專利名稱:用于將流體介質(zhì)涂敷到材料幅上的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種用于將流體介質(zhì)涂敷到材料幅(material web) 上的設(shè)備,該設(shè)備包括涂敷表面和至少一個分離單元。
背景技術(shù):
上述類型的設(shè)備大體上在實踐中是公知的。在EP 1 854 915 Al 中,公開了用于將流體介質(zhì)涂敷到材料幅上的設(shè)備,其中材料幅在整 個涂敷表面上被引導(dǎo)。該設(shè)備具有遮蓋元件,通過該遮蓋元件,涂敷 表面在一定區(qū)域內(nèi)被遮蓋。上述設(shè)備基本上已被很好地驗證。所期望 的是,改進將流體介質(zhì)涂敷到材料幅上的均勻性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明基于該技術(shù)要求,提出了前述類型的設(shè)備,通過該設(shè)備, 能夠可靠地、均勻地進而達到可安全操作地將流體介質(zhì)涂敷到材料幅 上。
通過本發(fā)明所教導(dǎo)的使用用于將流體介質(zhì)涂敷到材料幅上的設(shè)備 而解決了上述技術(shù)問題,該設(shè)備包括涂敷表面和至少一個分離單元, 其中該材料幅在整個涂敷表面上被引導(dǎo),并在涂敷表面的至少一個接 觸區(qū)域中與該涂敷表面接觸,其中該流體介質(zhì)可在接觸區(qū)域中被涂敷 到材料幅上,該分離單元覆蓋或遮蓋涂敷表面的遮蓋區(qū)域,其中該材 料幅可在整個涂敷表面進給,但在遮蓋區(qū)域中該材料幅和涂敷表面之 間并不接觸,其中借助于布置在分離單元的支撐部分內(nèi)的至少一個供 料元件,該流體介質(zhì)從分離單元的邊緣被輸送走。落入本發(fā)明的保護 范圍的是,使用液體介質(zhì)或者液體或者液體溶液作為流體介質(zhì)。方便 地,所采用的流體介質(zhì)是柔軟整理涂層(avivage)或者軟化劑。值得推薦的是,材料幅的特性尤其是表面特性能夠通過將流體介質(zhì)涂敷到 材料幅上而改變。
一種經(jīng)過驗證的流體介質(zhì)是,例如,表面活性制劑
(surface active agent )、 表面活'I"生劑 (surfactant )、 表面活寸生制劑和 表面活性劑的混合物、染料或染料溶液。同樣可以使用任何已給定的 乳狀液作為流體介質(zhì)。
材料幅可以是非織造或者機織材料幅。便利地,材料幅是非織造 或紡粘的織物。根據(jù)優(yōu)選的實施方式,紡粘織物包括環(huán)形長絲。為了 生產(chǎn)紡粘織物,環(huán)形長絲優(yōu)選地借助于噴絲頭由至少一個熱塑塑料初 步地制造。便利地,該環(huán)形長絲在紡紗之后被初步拉伸,然后被沉積 在沉積裝置上,以形成紡粘織物。
落入本發(fā)明的范圍的是,材料幅的下側(cè)在整個涂敷表面上被引導(dǎo), 并且材料幅的下側(cè)在涂敷表面的接觸區(qū)域中被流體介質(zhì)作用。材料幅
料方向。
優(yōu)選地,該分離單元是不透流體的或者基本上不透流體的,并且 便利地布置在該涂敷表面和該材料幅之間,其中,根據(jù)本發(fā)明,在遮 蓋區(qū)域內(nèi),材料幅和涂敷表面之間并不存在接觸。根據(jù)本發(fā)明的方法 的一個實施方式,該分離單元的支撐部分覆蓋該涂敷表面,但在在整 個涂敷表面上引導(dǎo)材料幅時,材料幅和涂敷表面之間并不存在接觸。 便利地,接觸發(fā)生在支撐部分的表面和材料幅的下側(cè)之間,并發(fā)生在 支撐部分的下側(cè)和涂敷表面之間。落入本發(fā)明保護范圍的是,分離單
元的支撐部分至少在某些段中擱置在涂敷表面的遮蓋區(qū)域上,并且支 撐部分在某些區(qū)域中遮蓋涂敷表面但并不接觸或觸及它。
在優(yōu)選的實施方式中,該供料元件形成為支撐部分的下側(cè)中的供 料缺口 ,但涂敷到涂敷表面的流體介質(zhì)從分離單元的一個邊緣或多個 邊緣被輸送走,特別是由于材料幅施加到分離單元上的壓力。落入本 發(fā)明保護范圍的是,支撐部分遮蓋涂敷表面,但在供料缺口的區(qū)域內(nèi) 并不與其接觸或觸及。根據(jù)一個實施方式,形成為隆起的至少一個供 料元件布置在支撐部分的下側(cè)上,例如,該支撐部分可成型為桿或者桿狀外形。優(yōu)選的是,涂敷到涂敷表面的流體介質(zhì)通過隆起從分離單 元的邊緣輸送走。便利地,該分離單元僅僅通過隆起倚靠涂敷表面上, 也就是說,僅僅隆起與涂敷表面接觸。由此,將可靠地避免流體介質(zhì) 在材料幅上的增強的或增加的涂敷,尤其是在分離單元的支撐部分的 邊緣區(qū)域內(nèi)。
例如,供料缺口形成為槽和/或由多樣或多個的點狀缺口形成。原 則上,至少在支撐部分的下側(cè)中,該供料缺口可構(gòu)造成任意外形。已 驗證的制造支撐部分的下側(cè)中的供料缺口的方式是通過壓印。落入本 發(fā)明保護范圍的是,至少該分離單元的支撐部分的材料幅側(cè)的表面/ 頂側(cè)形成為平面或光滑的。進一步落入本發(fā)明保護范圍的是,分離單
元的支撐部分的多于10%、推薦地多于20%、便利地多于30%、優(yōu) 選地多于50%且更優(yōu)選地多于70%的面積覆蓋涂敷表面的遮蓋區(qū)域, 但并不接觸或觸及它。
根據(jù)本發(fā)明的方法的一個實施方式,至少兩個且優(yōu)選為多樣或多 個的分離單元可以布置在涂敷表面上。優(yōu)選地,該至少兩個分離單元 被定位成相互直接相鄰。根據(jù)本發(fā)明,相互直接相鄰是指該兩個分離 單元之間沒有形成間隙或基本上沒有形成間隙。由此,該遮蓋區(qū)域增 大。根據(jù)該實施方式的一種變形,相互相鄰布置的兩個分離單元之間 具有一定的間距,使得優(yōu)選地在該兩個分離單元之間形成帶狀接觸區(qū) 域。根據(jù)一個實施方式,如果至少兩個或優(yōu)選地多樣或多個的分離單 元在涂敷表面上相互間隔地依次布置,那么多個接觸區(qū)域就形成在涂 敷表面。落入本發(fā)明保護范圍的是,至少兩個分離單元被定位成重疊, 以在某些區(qū)域中,其中一個分離單元位于另一個分離單元之上,使得 形成連貫或連續(xù)的遮蓋區(qū)域。
便利地,分離單元優(yōu)選地形成為矩形或矩形形狀的分離帶或遮蓋 帶,該分離帶或遮蓋帶的縱向延伸定向為平行于或基本平行于供料方 向/橫向于涂敷表面。已被驗證的是利用纖維增強塑料(優(yōu)選為涂覆有 聚四氟乙烯(Teflon)的和/或纖維增強塑料)制造分離單元。原則上, 同樣可能的是,該分離單元由例如軋制成薄片的金屬構(gòu)成。優(yōu)選地,該涂敷表面為涂敷輥的表面。便利地,涂敷表面的表面 為圓柱地形成,其中該涂敷輥的縱向軸線優(yōu)選地定向為橫向于或基本 上橫向于材料幅的供料方向。落入本發(fā)明保護范圍的是,涂敷輥旋轉(zhuǎn) 并且涂敷輥優(yōu)選地在一定區(qū)域內(nèi)浸入到具有流體介質(zhì)的容器中。已經(jīng) 被驗證的是,流體介質(zhì)被完全或基本上完全地涂敷到涂敷輥的涂敷表 面上。
根據(jù)一個實施方式,至少一個輸送通道至少布置在支撐部分內(nèi),
但在涂敷表面的i4蓋區(qū)域內(nèi)涂敷的流體介質(zhì)可以通過輸送通道排出, 其中該流體通道在分離單元中平行于/基本上平行于的供料方向而分 段地延伸。優(yōu)選地,該輸送通道在分離單元中完全/基本上完全平行于 /基本上平行于的供料方向延伸。便利地,該輸送通道至少在支撐部分 的下側(cè)中布置。落入本發(fā)明保護范圍的是,輸送通道形成為槽,并且 該槽優(yōu)選地完全/基本上完全沿著支撐部分的長度延伸。根據(jù)本發(fā)明, 支撐部分的長度指的是支撐部分在供料方向上的范圍。根據(jù)本發(fā)明的 設(shè)備的一個實施方式,該輸送通道在優(yōu)選為帶狀的分離單元的下側(cè)上 居中地/基本居中地布置。優(yōu)選地,槽狀的輸送通道可以包括中斷部分。 推薦的是,流體介質(zhì)借助于輸送通道而排出到容器中,在該容器中儲 存有用于涂敷到涂敷表面的流體介質(zhì)。
便利地,該供料元件形成為供料缺口,該供料缺口相對于該供料 方向傾斜布置。推薦的是,該供料缺口相對于該分離單元的中央縱向 軸線傾斜地定向。中央縱向軸線指的是分離單元在供料方向上的縱向 軸線,其布置在分離單元的中央/基本上中央。
落入本發(fā)明保護范圍的是,供料元件形成為供料缺口,并且該供 料缺口與供料方向之間形成高達90度的定向角a。優(yōu)選地,該定向角 在10度到85度之間,或者優(yōu)選地在25度到50度之間。落入本發(fā)明 保護范圍的是,多樣或多個的供料缺口布置在分離單元中。便利地, 遮蓋區(qū)域上的流體介質(zhì)通過一個供料缺口或多個供料缺口從分離單元 /支撐部分的邊緣被引導(dǎo)到輸送通道。
根據(jù)一個實施方式,至少兩個供料缺口并且優(yōu)選地多樣或多個的供料缺口布置在分離單元中。根據(jù)該實施方式的優(yōu)選變形,供料缺口
的一部分或優(yōu)選地一大部分(多于50% )以V形成對地布置。優(yōu)選地, 這些對布置呈V形的供料缺口對布置在支撐部分的下側(cè)上,以相對于 供料方向鏡像對稱。推薦的是,該鏡像軸線在供料方向上沿著該中央 輸送通道延伸。在一個優(yōu)選的實施方式中,成對布置的供料缺口定向 成V形,其中以V形成對布置的供料缺口并不相互連接。
根據(jù)一個實施方式,該供料缺口形成為槽狀和/或由多樣或多個的 點狀缺口形成。推薦的是,槽狀缺口連續(xù)地/無中斷地/基本上無中斷 地形成。槽狀供料缺口可以包括中斷部分。便利地,形成供料缺口的 點狀缺口線性地/基本線性地依次布置。這意味著供料缺口的點狀缺口 布置在假想的直線上,該直線優(yōu)選地與供料方向形成為定向角a。原 則上,供料缺口也可以由點狀缺口形成,該點狀缺口統(tǒng)計地
(statistically)布置在支撐部分的下側(cè)上。
根據(jù)該實施方式的變形,供料元件形成為多邊形/多角形的表面
(areal)的供料缺口,其中該多邊形/多角形的供料缺口的至少 一 個邊 緣與供料方向圍成高達90度的定位角。在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的優(yōu)選實 施方式中,該供料缺口形成為表面的平行四邊形形狀的供料缺口,在 該平行四邊形形狀的供料缺口上,兩個邊緣定向為平行/基本上平行于 供料方向,并且兩個邊緣與供料方向圍成高達90度的定向角a,該定 向角a優(yōu)選地在10度到85度之間,更優(yōu)選地在25度到50度之間。 便利地,多樣或多個的表面的平行四邊形形狀的供料缺口布置在分離 單元中。推薦地是,表面的平行四邊形形狀的供料缺口的至少一部分 優(yōu)選地至少一大部分(多于50% )以V形成對地布置。落入本發(fā)明保 護范圍的是,以V形成對地布置的表面的平行四邊形形狀的供料缺口 布置成相對于支撐部分下側(cè)上的分離單元的供料方向/中央縱向軸線 鏡像對稱。
推薦的是,該分離單元的至少支撐部分形成為至少兩層,其中該 供料缺口布置在支撐部分的至少涂敷表面?zhèn)鹊膶又?。根?jù)一個實施方 式,支撐部分的材料幅側(cè)的層比支撐部分的涂敷表面?zhèn)鹊膶訉挕M扑]的是,支撐部分的材料幅側(cè)的層的定向為平行于或基本平行于供料方
向的邊緣延伸超過支撐部分的涂敷表面?zhèn)鹊膶拥倪吘墐?yōu)選地o-
8mm,更優(yōu)選地0-5mm以及進一步優(yōu)選地為0-3mm。便利地,支 撐部分的材料幅側(cè)的層與支撐部分的涂敷表面?zhèn)鹊膶油耆粯訉????br>
能的是,該分離單元完全/基本完全至少形成為兩層或更多層。便利的 是,供料缺口至少布置在涂敷表面?zhèn)鹊膶?分離單元的下側(cè)上。落入本 發(fā)明保護范圍的是,該供料缺口通過壓印操作/通過壓印形成在分離單 元的支撐部分的下側(cè)中,和/或隆起模制到分離單元的下側(cè)上。已經(jīng)驗 證的是,分離單元的材料幅側(cè)的層/頂側(cè)至少在該支撐部分中具有平滑 的或平面的表面。由此,可靠地避免了在整個分離單元被引導(dǎo)的材料 幅的損壞。推薦的是,布置在分離單元的頂側(cè)上/分離單元的支撐部分 上的層是不透流體的/基本不透流體的。
落入本發(fā)明的保護范圍內(nèi)的是,供料缺口形成為涂敷表面?zhèn)鹊膶?中的凹口。在優(yōu)選的實施方式中,凹口唯一地布置在分離單元的支撐 部分的下側(cè)上。
便利地,至少兩個分離單元能夠在涂敷表面上移動,其中設(shè)置有 調(diào)節(jié)裝置,該調(diào)節(jié)裝置包括多個連接元件。優(yōu)選地一個連接元件各自 連接到一個分離元件。推薦的是,連接元件能夠借助于調(diào)節(jié)裝置而移 動,但分離元件可以定位在整個涂敷表面上,以直接鄰近和/或重疊。
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的一個實施方式,調(diào)節(jié)裝置內(nèi)的連接元件的至 少一部分相互交錯布置,但當(dāng)移動這些連接元件時,這些連接元件的
至少一部分能夠在它們的移動路徑的至少一部分上移動,其中它們可 在無碰撞的情況下運動經(jīng)過彼此。便利地,連接元件能夠在涂敷輥的 縱向軸線的方向上/橫向于供料方向移動。落入本發(fā)明保護范圍的是, 這些連接元件中的兩個能夠在不碰撞的情況下移動經(jīng)過彼此,使得連 接到兩個連接元件的分離單元移動越過彼此/布置在涂敷表面上以便 相互重疊。也就是說,如果連接元件在不碰撞的情況下移動,可以推 動連接到連接元件的分離單元越過彼此。
便利的是,調(diào)節(jié)裝置包括能夠獨立調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)桿,其中至少一個連接元件連接到每個調(diào)節(jié)桿上,其中通過操作調(diào)節(jié)桿,所連接的連接 元件能夠移動。推薦的是,'僅僅與優(yōu)選地一個分離單元連接的連接元 件連接到一個調(diào)節(jié)桿上。落入本發(fā)明保護范圍的是,該調(diào)節(jié)桿定向為 平行于/基本平行于涂敷輥的縱向軸線。
推薦的是,分離單元從連接元件移除/分開和/或分離單元連接到 閑置的連接元件。這允許改變涂敷表面/改變涂敷輥與材料幅之間的接 觸表面的設(shè)計以形成不同的帶狀樣式。
落入本發(fā)明保護范圍的是,分離單元的僅一個端部附接到調(diào)節(jié)裝 置/附接到調(diào)節(jié)裝置的連接元件。也就是說,在本實施方式中,分離單 元具有一個自由端部,并且松弛地擱置在涂敷表面上/涂敷輥上。分離 單元可以是兩個末端均連接到調(diào)節(jié)裝置/連接到調(diào)節(jié)裝置的連接元件 上。
本發(fā)明得到公認(rèn)是,利用根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備,可以將帶狀樣式可 靠地涂敷到材料幅上,其中該涂敷解決了最迫切的需求。借助于根據(jù) 本發(fā)明的設(shè)備,以特別簡單的方式避免了在分離單元的邊緣/邊緣區(qū)域 處涂覆增加量的流體介質(zhì),使得被流體介質(zhì)作用的材料幅的帶在平行 于供料方向和橫向于供料方向上涂有均勻且恒定量的流體介質(zhì)。由此, 通過根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備涂敷的材料幅表現(xiàn)出突出的外觀/最佳的特性, 其以簡單和可靠的方式可定位并且可再生產(chǎn)。
此外,本發(fā)明得到公認(rèn)的是,通過根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備生產(chǎn)的帶狀 樣式容易調(diào)節(jié)和變化而不會產(chǎn)生問題。需要指出的是,帶/帶狀樣式的 可變性,除了帶的數(shù)量之外,還包括帶的寬度。特別有益的是,也可 以在操作期間調(diào)整或改變帶狀樣式。此外需要指出的是,可利用根據(jù) 本發(fā)明的設(shè)備對現(xiàn)有的工廠進行翻新改進,而不會產(chǎn)生問題。
現(xiàn)在將參照附圖所示出的僅一個實施方式來描述本發(fā)明,其中示
意性地
圖l示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的透視圖;圖2示出了圖1的設(shè)備的調(diào)節(jié)裝置的透視圖3a至3c示出了不同分離單元的下側(cè)的示意性例示,以及
圖4示出了兩層分離單元的透^L圖。
具體實施例方式
附圖示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備,該設(shè)備用于將流體介質(zhì)和特別是柔軟整理涂層涂敷到材料幅上,該材料幅在本實施方式中且優(yōu)選為非織造織物1。該非織造織物1在整個涂敷表面上被引導(dǎo),在本實施方式中,該涂敷表面為涂敷輥2的表面。涂敷輥2在本實施方式中為圓柱狀,并且在設(shè)備的操作期間旋轉(zhuǎn)。在本實施方式中,箭頭3的方向?qū)?yīng)于涂敷輥2相對于遮蓋帶4的運動方向。涂敷輥2的下部區(qū)域浸入到圖中未示出的容器中,在該容器中,涂敷輥2的涂敷表面被流體介質(zhì)完全且連續(xù)地供給或者作用。由于涂敷輥2的旋轉(zhuǎn),該流體介質(zhì)被涂敷到在整個涂敷輥2被引導(dǎo)的非織造織物1上。優(yōu)選地且在本實施方式中,流體介質(zhì)的涂敷在接觸區(qū)域5中實現(xiàn),在該接觸區(qū)域5中,非織造織物1的下側(cè)與涂敷輥2接觸。
在根據(jù)圖1和2的實施方式中,兩個分離單元示出為以遮蓋帶4形成。遮蓋帶4覆蓋涂敷輥2上的遮蓋區(qū)域,使得在這些遮蓋區(qū)域中,非織造織物1與涂敷輥2之間沒有接觸。由此,沒有流體介質(zhì)被涂敷到非織造織物1的帶狀區(qū)域。另一方面,流體介質(zhì)被涂敷到位于遮蓋帶4之間的帶狀接觸區(qū)域5中的非織造織物1。因此,這就是所謂的在非織造織物1上的流體介質(zhì)/柔軟整理涂層的帶狀涂敷。
遮蓋帶4可以在涂敷輥2上/平行于涂敷輥2的縱向軸線移動,該移動由雙箭頭6表示。圖l和2示出了具有裝配殼體8的調(diào)節(jié)裝置7,其中多個連接元件9在裝配殼體8中#:引導(dǎo)。優(yōu)選地且在本實施方式中,遮蓋帶4連接到這些連接元件9中的每一個。該連接元件9可以在涂敷輥2的縱向軸線的方向上移動,使得連接到該連接元件9的遮蓋帶4也可以在涂敷輥2的縱向軸線的方向上移動。該連接元件9相互交錯地布置,但具體地在連接元件的移動路徑的一部分上相對于彼200910178713.6
說明書第9/10頁
此交錯布置的相鄰的連接元件9可以相互移動經(jīng)過而不發(fā)生碰撞。在根據(jù)圖1和2的實施方式中,連接元件9在裝配殼體8的引導(dǎo)槽10中被引導(dǎo)??梢钥吹剑鄬τ诒舜私诲e布置的相鄰的連接元件9的引導(dǎo)槽10/移動路徑部分地相互重疊,由此允許連接元件9相互移動經(jīng)過而不碰撞。如果遮蓋帶4連接到這些相鄰的連接元件9中的兩個,則這兩個連接元件9的移動路徑/引導(dǎo)槽10可以說相互重疊,從而這些遮蓋帶4的重疊可以說能在涂敷輥2上實現(xiàn)。在本實施方式中,可以通過使連接元件9運動而設(shè)定這些遮蓋帶4的重疊程度,使得該重疊程度是可以變化且連續(xù)的。優(yōu)選地且在本實施方式中,調(diào)節(jié)裝置7包括可獨立調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)軸,通過該調(diào)節(jié)軸,能夠使連接元件9平行于涂敷輥2的縱向軸線而運動。這樣,如圖1和2所示的那樣,遮蓋帶4平行于涂敷輥2的縱向軸線而運動。
圖3a至3c示出了遮蓋帶4的下側(cè)/涂敷表面?zhèn)鹊谋砻?,該下?cè)/涂敷表面?zhèn)鹊谋砻媾c涂敷輥2的涂敷表面相接觸。圖3a示出了遮蓋帶4的下側(cè),在該遮蓋帶4的下側(cè)中,中央槽ll作為輸送通道布置。根據(jù)圖3a,由點狀缺口 12形成的供料缺口布置在該下側(cè)中,其中優(yōu)選地且在本實施方式中,該點狀缺口 12布置在假想的線13上。根據(jù)優(yōu)選的實施方式和根據(jù)圖3a的實施方式中,該供料缺口分別沿著假想的線13布置在中央槽11的兩側(cè),其中該假想的線13以V形成對布置,并且分別與槽11成30度的定向角a。
圖3b示出了根據(jù)本發(fā)明的遮蓋帶4的另一個實施方式,在該遮蓋帶4的下側(cè)上,中央槽11作為輸送通道布置。根據(jù)圖3b,遮蓋帶4的下側(cè)具有槽狀的供料缺口 14,根據(jù)圖3b,該槽狀的供料缺口14布置在遮蓋帶4的下側(cè)上的中央槽11的兩側(cè)并呈V形。優(yōu)選地且在本實施方式中,該槽狀的供料缺口 14和該中央槽11圍成30度的定向角a。
圖3c示出了遮蓋帶4的又一個實施方式,在該遮蓋帶4的下側(cè)上,布置有作為輸送通道的中央槽11,并且在中央槽11的兩側(cè)上布置有表面的平行四邊形形狀的供料缺口 15。根據(jù)圖3c,該平行四邊形形狀的供料缺口 15的兩個邊緣布置成平行于中央槽U。另外兩個邊緣中 的每一個都與中央槽形成30度的定向角a。
圖3a至3c中的箭頭3表示涂敷輥2的涂敷表面相對于遮蓋帶4 的運動。在遮蓋帶4的區(qū)域內(nèi)涂敷到涂敷表面上的柔軟整理涂層被接 收到遮蓋帶4的支撐部分中、形成供料缺口的點狀缺口 12或者供料缺 口 14、 15中,并從那里排出到中央槽11中,其中遮蓋帶4利用該支 撐部分?jǐn)R置在涂敷表面2上/覆蓋涂敷表面。這樣,防止出現(xiàn)在涂敷表 面2和遮蓋帶4之間的柔軟整理涂層由于作用在遮蓋帶4上的壓力而 被朝向與非織造織物1一起的遮蓋帶4的邊緣擠壓,并防止柔軟整理 涂層不均勻地涂敷到非織造織物1上。根據(jù)圖3a至3c,在遮蓋帶4 的區(qū)域內(nèi)涂敷到涂敷輥2的涂敷表面的柔軟整理涂層,沿著中央槽11 被引導(dǎo)回到未示出的容器中,其中該涂敷表面浸入該容器中,用于為 涂敷表面提供柔軟整理涂層。在本實施方式中,根據(jù)圖3a至3c的中 央槽ll和由點狀缺口 12形成的供料缺口以及供料缺口 14、15被壓印 到遮蓋帶4的下側(cè)上。
圖4示出了遮蓋帶4的又一個實施方式,該遮蓋帶4由兩層構(gòu)成。 在涂敷表面?zhèn)鹊膶?下層16中,成型為凹口的中央槽11作為輸送通道 布置。根據(jù)圖4,下層16在中央槽11的兩側(cè)上均具有表面的平行四 邊形形狀的凹口 15。這些平行四邊形形狀的凹口 15的兩個邊緣平行 于中央槽ll延伸。根據(jù)圖4 ,該平行四邊形形狀的凹口 15的另外兩 個邊緣與中央槽11圍成30度夾角。優(yōu)選地且根據(jù)圖4中的實施方式, 該材料幅側(cè)的表面或上層17是不透流體的,并且不具有凹口和缺口。
權(quán)利要求
1.一種用于將流體介質(zhì)涂敷到材料幅上的設(shè)備,所述設(shè)備包括涂敷表面和至少一個分離單元,其中所述材料幅能夠在整個涂敷表面上被引導(dǎo),并且所述材料幅在所述涂敷表面的至少一個接觸區(qū)域(5)中與所述涂敷表面接觸,其中所述流體介質(zhì)能夠在所述接觸區(qū)域(5)中涂敷到所述材料幅上,其中所述分離單元覆蓋或遮蓋所述涂敷表面的遮蓋區(qū)域,其中所述材料幅能夠在整個涂敷表面進給,但在所述遮蓋區(qū)域內(nèi),所述材料幅與所述涂敷表面之間不接觸,并且其中,通過至少一個布置在所述分離單元的支撐部分中的供料元件,所述流體介質(zhì)能夠被輸送遠(yuǎn)離所述分離單元的邊緣。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述涂敷表面是涂 敷輥(2)的表面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,至少一個輸送通道 (11)布置在至少所述支撐部分中,但涂敷到所述涂敷表面的所述遮蓋區(qū)域中的流體介質(zhì)能夠通過所述輸送通道排出,其中所述輸送通道 (11)平行于/基本平行于所述分離單元的供料方向而分段地延伸。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所 述供料元件形成為傾斜于所述供料方向而布置的供料缺口,并且優(yōu)選 地,所述供料元件形成為傾斜于所述分離單元的中央縱向軸線而布置 的供料缺口。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所 述供料元件形成為供料缺口,并與所述供料方向形成高達90度的定向 角a。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的設(shè)備,其特征在于,至少兩個所述 供料缺口和優(yōu)選地多樣或多個的供料缺口布置在所述分離單元中,并且兩個供料缺口分別布置成V形。
7. 根據(jù)權(quán)利要求4至6中的任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所 述供料缺口以槽狀形成和/或由多樣或多個的點狀缺口形成。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所 述供料元件形成為多邊形的或多角的供料缺口 (15),并且其中所述多 邊形的或多角的供料缺口 (15)的至少一個邊緣與所述供料方向圍成 高達90度的定向角a。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所 述分離單元的至少所述支撐部分形成為至少兩層,并且其中,所述供 料缺口布置在所述支撐部分的至少涂敷表面?zhèn)鹊膶?17)中。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其特征在于,所述供料缺口形 成為所述涂敷表面?zhèn)鹊膶又械陌伎?。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項所述的設(shè)備,其特征在于, 至少兩個所述分離單元能夠在所述涂敷表面上移動,其中設(shè)置調(diào)節(jié)裝 置(7),所述調(diào)節(jié)裝置包括多個連接元件(9),其中一個所述分離單 元能夠各自連接到一個所述連接元件上,并且通過調(diào)節(jié)裝置(7)能夠 使所述連接元件(9)移動,但所述分離單元能夠定位成相互直接相鄰 和/或在整個所述涂敷表面上重疊。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其特征在于,所述連接元件(9) 的至少一部分交錯地布置在所述調(diào)節(jié)裝置(7)中,但在所述連接元件(9)的移動期間,這些連接元件(9)的至少一部分在這些連接元件 的移動路徑的至少一部分上能夠在不碰撞的情況下運動經(jīng)過彼此。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的設(shè)備,其特征在于,所迷調(diào)節(jié)裝置(8)包括能夠獨立地調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)桿,其中,至少一個連接元件(9)連接到每個所述調(diào)節(jié)桿上,并且其中,所連接的連接元件(9)能夠通 過操作調(diào)節(jié)桿而移動。
14. 根據(jù)權(quán)利要求11至13中的任一項所述的設(shè)備,其特征在于, 所述分離單元能夠從所述連接元件(9)移除或分開,和/或所述分離 單元能夠連接到空置的連接元件(9)上。
15. 根據(jù)權(quán)利要求11至14中的任一項所述的設(shè)備,其特征在于, 所述分離單元的僅一個端部連接到調(diào)節(jié)裝置(7 ) /連接到調(diào)節(jié)裝置(7 ) 的連接元件(9)。
全文摘要
一種用于將流體介質(zhì)涂敷到材料幅上的設(shè)備,所述設(shè)備包括涂敷表面和至少一個分離單元,其中該材料幅能夠在整個涂敷表面上被引導(dǎo),并在涂敷表面的至少一個接觸區(qū)域中與涂敷表面接觸。該流體介質(zhì)可被涂敷到接觸區(qū)域(5)中的材料幅上。分離單元覆蓋或遮蓋涂敷表面上的遮蓋區(qū)域。材料幅可在附加條件下在整個涂敷表面進給,該附加條件為在遮蓋區(qū)域內(nèi),材料幅和涂敷表面之間不發(fā)生接觸。借助于至少布置在分離單元的支撐部分中的至少一個供料元件,流體介質(zhì)可從分離單元的邊緣被輸送走。
文檔編號D06B11/00GK101684598SQ20091017871
公開日2010年3月31日 申請日期2009年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月27日
發(fā)明者H·舒爾策-烏普霍夫, M·尼奇克, S·佐默, T·費特, W·屈恩 申請人:賴芬豪澤機械工廠有限及兩合有限公司