)了使用這種清洗劑的清洗工藝，其特征在于包括如下步驟:
(1)將N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機(jī)胺類溶液按照體積比為15:4:Γ15:4:4混合，配制成抗反射層清洗液，將陽(yáng)極剝離后的有機(jī)發(fā)光顯示器IC片或待返工片放入抗反射層清洗液中，在溫度15 25°C下浸泡3-15分鐘，讓抗反射層溶解；
(2)清洗殘留的混合溶劑
i)將經(jīng)過(guò)步驟(I)的陽(yáng)極剝離后的有機(jī)發(fā)光顯示器IC片或待返工片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、N-甲基吡咯烷酮以及有機(jī)胺；
ii)依次使用異丙醇、純水及兆聲清洗有機(jī)發(fā)光顯示器IC片或待返工片。由于清除抗反射層必須使用堿性溶劑破壞其交聯(lián)結(jié)構(gòu)中的羧基(-C00H)，而通用的堿性溶劑中普遍含有氫氧根離子(0H_)以及羥基(-0H)，這兩種離子會(huì)與金屬像素點(diǎn)中的鋁發(fā)生反應(yīng)，從而降低像素點(diǎn)的電性能，導(dǎo)致顯示效果變差。針對(duì)這個(gè)矛盾，本發(fā)明采用的新型清洗劑中含有的有機(jī)胺中主要含有胺基(-NH2),胺基可以破壞抗反射層光膠中的羧基，使該光膠的交聯(lián)結(jié)構(gòu)逐步瓦解，達(dá)到清洗抗反射層的目的。同時(shí)，由于胺基不與金屬像素點(diǎn)中的鋁反應(yīng)，可以達(dá)到保護(hù)金屬像素點(diǎn)的效果。既對(duì)金屬像素點(diǎn)無(wú)腐蝕性又能完全去除抗反射層的配比溶劑進(jìn)行清洗，具有清洗完全、無(wú)腐蝕、無(wú)殘留的優(yōu)點(diǎn)，尤其適用于有機(jī)發(fā)光顯示器的陽(yáng)極抗反射層清洗。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1、
(I)用一乙醇胺配比溶液清洗抗反射層
i)將N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與乙醇胺溶液按照體積比15:4:1比例混合，配置成抗反射層清洗液；
ii)將陽(yáng)極剝離后的有機(jī)發(fā)光顯示器IC片放入抗反射層清洗液中，在、2(T25°C下浸泡8分鐘，將抗反射層溶解。( 2)清洗殘留的混合溶劑
i)將經(jīng)過(guò)步驟(I)的有機(jī)發(fā)光顯示器IC片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、NMP以及乙醇胺；
ii)依次使用異丙醇、純水及兆聲清洗有機(jī)發(fā)光顯示器IC片。實(shí)施例2、· (1)用二乙醇胺配比溶液清洗抗反射層:
i)將N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與乙醇胺溶液按照15:4:2比例混合，配置成抗反射層清洗液；
ii)將光刻返工片放入抗反射層清洗液中，在一定2(T25°C下浸泡5 10分鐘，將抗反射層溶解；
(2)清洗殘留的混合溶劑:
i)將經(jīng)過(guò)步驟(I)的光刻返工片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、NMP以及乙醇胺。ii)使用異丙醇、純水及兆聲清洗光刻返工片。本發(fā)明專門針對(duì)有機(jī)發(fā)光顯示器像素點(diǎn)剝離清洗工藝和光刻返工工藝中的抗反射層清洗提出了一種新型的抗反射層清洗方法，可提高有機(jī)發(fā)光顯示器生產(chǎn)中剝離工藝的良品率和返工片回收率，在工藝及批量生產(chǎn)中有較大的應(yīng)用價(jià)值。
權(quán)利要求
1.一種有機(jī)發(fā)光微型顯示器抗反射層清洗劑，其特征在于用N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機(jī)胺類溶液按照體積比為15:4:Γ15:4:4混合而成。
2.用權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光微型顯示器抗反射層清洗劑進(jìn)行清洗的工藝，其特征在于包括如下步驟: (1)將N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機(jī)胺類溶液按照體積比為15:4:Γ15:4:4混合，配制成抗反射層清洗液，將陽(yáng)極剝離后的有機(jī)發(fā)光顯示器IC片或待返工片放入抗反射層清洗液中，在溫度15 25°C下浸泡3-15分鐘，讓抗反射層溶解； (2)清洗殘留的混合溶劑 i)將經(jīng)過(guò)步驟(I)的陽(yáng)極剝離后的有機(jī)發(fā)光顯示器IC片或待返工片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、N-甲基吡咯烷酮以及有機(jī)胺； ii)依次 使用異丙醇、純水及兆聲清洗有機(jī)發(fā)光顯示器IC片或待返工片。
全文摘要
本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光領(lǐng)域，尤其是有機(jī)發(fā)光顯示器制造過(guò)程中的剝離清洗工藝及其光刻返工工藝中使用的清洗劑。這種清洗劑用N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機(jī)胺類溶液按照體積比為1541~1544混合而成，用這種有機(jī)發(fā)光微型顯示器抗反射層清洗劑進(jìn)行清洗的步驟包括制備清洗劑，將陽(yáng)極剝離后的有機(jī)發(fā)光顯示器IC片或待返工片放入抗反射層清洗液中，在溫度15~25℃下浸泡3-15分鐘，讓抗反射層溶解；將經(jīng)過(guò)陽(yáng)極剝離后的有機(jī)發(fā)光顯示器IC片或待返工片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、N-甲基吡咯烷酮以及有機(jī)胺；依次使用異丙醇、純水及兆聲清洗有機(jī)發(fā)光顯示器IC片或待返工片。具有清洗完全、無(wú)腐蝕、無(wú)殘留的優(yōu)點(diǎn)，尤其適用于有機(jī)發(fā)光顯示器的陽(yáng)極抗反射層清洗。
文檔編號(hào)C11D7/26GK103242985SQ20131011484
公開(kāi)日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2013年4月3日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月3日
發(fā)明者朱亞安, 楊煒平, 鄭云, 段瑜, 王金義 申請(qǐng)人:云南北方奧雷德光電科技股份有限公司