轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及致冷件生產(chǎn)【技術(shù)領(lǐng)域】的設(shè)備，是轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置，其特征是：它包括一個(gè)底座，在底座上有一個(gè)傾斜設(shè)置的固定盤，固定盤是圓形的，周圍有凸出棱，在凸出棱上還有有上面的進(jìn)料口和下面的出料口，進(jìn)料口上面安裝進(jìn)料斗，出料口下面安裝出料斗，在固定盤上面有電機(jī)連接的旋轉(zhuǎn)盤，固定盤和旋轉(zhuǎn)盤相對(duì)的面上都設(shè)有軟質(zhì)層，在進(jìn)料口上面設(shè)有進(jìn)水管，所述的出料口處的底面設(shè)置有篩網(wǎng)，所述的出料口外的后面對(duì)著烘干設(shè)備，這樣的轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置具有節(jié)省勞動(dòng)力、清洗效率高的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及致冷件生產(chǎn)【技術(shù)領(lǐng)域】的設(shè)備，特別是涉及晶粒清洗裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在晶粒生產(chǎn)過程中，晶粒外面會(huì)沾上灰塵和油污，除去這些灰塵和油污是保證下一步生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量的條件，現(xiàn)有技術(shù)中，除去這些灰塵和油污使用的是人工清洗，它具有浪費(fèi)勞動(dòng)力資源，清洗效率低的缺點(diǎn)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的就是針對(duì)上述缺點(diǎn)，提供一種節(jié)省勞動(dòng)力，清洗效率高的晶粒清洗裝置--轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置，其特征是:它包括一個(gè)底座，在底座上有一個(gè)傾斜設(shè)置的固定盤，固定盤是圓形的，周圍有凸出棱，在凸出棱上還有有上面的進(jìn)料口和下面的出料口，進(jìn)料口上面安裝進(jìn)料斗，出料口下面安裝出料斗，在固定盤上面有電機(jī)連接的旋轉(zhuǎn)盤，固定盤和旋轉(zhuǎn)盤相對(duì)的面上都設(shè)有軟質(zhì)層，在進(jìn)料口上面設(shè)有進(jìn)水管。
[0005]進(jìn)一步地講，所述的出料口處的底面設(shè)置有篩網(wǎng)。
[0006]進(jìn)一步地講，所述的出料口外的后面對(duì)著烘干設(shè)備。
[0007]本實(shí)用新型的有益效果是:這樣的轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置具有節(jié)省勞動(dòng)力、清洗效率高的優(yōu)點(diǎn)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1是本實(shí)用新型的側(cè)面的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖2是本實(shí)用新型固定盤的結(jié)構(gòu)示意圖
[0010]其中:1、底座 2、固定盤 3、凸出棱 4、進(jìn)料口 5、出料口 6、進(jìn)料斗7、出料斗 8、旋轉(zhuǎn)盤 9、軟質(zhì)層 10、進(jìn)水管11、篩網(wǎng) 12、烘干設(shè)備。

【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0012]如圖1、2所示，轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置，其特征是:它包括一個(gè)底座1，在底座1上有一個(gè)傾斜設(shè)置的固定盤2，固定盤是圓形的，周圍有凸出棱3，在凸出棱上還有有上面的進(jìn)料口 4和下面的出料口 5，進(jìn)料口上面安裝進(jìn)料斗6，出料口下面安裝出料斗7，在固定盤上面有電機(jī)連接的旋轉(zhuǎn)盤8，固定盤和旋轉(zhuǎn)盤相對(duì)的面上都設(shè)有軟質(zhì)層9，在進(jìn)料口上面設(shè)有進(jìn)水管10。
[0013]這樣，進(jìn)料斗的原料從進(jìn)料口進(jìn)入，同時(shí)加水，經(jīng)過旋轉(zhuǎn)揉搓，可以對(duì)晶粒清洗，這樣比單純的前進(jìn)、后退方式的揉搓效果更好，所述的軟質(zhì)層有利于晶粒的保護(hù)。
[0014]進(jìn)一步地講，所述的出料口處的底面設(shè)置有篩網(wǎng)11，這樣可以對(duì)廢水和晶粒進(jìn)行分咼。
[0015]進(jìn)一步地講，所述的出料口外的后面還對(duì)著烘干設(shè)備12，這樣可以及時(shí)對(duì)晶粒進(jìn)行烘干。
[0016]以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例，但本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特征并不限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型的領(lǐng)域內(nèi)，所作的變化或修飾皆涵蓋在本實(shí)用新型的專利范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置，其特征是:它包括一個(gè)底座，在底座上有一個(gè)傾斜設(shè)置的固定盤，固定盤是圓形的，周圍有凸出棱，在凸出棱上還有有上面的進(jìn)料口和下面的出料口，進(jìn)料口上面安裝進(jìn)料斗，出料口下面安裝出料斗，在固定盤上面有電機(jī)連接的旋轉(zhuǎn)盤，固定盤和旋轉(zhuǎn)盤相對(duì)的面上都設(shè)有軟質(zhì)層，在進(jìn)料口上面設(shè)有進(jìn)水管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置，其特征是:所述的出料口處的底面設(shè)置有篩網(wǎng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式晶粒清洗裝置，其特征是:所述的出料口外的后面對(duì)著烘干設(shè)備。
【文檔編號(hào)】B08B3/10GK204134968SQ201420583405
【公開日】2015年2月4日 申請(qǐng)日期:2014年10月11日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月11日
【發(fā)明者】陳磊, 劉栓紅, 趙麗萍, 錢俊有, 張文濤, 蔡水占, 郭晶晶, 張會(huì)超, 陳永平 申請(qǐng)人:河南鴻昌電子有限公司