一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種清潔方法，尤其是一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法；本發(fā)明的目的是為了提供一種采用化學(xué)成分技術(shù)，運用超聲儀器及人工清洗的方式進行配方洗滌的有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法；本發(fā)明所得到的一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法，可用于各種陶瓷材料的清洗，清洗過程中可有效去除陶瓷內(nèi)的雜質(zhì)，使陶瓷材質(zhì)得到再利用，從而降低企業(yè)的成本，這種清潔方法具有工藝簡單、成本低、獲利大、適用性強和推廣面大等優(yōu)點。
【專利說明】一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種清潔方法，尤其是一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法。
【背景技術(shù)】
[0002]軟陶瓷盤是我們化纖企業(yè)加彈設(shè)備中的核心器件，在整個加彈過程中起到加捻和解捻作用，為了防止因陶瓷盤損傷后加捻解捻質(zhì)量失效，故采取陶瓷清洗方式進行去除污垢。
[0003]目前市面上使用的各類洗滌產(chǎn)品只能洗掉普通表面的灰塵，達不到深入清潔帶走陶瓷盤微孔內(nèi)的雜質(zhì)，同時，生產(chǎn)過程中發(fā)現(xiàn)長期在使用的陶瓷盤從原先有微孔的表面逐漸受切片粉塵等雜質(zhì)的滲入形成平面而使絲束加捻和解捻時打滑，失去了原有加摩的阻力，影響了產(chǎn)品質(zhì)量。操作中不能加捻定型則絲條不能拉伸進行正常加彈而導(dǎo)致員工生頭困難，工作效率下降，廢絲增加，勞動強度增加，還影響生產(chǎn)指標(biāo)的提升，導(dǎo)致員工離職多、公司效益下降等諸多問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是為了解決上述技術(shù)的不足，而提供一種采用化學(xué)成分技術(shù)，運用超聲儀器、烘箱及人工清洗的方式進行配方洗滌，且適用于各種陶瓷等材質(zhì)材料的有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法。
[0005]為了達到上述目的，本發(fā)明所設(shè)計的一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法，具體步驟如下:
[0006]第一步，將陶瓷盤鋪平放入超聲波內(nèi)以60°C ±3°C加熱溫度配用洗潔精進行洗滌，以10分鐘作正反面均勻洗滌，半小時后取出并用清水沖洗干凈，放入烘箱中于50 0C ±3°C溫度下烘干；
[0007]第二步，調(diào)配濃度為30% ±2%的鹽酸溶液，放入鹽酸槽中；
[0008]第三步，將烘干好的陶瓷盤用扎帶練成一串放入鹽酸溶液中，在常溫下進行封閉式浸潰；
[0009]第四步，每4小時作正反面浸泡調(diào)整以達到均勻清洗，直至24小時；
[0010]第五步，取出陶瓷盤，以30°C ±3°C左右溫水作沖洗干凈，然后放于50°C ±3°C溫度下烘干；
[0011]第六步，采用顯微鏡檢查清潔程度，檢查時有三種結(jié)果，具體如下:
[0012](I)完全清潔，符合使用要求；
[0013](2)不夠清潔，不符合使用要求，繼續(xù)按上述方式清洗一次；
[0014](3)清潔但表面受到損傷，無法繼續(xù)使用，則淘汰。
[0015]本發(fā)明所得到的一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法，可用于各種陶瓷材料的清洗，清洗過程中可有效去除陶瓷內(nèi)的雜質(zhì)，使陶瓷材質(zhì)得到再利用，從而降低企業(yè)的成本，這種清潔方法具有工藝簡單、成本低、獲利大、適用性強和推廣面大等優(yōu)點。[0016]以往，企業(yè)是采用外包給專業(yè)的清洗商進行陶瓷盤污潰清洗，每片需要5元清洗費,如此一臺加彈機240錠X6片/錠X5元=7200元。但清洗效果不是很好，內(nèi)層沒有得到有效清除，也沒有解決上述問題；后來，我們采用更換新陶瓷盤方法徹底解決問題，但是，維修成本非常昂貴，一塊新陶瓷盤價格就要94.91元，如此一臺加彈機維修成本就要240錠X6片/錠X94.91元=136670.4元。本發(fā)明所采用的清洗方法雖然洗滌、清洗、浸泡、烘干等步驟多，但操作簡單價格更是便宜，我們的清洗主要成分是鹽酸，清洗一臺加彈機的陶瓷盤需要40KG，每公斤16.26元，而且可以經(jīng)過反復(fù)使用，一般40KG可以清洗干凈兩臺機的陶瓷盤，第三次該溶液還可以作清洗空壓機使用，如此清洗一臺加彈機只需成本40X16.26/2 = 325.2元，且清洗效果非常好，能全部解決上述的問題，大大降低了企業(yè)的維修成本，也提升了企業(yè)的獲利空間。
【具體實施方式】
[0017]下面通過實施例對本發(fā)明作進一步的描述。
[0018]實施例1:
[0019]本實施例描述的一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法，具體步驟如下:
[0020]第一步，將陶瓷盤鋪平放入超聲波內(nèi)以58°C加熱溫度配用洗潔精進行洗滌，以10分鐘作正反面均勻洗滌，半小時后取出并用清水沖洗干凈，放入烘箱中于48°C溫度下烘干;
[0021]第二步，調(diào)配濃度為30%的鹽酸溶液，放入鹽酸槽中；
[0022]第三步，將烘干好的陶瓷盤用扎帶練成一串放入鹽酸溶液中，在常溫下進行封閉式浸潰；
[0023]第四步，每4小時作正反面浸泡調(diào)整以達到均勻清洗，直至24小時；
[0024]第五步，取出陶瓷盤，以33°C左右溫水作沖洗干凈，然后放于48°C溫度下烘干；
[0025]第六步，采用顯微鏡檢查清潔程度。
[0026]實施例2:
[0027]本實施例描述的一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法，具體步驟如下:
[0028]第一步，將陶瓷盤鋪平放入超聲波內(nèi)以63°C加熱溫度配用洗潔精進行洗滌，以10分鐘作正反面均勻洗滌，半小時后取出并用清水沖洗干凈，放入烘箱中于52°C溫度下烘干;
[0029]第二步，調(diào)配濃度為30%的鹽酸溶液，放入鹽酸槽中；
[0030]第三步，將烘干好的陶瓷盤用扎帶練成一串放入鹽酸溶液中，在常溫下進行封閉式浸潰；
[0031]第四步，每4小時作正反面浸泡調(diào)整以達到均勻清洗，直至24小時；
[0032]第五步，取出陶瓷盤，以28°C左右溫水作沖洗干凈，然后放于52°C溫度下烘干；
[0033]第六步,采用顯微鏡檢查清潔程度。
[0034]實施例3:
[0035]本實施例描述的一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法，具體步驟如下:
[0036]第一步，將陶瓷盤鋪平放入超聲波內(nèi)以60°C加熱溫度配用洗潔精進行洗滌，以10分鐘作正反面均勻洗滌，半小時后取出并用清水沖洗干凈，放入烘箱中于50°C溫度下烘干;
[0037]第二步，調(diào)配濃度為30%的鹽酸溶液，放入鹽酸槽中；
[0038]第三步，將烘干好的陶瓷盤用扎帶練成一串放入鹽酸溶液中，在常溫下進行封閉式浸潰；
[0039]第四步，每4小時作正反面浸泡調(diào)整以達到均勻清洗，直至24小時；
[0040]第五步，取出陶瓷盤，以30°C左右溫水作沖洗干凈，然后放于50°C溫度下烘干；[0041 ]第六步，采用顯微鏡檢查清潔程度。
【權(quán)利要求】
1.一種有效去除陶瓷盤雜質(zhì)的清潔方法，其特征在于: 第一步，將陶瓷盤鋪平放入超聲波內(nèi)以60°c ±3°C加熱溫度配用洗潔精進行洗滌，以10分鐘作正反面均勻洗滌，半小時后取出并用清水沖洗干凈，放入烘箱中于50°C ±3°C溫度下烘干； 第二步，調(diào)配濃度為30%±2%的鹽酸溶液，放入鹽酸槽中； 第三步，將烘干好的陶瓷盤用扎帶練成一串放入鹽酸溶液中，在常溫下進行封閉式浸潰； 第四步，每4小時作正反面浸泡調(diào)整以達到均勻清洗，直至24小時； 第五步，取出陶瓷盤，以30°C ±3°C左右溫水作沖洗干凈，然后放于50°C ±3°C溫度下烘干； 第六步，采用顯微鏡檢查清潔程度，檢查時有三種結(jié)果，第一種，完全清潔，符合使用要求；第二種，不夠清潔，不符合使用要求，繼續(xù)按上述方式清洗一次；第三種，清潔但表面受到損傷，無法繼續(xù)使用，則淘汰。
【文檔編號】B08B3/00GK103878133SQ201310468156
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2013年10月9日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月9日
【發(fā)明者】屠明健, 朱鋒, 屠海燕, 陳志明, 陸海紅, 薛建國, 柴敏杰 申請人:桐鄉(xiāng)錦瑞化纖有限公司