一種有蠟拋光陶瓷盤的清洗方法
【專利摘要】本發(fā)明創(chuàng)造提供一種高效低成本有蠟拋光陶瓷盤的清洗方法。該方法是先配制KOH溶液作為去蠟清洗劑，然后采用所述去蠟清洗劑對有蠟拋光后的陶瓷盤進(jìn)行藥洗，藥洗至少兩次后，再用純水清洗至少兩次。本方法可有效去除陶瓷盤表面蠟跡，成本低，效果穩(wěn)定。
【專利說明】一種有蠟拋光陶瓷盤的清洗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明創(chuàng)造涉及有蠟拋光陶瓷盤表面蠟跡的去除領(lǐng)域，特別涉及一種高效低成本的有蠟拋光陶瓷盤的清洗方法。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，由于對拋光片幾何參數(shù)要求愈加嚴(yán)格，越來越多的企業(yè)采用加工精度較好的有蠟拋光設(shè)備。由于貼片用的陶瓷盤是循環(huán)使用，為了保證加工精度，陶瓷盤表面必須平整，即貼片前要將陶瓷盤表面鏟片后殘留的蠟去除干凈，目前很多企業(yè)使用DEVEL-A作為去蠟劑，但DEVEL-A價格較高，用量較大，清洗時間較長，導(dǎo)致產(chǎn)品加工成本較高，使企業(yè)在日趨激烈的市場競爭中處于不利位置。這就需要研發(fā)一種高效去蠟，成本較低的陶瓷盤清洗方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明創(chuàng)造要解決的問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種高效低成本的有蠟拋光陶瓷盤的清洗方法，以滿足生產(chǎn)的需要。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明創(chuàng)造采用的技術(shù)方案是:
[0005]一種有蠟拋光陶瓷盤的清洗方法，所述的清洗方法是先配制Κ0Η溶液作為去蠟清洗劑，然后采用所述去蠟清洗劑對有蠟拋光后的陶瓷盤進(jìn)行藥洗，藥洗至少兩次后，再用純水清洗至少兩次。
[0006]所述Κ0Η溶液是質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%_5%的Κ0Η溶液。
[0007]優(yōu)選地，所述Κ0Η溶液是質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%的Κ0Η溶液。
[0008]所述藥洗過程的溫度為55_70°C，清洗時間為90-120S，所述水洗過程的溫度為70-80°C，清洗時間設(shè)為90-120s。
[0009]優(yōu)選地，所述藥洗過程的溫度為55°C，清洗時間為90s，所述水洗過程的溫度為80°C，清洗時間設(shè)為90s。
[0010]更優(yōu)選的，所述的清洗方法是先配制質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%的Κ0Η溶液作為去蠟清洗劑，然后采用所述去蠟清洗劑對有蠟拋光后的陶瓷盤進(jìn)行藥洗，藥洗溫度為55°C，清洗時間設(shè)為90s，藥洗兩次后，再用純水清洗兩次，水洗溫度為80°C,清洗時間設(shè)為90s。
[0011]本發(fā)明創(chuàng)造具有的優(yōu)點和積極效果是采用本方法對有蠟拋光陶瓷盤進(jìn)行清洗，可迅速有效去除表面蠟跡，具有清洗時間短、不會影響貼片機(jī)貼片速度等優(yōu)點，可以提高生產(chǎn)效率，同時本方法所用去蠟劑成本低，降低了產(chǎn)品加工成本。與DEVEL-A相比，每次配液可節(jié)省1600元(DEVEL-A的市場價格為1800元/桶，每桶20L，每次配液用量1桶；固體Κ0Η市場價格為10元/瓶，每瓶500g，每次配液用量20瓶。)
【具體實施方式】
[0012]為了更清楚的理解本發(fā)明，下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)描述:[0013]實施例1
[0014]本實施例是采用本發(fā)明所公開方法對200個有蠟拋光陶瓷盤進(jìn)行清洗。加工設(shè)備為有蠟拋光陶瓷盤清洗機(jī)YWA-19 ;輔助材料包括Κ0Η(固體)、純水和陶瓷盤。
[0015]清洗方法如下:
[0016](1)先用固體Κ0Η配置成濃度為3%的Κ0Η溶液作為去蠟清洗劑；
[0017](2)將陶瓷盤清洗機(jī)的1、2槽作為藥液槽，3、4槽作為純水槽，并將3%的Κ0Η溶液放進(jìn)1、2槽內(nèi)，將純水放進(jìn)3、4槽內(nèi)；
[0018](3 )將1、2槽內(nèi)的溫度設(shè)定為55°C，3、4槽溫度設(shè)定為80 V，清洗時間均設(shè)為90s，對有蠟拋光陶瓷盤進(jìn)行逐一清洗，清洗順序為由1至4，先藥洗兩次再水洗兩次；
[0019](4)將清洗過的陶瓷盤收集備用。
[0020]實施例2
[0021]對200個有蠟拋光陶瓷盤進(jìn)行清洗:加工設(shè)備為有蠟拋光陶瓷盤清洗機(jī)YWA-19 ；輔助材料包括Κ0Η(固體)、純水和陶瓷盤。清洗方法同實施例1，具體條件見表1。
[0022]表1
[0023]
【權(quán)利要求】
1.一種有蠟拋光陶瓷盤的清洗方法，其特征在于:所述的清洗方法是先配制KOH溶液作為去蠟清洗劑，然后采用所述去蠟清洗劑對有蠟拋光后的陶瓷盤進(jìn)行藥洗，藥洗至少兩次后，再用純水清洗至少兩次。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于:所述KOH溶液是質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%-5%的KOH溶液。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗方法，其特征在于:所述KOH溶液是質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%的KOH溶液。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于:所述藥洗過程的溫度為55-70°C，清洗時間為90-120S，所述水洗過程的溫度為70-80°C，清洗時間設(shè)為90_120s。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清洗方法，其特征在于:所述藥洗過程的溫度為55°C，清洗時間為90s，所述水洗過程的溫度為80°C，清洗時間設(shè)為90s。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于:所述的清洗方法是先配制質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%的KOH溶液作為去蠟清洗劑，然后采用所述去蠟清洗劑對有蠟拋光后的陶瓷盤進(jìn)行藥洗，藥洗溫度為55°C，清洗時間設(shè)為90s，藥洗兩次后，再用純水清洗兩次，水洗溫度為80°C，清洗時間設(shè)為90s。
【文檔編號】B08B3/08GK103639142SQ201310667160
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年12月9日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月9日
【發(fā)明者】孫晨光, 石明, 魏艷軍, 垢建秋, 張宇 申請人:天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司