薄板條的異物去除方法及異物去除裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種薄板條的異物去除方法及異物去除裝置。本發(fā)明的異物去除裝置包括：支持輥，卷繞有并支撐所搬送的薄板條，并借由薄板條的搬送而從動旋轉(zhuǎn)；清潔輥，與支持輥之間夾持薄板條，將附著于薄板條面的異物轉(zhuǎn)印至具有粘著性橡膠的輥周面而去除，并借由薄板條的搬送而從動旋轉(zhuǎn)；粘著輥，按壓至清潔輥，將轉(zhuǎn)印至清潔輥的異物轉(zhuǎn)印至具有粘著劑層的輥周面而去除，并借由清潔輥的旋轉(zhuǎn)而從動旋轉(zhuǎn)；中央部周速測定單元，測定清潔輥的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速(V1)；端部周速測定單元，測定支持輥的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速(V2)；及周速差率調(diào)整單元，根據(jù)輥中央部及輥端部的測定值，調(diào)整以[(V2V1)/V1]×100表示的周速差率。
【專利說明】薄板條的異物去除方法及異物去除裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種薄板條的異物去除方法及異物去除裝置，特別是涉及一種去除在制造光學膜的各工序中附著于基底膜(basefilm)、中間制品膜、制品膜等薄板條(web)上的塵埃等異物的薄板條的異物去除方法及異物去除裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]例如，光學補償膜是一面搬送透明的樹脂制的薄板條(基底膜)，一面經(jīng)過皂化處理工序、配向膜形成工序(中間制品膜)、光學各向異性層的形成工序(制品膜)等來制造。
[0003]但是，在各工序中搬送薄板條時，有時在工序內(nèi)懸浮著的塵土或灰塵等異物會借由靜電等之力而附著于薄板條的表面上。當在薄板條的表面上附著有異物的狀態(tài)下進行涂布時會發(fā)生涂布不均，或產(chǎn)生配向不均。此外，使用具有配向不均的配向膜而制造的光學補償膜容易產(chǎn)生光學上的點狀缺陷。
[0004]在光學補償膜等光學膜中，附著于薄板條的表面上的異物成為產(chǎn)生各種缺陷的主要因素，因此確實地加以去除變得重要。
[0005]作為薄板條的表面的異物去除方法，已知的是利用水等清洗液對薄板條的表面進行清洗的方法，但是具有清洗液的選定、由清洗液所導致的薄板條表面的物性變化、設(shè)備的大型化、清洗廢液的處理等缺點。
[0006]作為其它方法，還有對薄板條的表面吹附空氣來去除異物的方法，但是具有在光學膜上成為問題的微米級(micron order)的微細塵埃等異物去除的效果小的缺點。
[0007]由于這樣的背景，業(yè)界廣泛采用粘著橡膠輥方式的異物去除裝置，所述異物去除裝置是通過薄板條的面而使具有粘著性的橡膠輥夾持著，從而將薄板條表面的異物轉(zhuǎn)印至橡膠棍側(cè)來去除，所述薄板條是卷繞并支撐于支持棍(back up roller)上而搬送(例如專利文獻I)。
[0008][現(xiàn)有技術(shù)文獻]
[0009][專利文獻]
[0010][專利文獻I]日本專利特開2000-288483號公報
【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]但是，粘著橡膠輥方式的異物去除裝置存在如下問題:根據(jù)輥的剛性的大小、所搬送的薄板條的薄板條張力(web tension)的大小、夾持壓力的大小等,異物的去除效率變差。此外，還存在如下問題:在薄板條的背面(沒有光學層的面)上沿薄板條行走方向產(chǎn)生條紋狀的擦痕、或產(chǎn)生灰塵。
[0012]本發(fā)明是鑒于這種情況而完成的，目的在于提供一種薄板條的異物去除方法及異物去除裝置，其是以粘著橡膠輥方式去除薄板條異物，且異物的去除效率好，并且可以有效抑制在薄板條背面上沿薄板條行走方向產(chǎn)生條紋狀的擦痕或產(chǎn)生灰塵。
[0013]為了達到所述目的，本發(fā)明的一實施方式的薄板條的異物去除方法是使用支持棍及清潔棍(cleaning roller)來去除附著于所述薄板條的表面上的異物的異物去除方法，所述支持輥卷繞有并支撐所搬送的薄板條，并且借由所述薄板條的搬送而從動旋轉(zhuǎn)，所述清潔輥包含具有粘著性橡膠的輥周面，所述薄板條的異物去除方法包括如下步驟:轉(zhuǎn)印去除步驟，在所述支持輥與所述清潔輥之間夾持所述薄板條，由此使附著于所述薄板條的表面上的異物轉(zhuǎn)印至所述清潔輥；周速測定步驟，測定所述清潔輥的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl (m/min)及所述支持輥的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2 (m/min);及周速差率調(diào)整步驟，調(diào)整所述周速差率，以使由[(V2-V1) /VI] X 100表示的周速差率滿足0.5%以下。
[0014]再者，在本發(fā)明中，是將支持輥的輥兩端部的旋轉(zhuǎn)周速設(shè)為相同來進行說明，然而假使在所述旋轉(zhuǎn)周速不同的情形時，則將旋轉(zhuǎn)周速較大的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速設(shè)為V2。以下相同。
[0015]關(guān)于以粘著橡膠輥方式去除薄板條異物時異物去除效率下降、薄板條背面產(chǎn)生擦痕、產(chǎn)生灰塵的原因，
【發(fā)明者】獲得以下見解。
[0016]S卩，根據(jù)支持輥及清潔輥的剛性的程度、卷繞并支撐于支持輥上的薄板條的張力的大小、利用支持輥及清潔輥夾持薄板條的夾持力的大小，支持輥或清潔輥發(fā)生撓曲時，在作為橡膠制輥的清潔輥的輥中央部及輥端部，旋轉(zhuǎn)周速會產(chǎn)生周速差。借由所述清潔輥的周速差，支持輥的周速加快，從而使薄板條的搬送速度產(chǎn)生偏差，其成為異物的去除效率變差、產(chǎn)生條紋狀的擦痕、灰塵產(chǎn)生的原因。
[0017]再者，關(guān)于借由在清潔輥的輥中央部及輥端部旋轉(zhuǎn)周速產(chǎn)生周速差而使得支持輥的周速與薄板條的搬送速度產(chǎn)生偏差的機理，將在后文描述。
[0018]并且，當將清潔輥的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速設(shè)為Vl (m/min)，將支持輥的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速設(shè)為V2 (m/min)時，使以[(V2V1)/VI] X 100表示的周速差率滿足0.5%以下，由此可改善異物的去除效率，并且抑制條紋狀的擦痕、灰塵產(chǎn)生。
[0019]本發(fā)明的薄板條的異物去除方法是基于所述見解而完成的，當將清潔輥的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速設(shè)為Vl (m/min),將支持棍的棍端部的旋轉(zhuǎn)周速設(shè)為V2 (m/min)時,使以[(V2V1)/VI] X 100表示的周速差率滿足0.5%以下。由此，可改善異物的去除效率，并且抑制條紋狀的擦痕、灰塵產(chǎn)生。
[0020]再者，關(guān)于一面將清潔輥的輥中央部與輥端部的周速差作為問題，一面求出支持棍的棍端部的旋轉(zhuǎn)周速V2的理由，將在后文描述。
[0021]所述薄板條的異物去除方法優(yōu)選的是還包括如下步驟:將粘著輥按壓至清潔輥而使轉(zhuǎn)印至清潔輥的異物轉(zhuǎn)印至粘著輥，所述粘著輥包含具有粘著劑層的輥周面。
[0022]為了達到所述目的，本發(fā)明的另一實施方式的異物去除裝置包括:金屬制或樹脂制的支持輥，卷繞有并支撐所搬送的薄板條，并且借由薄板條的搬送而從動旋轉(zhuǎn)；清潔輥，與支持輥之間夾持薄板條，將附著于薄板條的表面的異物轉(zhuǎn)印至具有粘著性橡膠的輥周面而去除，并且借由薄板條的搬送而從動旋轉(zhuǎn)；中央部周速測定單元，測定清潔輥的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl ;端部周速測定單元，測定支持輥的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2 ;及周速差率調(diào)整單元，根據(jù)輥中央部與所述輥端部的測定值，調(diào)整以[(V2V1) /VI] X 100表示的周速差率。
[0023]根據(jù)所述薄板條的異物去除裝置，包括:中央部周速測定單元，測定清潔輥的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl ;端部周速測定單元，測定支持輥的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2 ;及周速差率調(diào)整單元，根據(jù)輥中央部及輥端部的測定值，調(diào)整以[(V2V1)/VI] X 100表示的周速差率；因此可以改善異物的去除效率，并且有效抑制條紋狀的擦痕、灰塵產(chǎn)生。
[0024]在本發(fā)明中，優(yōu)選的是包括粘著輥，所述粘著輥是按壓至清潔輥，將轉(zhuǎn)印至清潔輥的異物轉(zhuǎn)印至具有粘著劑層的輥周面而去除。并且，優(yōu)選的是支持輥及清潔輥使用軸芯方向的撓曲量為50 μ m以下的輥。
[0025]各輥的撓曲量的測定方法并沒有特別限定，但是可優(yōu)選使用在輥中央部及輥兩端部分別配置激光位移計(laser displacement meter)的方法。
[0026]這樣，借由至少就支持輥及清潔輥而言使用剛性大的輥、即低撓曲性的輥(ro 11 erhaving low flexibility),可以縮小支持棍的棍中央部與棍端部的周速差。
[0027]并且，在本發(fā)明中，周速差率調(diào)整單元優(yōu)選的是包角調(diào)整單元與夾持壓力調(diào)整單元中的至少一個，所述包角調(diào)整單元調(diào)整卷繞于支持輥上的薄板條的包角度，所述夾持壓力調(diào)整單元調(diào)整將薄板條夾持于支持輥與清潔輥之間的夾持壓力。
[0028]其原因在于，借由利用包角調(diào)整單元來改變纏繞于支持輥上的薄板條的包角，可以縮小清潔輥的輥中央部與輥端部的周速差。優(yōu)選的是將包角度設(shè)為20°以下。
[0029]并且，其原因在于，借由利用夾持壓力調(diào)整單元來調(diào)整支持輥與清潔輥之間的夾持壓力，可以縮小清潔輥的輥中央部與輥端部的周速差。優(yōu)選的是將夾持壓力調(diào)整為0.5N/cm以上、1.0N/cm以下。借由如上所述將夾持壓力調(diào)整為0.5N/cm以上、1.0N/cm以下，支持輥的輥中央部與輥端部的周速差進一步縮小，從而可以提高異物去除性能，另一方面，可以更有效地防止在薄板條背面產(chǎn)生擦痕。
[0030]并且，在本發(fā)明中，優(yōu)選的是清潔輥的輥主體部為橡膠制，并且橡膠硬度為20°?60。。
[0031]并且，在本發(fā)明中，優(yōu)選的是薄板條為制造光學膜時的基底膜、中間制品膜、制品膜中的任一個。其原因在于，就光學膜而言，附著于薄板條的表面上的微細異物會導致光學特性的缺陷，并且異物去除時的擦痕或灰塵產(chǎn)生也會造成光學特性的下降。
[0032][發(fā)明的效果]
[0033]根據(jù)本發(fā)明的薄板條的異物去除方法及異物去除裝置，以粘著橡膠輥方式去除薄板條異物時，異物的去除效率好，并且可有效抑制在薄板條的背面上沿薄板條行走方向產(chǎn)生條紋狀的擦痕或產(chǎn)生灰塵。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0034]圖1是本發(fā)明的異物去除裝置的實施方式的側(cè)視圖。
[0035]圖2是本發(fā)明的異物去除裝置的實施方式的俯視圖。
[0036]圖3是包角的說明圖。
[0037]圖4是產(chǎn)生于薄板條背面的擦痕的說明圖。
[0038]圖5是說明清潔輥的周速差的產(chǎn)生機理的說明圖。
[0039]圖6是說明圖5的機理中的輥中央部的狀態(tài)的說明圖。
[0040]圖7是說明圖5的機理中的輥端部的狀態(tài)的說明圖。
[0041]圖8是說明薄板條的包角度及薄板條張力與支持輥的輥撓曲量的關(guān)系的說明圖。
[0042]圖9是說明夾持壓力與支持輥的旋轉(zhuǎn)周速的關(guān)系的說明圖。
[0043][符號的說明][0044]10:異物去除裝置
[0045]12:支持輥
[0046]14:清潔輥
[0047]16:粘著輥
[0048]18:第I移動平臺
[0049]20:輥支撐臺
[0050]22:軸承
[0051]24:基座
[0052]26:第 I 軌道
[0053]28:線性導向件
[0054]30:第I氣缸裝置
[0055]30A:活塞桿
[0056]32:第2移動平臺
[0057]34:輥支撐臺
[0058]36:軸承
[0059]38:第 2 軌道
[0060]40:線性導向件
[0061]42:第2氣缸裝置
[0062]42A:活塞桿
[0063]44:第3移動平臺
[0064]46:棍支撐臺
[0065]48:軸承
[0066]50:第 3 軌道
[0067]52:線性導向件
[0068]54:第3氣缸裝置
[0069]54A:活塞桿
[0070]56A:中央部周速測定單兀
[0071]56B:端部周速測定單元
[0072]58:周速差率調(diào)整單兀
[0073]58A:包角調(diào)整單元
[0074]58B:夾持壓力調(diào)整單元
[0075]60:控制器
[0076]61:導輥
[0077]62:接合輥
[0078]63:氣缸裝置
[0079]64:桿
[0080]P:擦痕
[0081]W:薄板條
[0082]X:開始接觸的接點[0083]Y:接觸結(jié)束的接點【具體實施方式】
[0084]以下，一面參照附圖，一面詳細說明本發(fā)明的薄板條的異物去除方法及異物去除裝置的優(yōu)選實施方式。
[0085]此處，圖中，以相同符號表示的部分是具有相同功能的相同的要素。并且，在本說明書中，當使用“?”表示數(shù)值范圍時，以“?”表示的上限的數(shù)值、下限的數(shù)值也包含于數(shù)值范圍內(nèi)。
[0086][異物去除裝置的構(gòu)成]
[0087]圖1是自側(cè)面觀察本發(fā)明的實施方式的薄板條的異物去除裝置10的側(cè)視圖，圖2是自上表面觀察的俯視圖。并且，本發(fā)明的實施方式的薄板條的異物去除裝置10并不限定使用用途，但是特別適用于去除在制造光學膜的各工序中附著于基底膜、中間制品膜、制品膜等薄板條上的塵埃等異物的裝置。
[0088]如圖1及圖2所示，支持輥12、清潔輥14及粘著輥16三根輥是將輥的軸芯高度位置設(shè)成相同而被平行配置。
[0089]支持輥12旋轉(zhuǎn)自如地支撐于一對軸承22、22上，所述一對軸承22、22對向配置于輥支撐臺20上，所述輥支撐臺20固定于第I移動平臺18上。第I移動平臺18通過線性導向件(linear guide) 28,28而滑動自如地支撐于平行的一對第I軌道26、26上，所述一對第I軌道26、26鋪設(shè)于基座24上。并且，在基座24上設(shè)置有使第I移動平臺18在第I軌道26上移動的一對第I氣缸裝置30、30，并且各個活塞桿(piston rod)30A、30A前端固著于第I移動平臺18上。
[0090]支持輥12形成為將金屬制或樹脂制的輥主體部設(shè)置于由金屬形成的輥芯上的輥。當輥主體部為金屬制時，優(yōu)選的是在輥表面上實施例如鎳鉻合金鍍敷等硬質(zhì)化處理。并且，當輥主體部為樹脂制時，優(yōu)選的是使用硬質(zhì)性樹脂。再者，支持輥12并不限定于金屬制或樹脂制，可使用輥主體部由硬質(zhì)材料形成的輥。
[0091]清潔輥14旋轉(zhuǎn)自如地支撐于一對軸承36、36上，所述一對軸承36、36對向配置于輥支撐臺34上，所述輥支撐臺34固定于第2移動平臺32上。第2移動平臺32通過線性導向件40、40而滑動自如地支撐于平行的一對第2軌道38、38上，所述一對第2軌道38、38鋪設(shè)于基座24上。并且，在基座24上設(shè)置有使第2移動平臺32在第2軌道38上移動的一對第2氣缸裝置42、42，各個活塞桿42A、42A前端固著于第2移動平臺32上。并且，第2氣缸裝置42、42與第I氣缸裝置30、30相對向而配置。
[0092]清潔輥14形成為橡膠輥，其將具有粘著性的橡膠制的輥主體部設(shè)置于由金屬形成的輥芯上。作為清潔輥14的輥表面的粘著力，優(yōu)選的是I (hPa)?60(hPa)的范圍。并且，作為輥主體部的橡膠硬度，優(yōu)選的是20°?60°的范圍。
[0093]清潔輥14的橡膠硬度的測定方法是依據(jù)彈簧(spring)式A型(JIS K6301A,JIS是日本工業(yè)標準(Japan Industrial Standards的略寫))的方法,與利用橡膠硬度計(durometer)A進行的測定數(shù)值相同。
[0094]并且，清潔輥14的輥表面的粘著力的測定方法是依據(jù)JIS K6256。
[0095]粘著輥16旋轉(zhuǎn)自如地支撐于一對軸承48、48上，所述一對軸承48、48對向配置于輥支撐臺46上，所述輥支撐臺46固定于第3移動平臺44上。第3移動平臺44通過線性導向件52、52而滑動自如地支撐于平行的一對第3軌道50、50上，所述一對第3軌道50、50鋪設(shè)于第2移動平臺32上。并且，在第2移動平臺32上，設(shè)置有使第3移動平臺44在第3軌道50上移動的一對第3氣缸裝置54、54，各個活塞桿54A、54A前端固著于第3移動平臺44上。并且，第3氣缸裝置54、54朝向與第2氣缸裝置42、42相同的方向而配置。
[0096]粘著輥16形成為在金屬制的輥芯上具有粘著劑層的輥，所述粘著劑層的粘著性大于清潔輥的橡膠制的輥主體部。粘著劑層可以由粘著性大于清潔輥的橡膠所形成，或者也可以為在金屬制的輥芯上卷繞有粘著橡膠帶的粘著膠帶輥。作為粘著劑層的粘著力，優(yōu)選的是在JIS K6256的測定方法中處于50(hPa)?400 (hPa)的范圍。
[0097]支持輥12、清潔輥14及粘著輥16的輥面長形成為長于薄板條W的寬度。例如，輥面長優(yōu)選的是比薄板條W的寬度長IOOmm?200mm左右。并且，優(yōu)選的是支持輥12、清潔輥14及粘著輥16中，至少支持輥12及清潔輥14使用軸芯方向的撓曲量為IOOym以下的低撓曲棍，優(yōu)選的是使用軸芯方向的撓曲量為50 μ m以下的低撓曲棍。
[0098]作為低撓曲輥，只要撓曲量為100 μ m以下便沒有特別限定，例如，可使用三菱樹脂股份有限公司制的“雙重管低撓曲輥”或“碳質(zhì)輥(carbon roll)”。當使用“雙重管低撓曲輥”及“碳質(zhì)輥”時，優(yōu)選的是將“碳質(zhì)輥”用于支持輥12，將“雙重管低撓曲輥”用于清潔輥14。
[0099]并且，在異物去除裝置10中，設(shè)置有:中央部周速測定單元56A，測定清潔輥14的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl ;端部周速測定單元56B，測定支持輥12的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2 ；及周速差率調(diào)整單元58 (58A、58B)，根據(jù)輥中央部及輥端部的測定值，調(diào)整以[(V2-V1)/VI] XlOO表示的周速差率。
[0100]此處，本發(fā)明將清潔輥14的輥中央部與輥端部的周速差作為問題，并且說明測定支持輥12的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2的理由。
[0101]S卩，當清潔輥14發(fā)生了撓曲時橡膠制的清潔輥14的兩端部被強力按壓至支持輥12的兩端部而發(fā)生變形，因此無法測定準確的旋轉(zhuǎn)周速。此外，其原因在于，可將支持輥12的輥兩端部的旋轉(zhuǎn)周速視作清潔輥14的輥兩端部的旋轉(zhuǎn)周速V2。
[0102]因此，如圖2所示，輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl是在清潔輥14的中央部設(shè)置中央部周速測定單元56A來進行測定，另一方面，關(guān)于輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2，是在支持輥12的兩端部設(shè)置端部周速測定單元56B來進行測定。
[0103]關(guān)于支持輥12的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速可被視作清潔輥14的輥兩端部的旋轉(zhuǎn)周速V2，請參照下述的機理。
[0104]中央部周速測定單元56A及端部周速測定單元56B優(yōu)選的是使用非接觸的測定單元。作為非接觸的測定單元，例如可優(yōu)選采用利用激光多普勒速度計(laser Dopplervelocimeter)來測定輥周速的單元。圖2中，是將端部周速測定單元56B分別設(shè)置于支持輥12的兩端部，但是可以將端部周速測定單元56B只設(shè)置于支持輥12的一端側(cè)。將支持輥12的輥兩端部的旋轉(zhuǎn)周速設(shè)為相同來進行說明，但假設(shè)在所述旋轉(zhuǎn)周速不同的情形時，則將端部周速測定單元56B分別設(shè)置于支持輥12的兩端部，將旋轉(zhuǎn)周速較大的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速設(shè)為V2。
[0105]利用中央部周速測定單元56A及端部周速測定單元56B所測定的旋轉(zhuǎn)周速V1、旋轉(zhuǎn)周速V2通過信號電纜(signal cable)而發(fā)送至控制器60。
[0106]并且，作為周速差率調(diào)整單元58，可優(yōu)選采用包角(wrap angle)調(diào)整單元58A及夾持壓力(nip pressure)調(diào)整單元58B。
[0107]包角調(diào)整單元58A調(diào)整卷繞并支撐于支持輥12上的薄板條W的包角(卷繞角度)，可以設(shè)置于薄板條搬送方向上的支持輥12的入口側(cè)、出口側(cè)中的任一個，但更優(yōu)選的是出口側(cè)。
[0108]如圖3所示,包角(Θ )是指薄板條W與支持棍12開始接觸的接點X與接觸結(jié)束的接點Y所成的中心角。
[0109]包角調(diào)整單元58A如圖1所示，在支持輥12與導輥61之間的薄板條搬送線上，設(shè)置有接合于薄板條W的接合輥62。薄板條W呈S字狀地架設(shè)于支持輥12、接合輥62、導輥61之間而被搬送。接合輥62的旋轉(zhuǎn)軸兩端旋轉(zhuǎn)自如地支撐于一對氣缸裝置63、63的桿64、64上，所述一對氣缸裝置63、63沿薄板條W的寬度方向配設(shè)。由此，借由氣缸裝置63、63使桿64、64伸縮，而可以使薄板條W的包角(Θ )可變化。
[0110]夾持壓力調(diào)整單元58B調(diào)整在支持輥12與清潔輥14之間夾持薄板條W的夾持壓力，借由通過信號電纜將第2氣缸裝置42與控制器60相連接而構(gòu)成。即，借由來自控制器60的指令，來控制第2氣缸裝置42中的活塞桿的伸長量，由此調(diào)整夾持壓力。再者，第I氣缸裝置30進行支持輥12的裝卸。第3氣缸裝置54調(diào)整清潔輥14與粘著輥16之間的夾持壓力。所述第I氣缸裝置30及第3氣缸裝置54的控制既可以由控制器60來兼任，也可以設(shè)置其它控制器。
[0111]其次，說明使用如上所述構(gòu)成的異物去除裝置10去除附著于薄板條W的面上的異物的異物去除方法。
[0112]借由使第I氣缸裝置30與第2氣缸裝置42的活塞桿30A、活塞桿42A進行伸長動作，來夾持薄板條W，所述薄板條W卷繞并支撐于支持輥12上而被搬送。由此，將附著于薄板條W的面上的塵埃等異物轉(zhuǎn)印至清潔輥14來去除。
[0113]并且，借由使第3氣缸裝置54的活塞桿54A進行伸長動作，而使粘著輥16按壓至清潔輥14，因此將轉(zhuǎn)印至清潔輥14的異物進而轉(zhuǎn)印至粘著輥16而去除。由此，可連續(xù)地去除所搬送的薄板條W的面的異物。
[0114]在所述異物去除時，利用中央部周速測定單元56A及端部周速測定單元56B來依次測定清潔輥14的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl及支持輥12的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2，并將測定值依次發(fā)送至控制器60?？刂破?0根據(jù)所測定的旋轉(zhuǎn)周速V1、旋轉(zhuǎn)周速V2，運算出以[(V2-V1) /VI] X 100表示的周速差率，判斷周速差率是否為0.5%以下。
[0115]接著，若周速差率為0.5%以下，則控制器60使異物去除裝置10仍舊運轉(zhuǎn)。并且，當周速差率超過0.5%時，控制器60控制包角調(diào)整單元58A及夾持壓力調(diào)整單元58B中的至少一個，使周速差率達到0.5 %以下。即，借由包角調(diào)整單元58A，而縮小卷繞在支持輥12上的薄板條W的包角(Θ )，以使所述包角(Θ )例如達到20°以下。并且，調(diào)整夾持壓力調(diào)整單元58B，以使夾持壓力例如達到0.5N/cm以上、1.0N/cm以下的方式進行調(diào)整。
[0116]由此，周速差率達到0.5%以下，因此在以粘著橡膠輥方式去除薄板條異物時，異物的去除效率好，并且可有效抑制在薄板條W的背面(沒有涂布膜的面)上沿薄板條行走方向產(chǎn)生條紋狀的擦痕P (參照圖4)或產(chǎn)生灰塵。[0117]在這里，說明根據(jù)薄板條W的張力的大小或夾持壓力的大小，而在清潔輥14的中央部周速與端部周速之間產(chǎn)生周速差的機理。
[0118]圖5是夸大表現(xiàn)支持輥12因薄板條W的張力而撓曲成弓狀的狀態(tài)的圖。并且，圖6是沿a-a線切斷圖5所示的支持輥12的輥中央部的剖面圖，圖7的㈧是沿b_b線切斷輥端部的剖面圖。
[0119]當如圖5所示支持輥12因薄板條W的張力而撓曲時，清潔輥14的輥中央部向夾持壓力減弱的方向起作用。因此，如圖6所示，清潔輥14的輥中央部的變形少。并且，清潔輥14的輥中央部與薄板條W相接觸，具有粘著性而對薄板條W的夾緊(grip)力大，因此以與薄板條W的搬送速度相同的速度進行旋轉(zhuǎn)。
[0120]另一方面，清潔輥14的兩端部不經(jīng)由薄板條W而與支持輥12直接接觸，所述清潔輥14的輥面長大于薄板條W的寬度。并且，借由經(jīng)撓曲的支持輥12而向夾持壓力增強的方向起作用，因此清潔輥14的輥兩端部的變形增大。
[0121]圖7的⑶是清潔輥14的輥端部與支持輥12的接觸部分的放大圖。如圖7的(B)所示，橡膠制的清潔輥14(以斜線表示)的輥端部在以B1-B2表示的部分呈凹狀地變形，所述橡膠制的清潔輥14比支持輥12更軟。此外，凹狀的兩端被支持輥12稍微覆蓋，因此結(jié)果為，清潔輥14的輥端部在A1-A2的部分呈凹狀地與支持輥12相接觸。并且，以A1-A2表示的凹狀的曲線的長度大于以B1-B2表示的凹狀的曲線的長度，因此清潔輥14的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速大于輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速。
[0122]并且，清潔輥14的輥兩端部與支持輥12的輥兩端部直接接觸而夾緊，因此使支持輥12以與清潔輥14的兩端部的旋轉(zhuǎn)周速相同的旋轉(zhuǎn)周速進行旋轉(zhuǎn)。即，如上所述，支持輥12的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2可視作清潔輥14的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速。
[0123]其結(jié)果為，支持輥12的旋轉(zhuǎn)周速大于薄板條W的搬送速度，支持輥12與薄板條W產(chǎn)生滑動(slip)。
[0124]由此，如圖4所示，因附著于薄板條W的背面上的塵埃等異物而在薄板條W的背面上沿薄板條搬送方向產(chǎn)生擦痕P。例如，因1%的滑動而產(chǎn)生約200μπι的擦痕。并且，容易因滑動而產(chǎn)生灰塵。
[0125]并且，因支持輥12的撓曲導致清潔輥14的輥中央部上的夾持壓力減弱，由此異物去除效率也下降。
[0126]再者，以上所說明的機理是如下情況，即，支持輥12因薄板條W的張力而發(fā)生撓曲，由此在清潔輥14的輥中央部與輥端部產(chǎn)生周速差。但是，當支持輥12或清潔輥14因夾持壓力而發(fā)生撓曲時也是因同樣的機理，而在清潔輥14的輥中央部與輥端部產(chǎn)生周速差。
[0127]因此，本
【發(fā)明者】努力研究了清潔輥14的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl與支持輥12的輥兩端部的旋轉(zhuǎn)周速V2的差、換而言之、清潔輥14的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl與清潔輥14的輥兩端部的旋轉(zhuǎn)周速的差可容許到何種程度的結(jié)果，得知只要以[(V2-V1)/V1]X100表示的周速差率為0.5%以下，則在異物去除性能、擦痕及灰塵產(chǎn)生的抑制方面不存在實際應(yīng)用上的問題。
[0128]并且，借由實施以下三種方法中的至少一種，周速差率可以達到0.5%以下。
[0129](I)使用支持輥12、清潔輥14及粘著輥16中至少支持輥12及清潔輥14的軸芯方向的撓曲量為50 μ m以下的低撓曲輥。[0130](2)借由包角調(diào)整單元58A而調(diào)整卷繞并支撐于支持輥12上的薄板條W的包角
(θ ) O
[0131]圖8是表示卷繞在支持輥12上的薄板條W的包角(Θ )及薄板條張力與支持輥12的輥撓曲量(μπι)的關(guān)系的圖。如自圖8所知，在相同的薄板條張力下，包角(Θ)越大，支持輥12的輥撓曲量越大。因此，借由利用包角調(diào)整單元58Α來縮小卷繞并支撐于支持輥12上的薄板條W的包角(Θ)，可縮小支持輥12的輥撓曲量。由此，根據(jù)以上所說明的機理，可縮小清潔輥14的周速差率。作為包角(Θ)，優(yōu)選的是設(shè)為20°以下。
[0132](3)借由夾持壓力調(diào)整單元58Β，而調(diào)整支持輥12與清潔輥14之間的夾持壓力。
[0133]圖9是表示夾持壓力(N/cm)與支持輥12的旋轉(zhuǎn)周速的關(guān)系的圖。圖9的以三角形表示的點所連成的線為支持棍12的旋轉(zhuǎn)周速(m/min)。并且，以四邊形表示的點所連成的線為搬送薄板條W的搬送棍(pass roller)的旋轉(zhuǎn)周速(m/min),相當于薄板條W的搬送速度。
[0134]若將夾持壓力增大下去，則根據(jù)以上所說明的機理，清潔輥14的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速增大，隨之支持輥12的旋轉(zhuǎn)周速增大。
[0135]因此，借由利用夾持壓力調(diào)整單元58B來縮小支持輥12與清潔輥14的夾持壓力，根據(jù)以上所說明的機理，可縮小清潔輥14的周速差率。作為夾持壓力，優(yōu)選的是設(shè)為0.5N/cm以上、1.0N/cm以下。
[0136][實施例]
[0137]關(guān)于本發(fā)明的實施方式中所說明的薄板條的異物去除方法及異物去除裝置，具體說明進行試驗的結(jié)果。
[0138][異物去除裝置的條件]`
[0139]〈薄板條〉
[0140].種類......三醋酸纖維素膜(TAC, triacetate cellulose)
[0141]?寬度......1490mm
[0142]?搬送速度……IOOm/分
[0143]?搬送張力……350N
[0144]〈支持輥〉
[0145].棍面長......1650mm
[0146].棍徑......1 1 Omm
[0147].種類……金屬制輥
[0148].使用了撓曲量約為600 μ m的鋁管式的支持輥、及撓曲量約為50 μπι的低撓曲式的支持輥兩種。
[0149]〈清潔輥〉
[0150].棍面長......1650mm
[0151]?棍徑......110mm
[0152]?種類......粘著性橡膠輥
[0153]?橡膠硬度......35。
[0154].粘著力......1OhPa
[0155].使用了撓曲量約為600 μ m的鋁管式的清潔輥、及撓曲量約為50 μπι的低撓曲式的清潔輥兩種。
[0156]〈粘著輥〉
[0157]?輥面長......1650mm
[0158].棍徑......1OOmm
[0159]?種類......粘著性橡膠輥
[0160]?粘著力......90hPa[0161].使用了撓曲量約為600 μ m的鋁管式的粘著輥、及撓曲量約為50 μ m的低撓曲式的粘著棍兩種。[0162]
【權(quán)利要求】
1.一種薄板條的異物去除方法，使用支持輥及清潔輥來去除附著于所述薄板條的表面上的異物，所述支持輥卷繞有并支撐所搬送的薄板條，并且借由所述薄板條的搬送而從動旋轉(zhuǎn)，所述清潔輥包含具有粘著性橡膠的輥周面，所述薄板條的異物去除方法的特征在于包括如下步驟: 轉(zhuǎn)印去除步驟，在所述支持輥與所述清潔輥之間夾持所述薄板條，由此使附著于所述薄板條的表面上的異物轉(zhuǎn)印至所述清潔輥； 周速測定步驟，測定所述清潔輥的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl (m/min)及所述支持輥的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2 (m/min);及 周速差率調(diào)整步驟，調(diào)整所述周速差率，以使由[(V2-V1)/V1]X100表示的周速差率滿足0.5%以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄板條的異物去除方法，其特征在于，還包括如下步驟:將粘著輥按壓至所述清潔輥而使轉(zhuǎn)印至所述清潔輥的所述異物轉(zhuǎn)印至所述粘著輥，所述粘著輥包含具有粘著劑層的輥周面。
3.一種薄板條的異物去除裝置，其特征在于包括: 支持輥，卷繞有并支撐所搬送的薄板條，并且借由所述薄板條的搬送而從動旋轉(zhuǎn)；清潔輥，借由所述薄板條的搬送而從動旋轉(zhuǎn)，并包含具有粘著性橡膠的輥周面，并且在與所述支持輥之間夾持所述薄板條，將附著于所述薄板條的表面上的異物轉(zhuǎn)印至所述輥周面上； 中央部周速測定單元，測定所述清潔輥的輥中央部的旋轉(zhuǎn)周速Vl ； 端部周速測定單元，測定所述支持輥的輥端部的旋轉(zhuǎn)周速V2 ;及周速差率調(diào)整單元，根據(jù)所述輥中央部及所述輥兩端部的測定值，調(diào)整由[(V2-V1)/VI] XlOO表示的周速差率。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄板條的異物去除裝置，其特征在于包括:粘著輥，按壓至所述清潔輥而將轉(zhuǎn)印至所述清潔輥的所述異物轉(zhuǎn)印至具有粘著劑層的輥周面而去除。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的薄板條的異物去除裝置，其特征在于， 所述支持輥及所述清潔輥是使用軸芯方向的撓曲量為50 μ m以下的輥。
6.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的薄板條的異物去除裝置，其特征在于， 所述周速差率調(diào)整單元是如下單元中的至少一個: 包角調(diào)整單元，調(diào)整卷繞在所述支持輥上的所述薄板條的包角度；及 夾持壓力調(diào)整單元，調(diào)整將所述薄板條夾持于所述支持輥與所述清潔輥之間的夾持壓力。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的薄板條的異物去除裝置，其特征在于， 所述包角調(diào)整單元將所述包角度設(shè)為20°以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的薄板條的異物去除裝置，其特征在于， 所述夾持壓力調(diào)整單元將所述夾持壓力調(diào)整為0.5N/cm以上、1.0N/cm以下。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄板條的異物去除裝置，其特征在于， 所述薄板條為制造光學膜時的基底膜、中間制品膜、制品膜中的任一個。
【文檔編號】B08B1/02GK103567164SQ201310316416
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年7月25日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月27日
【發(fā)明者】坂本真澄, 田﨑大輔 申請人:富士膠片株式會社