一種晶片清洗的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種晶片清洗機(jī)，包括架體、至少一個(gè)清洗槽，所述清洗槽位安裝在架體上，清洗槽上活動(dòng)連接有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗裝置本體，清洗裝置本體上設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸，旋轉(zhuǎn)軸上固定有清洗滾筒，旋轉(zhuǎn)軸與驅(qū)動(dòng)裝置相連，通過驅(qū)動(dòng)裝置實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)軸沿其軸心轉(zhuǎn)動(dòng)，所述清洗滾筒上設(shè)有供清洗液流通的孔。本實(shí)用新型具有清洗高效的特點(diǎn)。
【專利說明】一種晶片清洗機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種清洗裝置，尤其涉及一種晶片清洗機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0002]晶片在制程中所沾附的化學(xué)藥劑或雜質(zhì)，必須經(jīng)由清洗機(jī)適時(shí)予以清洗?，F(xiàn)有清洗機(jī)的清洗時(shí)，通常將晶片放置在籃筐內(nèi)，通過上下或左右抖動(dòng)的形式將籃筐在清洗液中運(yùn)動(dòng)，這種清洗方式存在清洗不均勻，清洗速度慢，清洗不徹底的問題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種能夠高效清洗的晶片清洗機(jī)。
[0004]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種晶片清洗機(jī)，包括架體、至少一個(gè)清洗槽，所述清洗槽安裝在架體上；清洗槽上活動(dòng)連接有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗裝置本體，清洗裝置本體上設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸，旋轉(zhuǎn)軸上固定有清洗滾筒，旋轉(zhuǎn)軸與驅(qū)動(dòng)裝置相連，通過驅(qū)動(dòng)裝置實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)軸沿其軸心轉(zhuǎn)動(dòng)，所述清洗滾筒上設(shè)有供清洗液流通的孔。
[0005]進(jìn)一步，清洗裝置本體上設(shè)有橫桿；清洗槽上設(shè)有定位結(jié)構(gòu)，所述橫桿通過定位結(jié)構(gòu)連接在清洗槽上。
[0006]進(jìn)一步，所述定位結(jié)構(gòu)為位于操作平臺(tái)上的清洗槽頂面的一組相對(duì)邊上的定位板，定位板上設(shè)有凹槽，通過將橫桿的兩端卡入所述凹槽實(shí)現(xiàn)清洗裝置與清洗槽的活動(dòng)連接。
[0007]進(jìn)一步，所述定位板上還設(shè)有用于進(jìn)一步固定橫桿的鎖定板。
[0008]進(jìn)一步，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)設(shè)置在架體上；驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸上設(shè)有動(dòng)力輸出輪，旋轉(zhuǎn)軸的前端設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)輪，所述動(dòng)力輸出輪通過傳動(dòng)裝置與轉(zhuǎn)動(dòng)輪相連。
[0009]進(jìn)一步，所述清洗裝置本體包括前立板、后立板、左立板、右立板，所述前立板、右立板、后立板、左立板首尾相連,前立板與后立板相互平行，左立板與右立板相互平行，前立板與左立板相互垂直；前立板、后立板的高度小于左立板、右立板的高度；所述橫桿有兩根，橫桿之間相互平行；橫桿穿過左立板、右立板；所述左立板、右立板之間通過滾動(dòng)軸承連接有旋轉(zhuǎn)軸，所述旋轉(zhuǎn)軸與橫桿平行，所述旋轉(zhuǎn)軸位于橫桿的下方。
[0010]進(jìn)一步，所述轉(zhuǎn)動(dòng)輪位于旋轉(zhuǎn)軸上緊貼右立板的左側(cè)面的位置上，所述轉(zhuǎn)動(dòng)輪的外側(cè)面上設(shè)有齒；所述右立板上設(shè)有穿過右立板的滾動(dòng)軸承，滾動(dòng)軸承上固定有傳動(dòng)軸，所述傳動(dòng)軸平行于旋轉(zhuǎn)軸；所述傳動(dòng)軸的兩端固定有傳動(dòng)輪，位于傳動(dòng)軸左端的傳動(dòng)輪上設(shè)有齒并與轉(zhuǎn)動(dòng)輪上的齒嚙合，位于傳動(dòng)軸右端的傳動(dòng)輪與驅(qū)動(dòng)電機(jī)上的動(dòng)力輸出輪相連。
[0011]進(jìn)一步，動(dòng)力輸出輪的外側(cè)面上設(shè)有齒，位于傳動(dòng)軸右端的傳動(dòng)輪的外側(cè)面上也設(shè)有與動(dòng)力輸出輪上的齒相適應(yīng)的齒，動(dòng)力輸出輪上的齒與位于傳動(dòng)軸右端的傳動(dòng)輪上的齒嚙合。
[0012]進(jìn)一步，所述滾筒上設(shè)有可以打開/關(guān)閉的門；所述架體上設(shè)有抽風(fēng)裝置，所述抽風(fēng)裝置的抽風(fēng)口設(shè)在，所述清洗槽頂面的上方。
[0013]進(jìn)一步，所述清洗槽的底面為與清洗滾筒形狀相適應(yīng)的圓弧面。
[0014]本實(shí)用新型的有益效果是:由于清洗滾筒可以在清洗槽中轉(zhuǎn)動(dòng)，清洗滾筒中的晶片在清洗滾筒不停地被翻滾，達(dá)到高效清洗的目的?，F(xiàn)有技術(shù)中采用上下或左右顛簸籃筐的方式來清洗，由于晶片呈形狀不規(guī)則的片狀，這種清洗方式不容易將晶片有效地翻動(dòng)，本實(shí)用新型所述方案中，晶片能被有效地、不斷地翻滾，因此清洗地比較均勻。設(shè)有抽風(fēng)裝置，可以有效地將清洗液中會(huì)發(fā)出的氣體吸走，優(yōu)化了操作環(huán)境。由于不采用上下或左右震動(dòng)籃筐的方式，在同樣保證在工作中浸沒晶片的情況下所使用的清洗液數(shù)量少，使用過程中揮發(fā)的清洗液數(shù)量也少，有效地降低了成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是本使用新型一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖2是圖1的正視圖。
[0017]圖3是圖2沿A-A方向的垂直剖面圖。
[0018]圖4是圖2沿B-B方向的水平切面圖。
[0019]圖5是清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]其中:1_架體；2_定位板；3_鎖定板；4_抽風(fēng)裝置；5_抽風(fēng)裝置；6_驅(qū)動(dòng)電機(jī)；7-清洗槽；8-橫桿；9_傳動(dòng)輪；10-傳動(dòng)輪；11-旋轉(zhuǎn)軸；12-清洗滾筒；13-轉(zhuǎn)動(dòng)輪；14_動(dòng)力輸出輪；15_左立板；16_前立板；17_后立板；18_右立板；19_傳動(dòng)軸；20_操作平臺(tái)；21-清洗裝置本體。

【具體實(shí)施方式】
[0021]下面，結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。
[0022]如圖1到圖5所示，一種晶片清洗機(jī)，包括架體1、五個(gè)清洗槽7，所述清洗槽7位安裝在架體I的操作平臺(tái)20上:清洗槽7上活動(dòng)連接有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗裝置本體21，清洗裝置本體21上設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸11，旋轉(zhuǎn)軸11上固定有清洗滾筒12，旋轉(zhuǎn)軸11與驅(qū)動(dòng)裝置相連，通過驅(qū)動(dòng)裝置實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)軸11沿其軸心轉(zhuǎn)動(dòng)，所述清洗滾筒12上設(shè)有供清洗液流通的孔。所述清洗槽中，部分流通的清洗液是酸液，部分流通的清洗液是水。
[0023]清洗裝置本體21上設(shè)有橫桿8 ;清洗槽7上設(shè)有定位結(jié)構(gòu)，所述橫桿8通過定位結(jié)構(gòu)連接在清洗槽7上。
[0024]所述定位結(jié)構(gòu)為位于操作平臺(tái)20上的清洗槽頂面的一組相對(duì)邊上的定位板2，定位板2上設(shè)有凹槽，通過將橫桿8的兩端卡入所述凹槽實(shí)現(xiàn)清洗裝置與清洗槽7的連接。所述定位板2上還設(shè)有用于進(jìn)一步固定橫桿8的鎖定板3。
[0025]所述驅(qū)動(dòng)裝置包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)6，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)設(shè)置6在架體I上；驅(qū)動(dòng)電機(jī)6的輸出軸上設(shè)有動(dòng)力輸出輪14，旋轉(zhuǎn)軸的前端設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)輪13，所述動(dòng)力輸出輪12通過傳動(dòng)裝置與轉(zhuǎn)動(dòng)輪13相連。
[0026]所述清洗裝置本體包括前立板16、后立板17、左立板15、右立板18，所述前立板16、右立板18、后立板17、左立板15首尾相連,前立板16與后立板17相互平行,左立板15與右立板18相互平行，前立板16與左立板15相互垂直；前立板16、后立板17的高度小于左立板15、右立板18的高度；所述橫桿8有兩根，橫桿8之間相互平行；橫桿8穿過左立板15、右立板18 ;所述左立板15、右立板18之間連接有通過滾動(dòng)軸承連接有旋轉(zhuǎn)軸11，所述旋轉(zhuǎn)軸11與橫桿8平行，所述旋轉(zhuǎn)軸11位于橫桿8的下方。
[0027]所述轉(zhuǎn)動(dòng)輪13位于旋轉(zhuǎn)軸11上緊貼右立板18的左側(cè)面的位置上，所述轉(zhuǎn)動(dòng)輪13的外側(cè)面上設(shè)有齒；所述右立板18上設(shè)有穿過右立板18的滾動(dòng)軸承，滾動(dòng)軸承上固定有傳動(dòng)軸19,所述傳動(dòng)軸19平行于旋轉(zhuǎn)軸11 ;所述傳動(dòng)軸19的兩端固定有傳動(dòng)輪10,9,位于傳動(dòng)軸19左端的傳動(dòng)輪9上設(shè)有齒并與轉(zhuǎn)動(dòng)輪13上的齒嚙合，位于傳動(dòng)軸19右端的傳動(dòng)輪10通過傳動(dòng)裝置與驅(qū)動(dòng)電機(jī)6上的動(dòng)力輸出輪14相連。
[0028]動(dòng)力輸出輪14的外側(cè)面上設(shè)有齒,所述位于傳動(dòng)軸19右端的傳動(dòng)輪10的外側(cè)面上也設(shè)有與動(dòng)力輸出輪14上的齒相適應(yīng)的齒，動(dòng)力輸出輪14上的齒與位于傳動(dòng)軸19右端的傳動(dòng)輪10上的齒嚙合。
[0029]所述滾筒12上設(shè)有可以打開/關(guān)閉的門；所述架體I上設(shè)有抽風(fēng)裝置5，所述抽風(fēng)裝置的抽風(fēng)口設(shè)在所述清洗槽7側(cè)面且高于清洗槽7頂面的位置上。所述清洗槽7的底面為與清洗滾筒12形狀相適應(yīng)的圓弧面。
[0030]以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種晶片清洗機(jī)，包括架體(I)、至少一個(gè)清洗槽(7)，所述清洗槽(7)安裝在架體(I)上，其特征在于:清洗槽(7)上活動(dòng)連接有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗裝置本體(21)，清洗裝置本體(21)上設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸(11)，旋轉(zhuǎn)軸(11)上固定有清洗滾筒(12 )，旋轉(zhuǎn)軸(II)與驅(qū)動(dòng)裝置相連，通過驅(qū)動(dòng)裝置實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)軸(11)沿其軸心轉(zhuǎn)動(dòng)，所述清洗滾筒(12)上設(shè)有供清洗液流通的孔。
2.如權(quán)利要求1所述的一種晶片清洗機(jī)，其特征在于:清洗裝置本體(21)上設(shè)有橫桿(8 );清洗槽(7 )上設(shè)有定位結(jié)構(gòu)，所述橫桿(8 )通過定位結(jié)構(gòu)連接在清洗槽(7 )上。
3.如權(quán)利要求2所述的一種晶片清洗機(jī)，其特征在于:所述定位結(jié)構(gòu)為位于操作平臺(tái)(20)上的清洗槽頂面的一組相對(duì)邊上的定位板(2)，定位板(2)上設(shè)有凹槽，通過將橫桿(8)的兩端卡入所述凹槽實(shí)現(xiàn)清洗裝置與清洗槽(7)的活動(dòng)連接。
4.如權(quán)利要求3所述的一種晶片清洗機(jī)，其特征在于:所述定位板(2)上還設(shè)有用于進(jìn)一步固定橫桿(8)的鎖定板(3)。
5.如權(quán)利要求2到4任意一權(quán)利要求所述的一種晶片清洗機(jī)，其特征在于:所述驅(qū)動(dòng)裝置包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)(6)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)(6)設(shè)置在架體(I)上；驅(qū)動(dòng)電機(jī)(6)的輸出軸上設(shè)有動(dòng)力輸出輪(14 )，旋轉(zhuǎn)軸的前端設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)輪(13 )，所述動(dòng)力輸出輪(12 )通過傳動(dòng)裝置與轉(zhuǎn)動(dòng)輪(13)相連。
6.如權(quán)利要求5所述的一種晶片清洗機(jī)，其特征在于:所述清洗裝置本體包括前立板(16)、后立板(17)、左立板(15)、右立板(18),所述前立板(16)、右立板(18)、后立板(17)、左立板(15)首尾相連,前立板(16)與后立板(17)相互平行,左立板(15)與右立板(18)相互平行，前立板(16)與左立板(15)相互垂直；前立板(16)、后立板(17)的高度小于左立板(15)、右立板(18)的高度；所述橫桿(8)有兩根，橫桿(8)之間相互平行；橫桿(8)穿過左立板(15 )、右立板(18 );所述左立板(15)、右立板(18 )之間通過滾動(dòng)軸承連接有旋轉(zhuǎn)軸(11)，所述旋轉(zhuǎn)軸(11)與橫桿(8 )平行，所述旋轉(zhuǎn)軸(11)位于橫桿(8 )的下方。
7.如權(quán)利要求6所述的一種晶片清洗機(jī)，其特征在于:所述轉(zhuǎn)動(dòng)輪(13)位于旋轉(zhuǎn)軸(11)上緊貼右立板(18)的左側(cè)面的位置上，所述轉(zhuǎn)動(dòng)輪(13)的外側(cè)面上設(shè)有齒；所述右立板(18)上設(shè)有穿過右立板(18)的滾動(dòng)軸承,滾動(dòng)軸承上固定有傳動(dòng)軸(19),所述傳動(dòng)軸(19)平行于旋轉(zhuǎn)軸(11);所述傳動(dòng)軸(19)的兩端固定有傳動(dòng)輪(10，9)，位于傳動(dòng)軸(19)左端的傳動(dòng)輪(9)上設(shè)有齒并與轉(zhuǎn)動(dòng)輪(13)上的齒嚙合，位于傳動(dòng)軸(19)右端的傳動(dòng)輪(10)與驅(qū)動(dòng)電機(jī)(6)上的動(dòng)力輸出輪(14)相連。
8.如權(quán)利要求7所述的一種晶片清洗機(jī)，其特征在于:動(dòng)力輸出輪(14)的外側(cè)面上設(shè)有齒，位于傳動(dòng)軸(19)右端的傳動(dòng)輪(10)的外側(cè)面上也設(shè)有與動(dòng)力輸出輪(14)上的齒相適應(yīng)的齒，動(dòng)力輸出輪(14)上的齒與位于傳動(dòng)軸(19)右端的傳動(dòng)輪(10)上的齒哨合。
9.如權(quán)利要求1所述的一種晶片清洗機(jī)，其特征在于:所述滾筒(12)上設(shè)有可以打開/關(guān)閉的門；所述架體(I)上設(shè)有抽風(fēng)裝置(5 )，所述抽風(fēng)裝置的抽風(fēng)口設(shè)在所述清洗槽(7 )側(cè)面且高于清洗槽(7)頂面的位置上。
10.如權(quán)利要求1所述的一種晶片清洗機(jī)，其特征在于:所述清洗槽(7)的底面為與清洗滾筒(12)形狀相適應(yīng)的圓弧面。
【文檔編號(hào)】B08B15/04GK203917241SQ201420102841
【公開日】2014年11月5日 申請(qǐng)日期:2014年3月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月8日
【發(fā)明者】馬玉水 申請(qǐng)人:山東高唐杰盛半導(dǎo)體科技有限公司