專利名稱：抗靜電紗網(wǎng)及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種抗靜電紗網(wǎng)及其制造方法。
背景技術(shù)：
一般在門(mén)窗上常設(shè)有紗網(wǎng)。紗網(wǎng)具有多數(shù)個(gè)網(wǎng)眼，其優(yōu)點(diǎn)是能透光、能讓空氣流通，并且適當(dāng)?shù)乜刂凭W(wǎng)眼的大小可以阻擋蚊蟲(chóng)等不受歡迎的外來(lái)物。但是紗網(wǎng)使用過(guò)一段時(shí)間后，灰塵或不干凈的雜質(zhì)容易堆積在其網(wǎng)眼周?chē)?，因此每隔一段時(shí)間就必須清洗一次，十分麻煩。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種抗靜電紗網(wǎng)，使得灰塵或不干凈的雜質(zhì)不易吸附在紗網(wǎng)上。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明提供的抗靜電紗網(wǎng)，其包含高分子聚合物網(wǎng)狀基材；以及抗靜電材料，涂布于所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材上或是摻雜于所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材中。
根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施方式
，本發(fā)明所提供的紗網(wǎng)主要包含一高分子聚合物網(wǎng)狀基材以及在該高分子聚合物網(wǎng)狀基材上的一層抗靜電材料涂層，從而使紗網(wǎng)的表面具有抗靜電性。
根據(jù)本發(fā)明的另一具體實(shí)施方式
，本發(fā)明所提供的紗網(wǎng)是由一含有抗靜電材料的高分子聚合物網(wǎng)狀基材形成，可使灰塵或不干凈的雜質(zhì)不易吸附在紗網(wǎng)上。
可用以作為本發(fā)明高分子聚合物網(wǎng)狀基材的聚合物材料包含聚乙烯(PE)、尼龍、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)以及聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)......等。
所述抗靜電材料可包含高分子量的磺酸鹽類、高分子量的聚環(huán)氧乙烷(polyethylene oxide，PEO)、聚醚酯酰胺化合物、含有金屬鹽的聚酰胺組合物、含烷氧基醚類鏈段的環(huán)氧樹(shù)脂或是含胺基環(huán)氧基化合物等。
本發(fā)明還提供了上述抗靜電紗網(wǎng)的制造方法首先，將多數(shù)條聚合物的線織成一高分子聚合物網(wǎng)狀基材；然后，將所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材含浸于一樹(shù)脂中以定型該高分子聚合物網(wǎng)狀基材；最后以噴涂、刷涂或是含浸的方式在所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材上涂布一層抗靜電材料涂層。此外，也可以直接將抗靜電材料添加到定型步驟所使用的樹(shù)脂中或是添加到高分子聚合物網(wǎng)狀基材中，這樣可將涂布抗靜電材料的步驟合并到定型或是制造高分子聚合物網(wǎng)狀基材的步驟中。
一般而言，當(dāng)空氣流通過(guò)紗網(wǎng)時(shí)，空氣中的灰塵或不干凈的雜質(zhì)會(huì)與紗網(wǎng)摩擦，使得灰塵或不干凈的雜質(zhì)的表面以及紗網(wǎng)的表面會(huì)產(chǎn)生電性相反的靜電。因此灰塵或不干凈的雜質(zhì)受到表面帶有相反電荷的紗網(wǎng)的吸引，而容易堆積在紗網(wǎng)上，使得紗網(wǎng)被污染。根據(jù)本發(fā)明所提供的紗網(wǎng)，其表面具有的抗靜電性質(zhì)，使得紗網(wǎng)表面不帶靜電，因此不會(huì)吸引灰塵或不干凈的雜質(zhì)停留在紗網(wǎng)上。盡管有部分灰塵可能會(huì)停在本發(fā)明的紗網(wǎng)上，但由于紗網(wǎng)與灰塵之間并沒(méi)有吸引力，因此灰塵也容易再度被流動(dòng)的空氣帶走。
具體實(shí)施例方式
根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例所提供的紗網(wǎng)包含高分子聚合物網(wǎng)狀基材以及覆蓋在該高分子聚合物網(wǎng)狀基材上的抗靜電材料涂層。
適用于本發(fā)明的抗靜電材料可分為低分子量抗靜電材料(表面活性劑)及高分子量抗靜電材料。一般低分子量抗靜電材料容易因沖洗、擦拭等因素而降低甚至喪失其抗靜電性，且對(duì)溫度、濕度的依賴性高。高分子量抗靜電材料因其為聚合物，與形成網(wǎng)狀基材的聚合物兼容性高、耐久性也較好。因此，本發(fā)明優(yōu)選使用高分子量抗靜電材料。
適用于本發(fā)明的抗靜電材料包含高分子量的磺酸鹽類、高分子量的聚環(huán)氧乙烷(polyethylene oxide，PEO)、聚醚酯酰胺化合物、含有金屬鹽的聚酰胺組合物以及含烷氧基醚類鏈段的環(huán)氧樹(shù)脂等。
根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例，所使用的抗靜電材料為一種聚醚酯酰胺化合物，其具有以下的結(jié)構(gòu) 其中R1為含有-(R0-O)p-烷氧基的鏈段，R0為含有二或三個(gè)碳的羥基，p的數(shù)值為10-45，且R1的分子量介于550-2020(g/mole)之間；R4為具有2-12個(gè)碳原子的烴基(hydrocarbon)鏈段；R5為具有4-12個(gè)碳原子的脂肪烴基鏈段或具有6-12個(gè)碳原子的芳香烴基鏈段；n與m的數(shù)值比(n∶m)為1-1000之間。所述聚醚酯酰胺化合物的平均分子量為3000-45000(g/mole)。
根據(jù)本發(fā)明的另一具體實(shí)施例，所述抗靜電材料為一含有金屬鹽的聚酰胺組合物，其包含一含有氧化亞烷基(alkylene oxide group)的聚酰胺以及一金屬鹽，其中所述金屬鹽與聚酰胺的重量比例為0.1∶100至30∶100，且所述金屬鹽為含一價(jià)至三價(jià)金屬離子的金屬鹽，所述聚酰胺為聚醚酰胺或聚醚酯酰胺。
其中，所述聚醚酰胺具有如下所示的重復(fù)單元 其中R1為氫、甲基、或碳數(shù)2至6的烴基；a+b的值為0至45之間；Ra為亞苯基或碳數(shù)2至16的烴基；Rb為 或碳數(shù)2至50的烴基，其中c為1至45之間，R3為氫或碳數(shù)1至10的烴基；以及x等于或是大于0；所述聚醚酯酰胺具有如下所示的重復(fù)單元 其中，R11為具有-(R0-O)p-結(jié)構(gòu)的氧化亞烷基的鏈段，其中R0為碳數(shù)2或3的烴基，p為10至45；R14為碳數(shù)2至12的烴基；R15為碳數(shù)4至12的烴基；以及m和n分別為1或大于1。
根據(jù)本發(fā)明的另一具體實(shí)施例，所述抗靜電材料為一含烷氧基醚類鏈段的環(huán)氧樹(shù)脂，其具有如下式I或式II的分子結(jié)構(gòu) 式I 式II其中R1為分子量介于44-2000g/mole之間的芳香烴基鏈段、脂肪烴基鏈段、含鹵素取代基的芳香烴基鏈段或含鹵素取代基的脂肪烴基鏈段中的一種；R2與R3為含烷氧基醚類鏈段，該含烷氧基醚類鏈段的結(jié)構(gòu)為 其中R0為含有2或3個(gè)碳原子的烴基，n為10-45；以及R4與R5選自由氫、甲基及R1所組成的族群。
根據(jù)本發(fā)明的另一具體實(shí)施例，所述抗靜電材料的分子結(jié)構(gòu)如下所示 其中R2為含有烷氧基(Alkylene Oxide)的鏈段(Chain)，該烷氧基的結(jié)構(gòu)為 其中R0為2或3個(gè)碳原子的烴基，n為10-45；以及R1、R3為分子量介于44-2000(g/mole)之間的含烴基(Hydrocarbon)鏈段。
適用于本發(fā)明的高分子聚合物網(wǎng)狀基材的高分子聚合物材料包含聚乙烯(PE)、尼龍、聚氯乙烯(PVC)、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)、聚丙烯(PP)或是聚丁烯對(duì)苯二酸酯(PBT)......等。
根據(jù)本發(fā)明的另一具體實(shí)施例，是將所述抗靜電材料摻雜于紗網(wǎng)的高分子聚合物網(wǎng)狀基材中。
本發(fā)明還提供了一種制造所述紗網(wǎng)的方法首先，將線狀高分子聚合物材料織成一高分子聚合物網(wǎng)狀基材。若是經(jīng)過(guò)紡織步驟所得到的高分子聚合物網(wǎng)狀基材，需要利用樹(shù)脂含浸過(guò)后加以定型。然后，再將含有適當(dāng)抗靜電材料的涂料以刷涂、噴涂或是含浸的方式涂布在所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材上。另外，也可以直接將抗靜電材料添加入用以定型高分子聚合物網(wǎng)狀基材的樹(shù)脂中，直接將涂布抗靜電材料涂層步驟合并于定型步驟中。
本發(fā)明還提供了一種方法，在制造高分子聚合物網(wǎng)狀基材的材料時(shí)，添加抗靜電材料，使得高分子聚合物網(wǎng)狀基材本身便具有抗靜電性質(zhì)。
本發(fā)明所提供的紗網(wǎng)適用于紗窗、紗門(mén)或是滾動(dòng)條式紗簾、折疊式紗簾或是汽車(chē)紗簾等設(shè)備上，由于其表面的涂層具有抗靜電性，因此灰塵或不潔物與其摩擦?xí)r也不會(huì)產(chǎn)生靜電，對(duì)灰塵或不潔物不具有吸引力，使得其上的灰塵或不潔物容易被流動(dòng)的空氣帶走，從而本發(fā)明的紗網(wǎng)具有自潔的能力。
雖然本發(fā)明已以前述實(shí)施例揭示，然而其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作各種更動(dòng)與修改，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種抗靜電紗網(wǎng)，其包含高分子聚合物網(wǎng)狀基材；以及抗靜電材料，涂布于所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材上或是摻雜于所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材中，且該抗靜電材料選自高分子量的磺酸鹽類、高分子量的聚環(huán)氧乙烷、聚醚酯酰胺化合物、聚酰胺組合物、含烷氧基醚類鏈段的環(huán)氧樹(shù)脂以及含胺基環(huán)氧基化合物所組成的群組。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗靜電紗網(wǎng)，其中所述聚醚酯酰胺化合物具有以下的結(jié)構(gòu) 其中R1為含有-(R0-O)p-烷氧基的鏈段，R0為含有二或三個(gè)碳的羥基，p的數(shù)值為10-45，且R1的分子量介于550-2020之間；R4為具有2-12個(gè)碳原子的烴基鏈段；R5為具有4-12個(gè)碳原子的脂肪烴基鏈段或具有6-12個(gè)碳原子的芳香烴基鏈段；n與m的數(shù)值比n∶m為1-1000之間；以及所述聚醚酯酰胺化合物的平均分子量為3000-45000。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗靜電紗網(wǎng)，其中所述聚酰胺組合物包含含有氧化亞烷基的聚酰胺，以及金屬鹽；其中所述金屬鹽與聚酰胺的重量比例為0.1∶100至30∶100，且該金屬鹽為含一價(jià)至三價(jià)金屬離子的金屬鹽；所述聚酰胺為聚醚酰胺或聚醚酯酰胺；所述聚醚酰胺具有如下所示的重復(fù)單元 其中R1為氫、甲基、或碳數(shù)2至6的烴基；a+b的值為0至45之間；Ra為亞苯基或碳數(shù)2至16的烴基； 或碳數(shù)2至50的烴基，其中c為1至45之間，R3為氫或碳數(shù)1至10的烴基；以及x等于或是大于0；且所述聚醚酯酰胺具有如下所示的重復(fù)單元 其中R11為具有-(R0-O)p-結(jié)構(gòu)的氧化亞烷基的鏈段，其中R0為碳數(shù)2或3的烴基，p為10至45；R14為碳數(shù)2至12的烴基；R15為碳數(shù)4至12的烴基；以及m和n為1或大于1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗靜電紗網(wǎng)，其中所述含烷氧基醚類鏈段的環(huán)氧樹(shù)脂具有如下式I或式II的分子結(jié)構(gòu) 式I 式II其中R1為分子量介于44-2000之間的芳香烴基鏈段、脂肪烴基鏈段、含鹵素取代基的芳香烴基鏈段或含鹵素取代基的脂肪烴基鏈段中的一種；R2與R3為含烷氧基醚類鏈段，該含烷氧基醚類鏈段的結(jié)構(gòu)為 其中R0為含有2或3個(gè)碳原子的烴基，n為10-45；以及R4與R5選自由氫、甲基及R1所組成的族群。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗靜電紗網(wǎng)，其中所述含胺基環(huán)氧基化合物的分子結(jié)構(gòu)如下所示 其中R2為含有烷氧基的鏈段，所述烷氧基的結(jié)構(gòu)為 其中R0為2或3個(gè)碳原子的烴基，n的數(shù)值為10-45；以及R1、R3為分子量介于44-2000之間的含烴基鏈段。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗靜電紗網(wǎng)，其中所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材是由一高分子聚合物材料形成，所述高分子聚合物材料選自由聚乙烯、尼龍、聚氯乙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚丙烯以及聚丁烯對(duì)苯二酸酯所組成的群組。
7.一種抗靜電紗網(wǎng)的制造方法，其包含下列步驟將多數(shù)條線織成一高分子聚合物網(wǎng)狀基材；以及在所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材上涂布一層抗靜電材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗靜電紗網(wǎng)的制造方法，其中所述涂布的步驟是以噴涂、刷涂或含浸的方式達(dá)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗靜電紗網(wǎng)的制造方法，其中所述在高分子聚合物網(wǎng)狀基材上涂布抗靜電材料之前，還包含將所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材含浸于一樹(shù)脂中以定型該高分子聚合物網(wǎng)狀基材。
10.一種抗靜電紗網(wǎng)的制造方法，其包含下列步驟將多數(shù)條含有具有抗靜電性質(zhì)的抗靜電材料的線織成一高分子聚合物網(wǎng)狀基材。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種抗靜電紗網(wǎng)，其包含設(shè)于一高分子聚合物網(wǎng)狀基材上的抗靜電層，其中該抗靜電層是由在所述高分子聚合物網(wǎng)狀基材上涂布抗靜電材料而形成，所述抗靜電材料選自由高分子量的磺酸鹽類、高分子量的聚環(huán)氧乙烷、聚醚酯酰胺化合物、聚酰胺組合物、含烷氧基醚類鏈段的環(huán)氧樹(shù)脂以及含胺基環(huán)氧基化合物所組成的群組。本發(fā)明還涉及所述抗靜電紗網(wǎng)的制造方法。
文檔編號(hào)D06N3/00GK1824725SQ200510008900
公開(kāi)日2006年8月30日 申請(qǐng)日期2005年2月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月24日
發(fā)明者周?chē)?guó)忠 申請(qǐng)人:清展科技股份有限公司