專利名稱：瓷器制品的上釉工藝以及由此生產(chǎn)出來(lái)的制品的制作方法
背景技術(shù)：
本發(fā)明大體上涉及一種用于給瓷器制品上釉的工藝。更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及一種在一次燒制過(guò)程中給瓷器制品上釉并且所得瓷器制品具有上釉底足(foot)的工藝。本發(fā)明還涉及這樣得到的瓷器制品。
瓷器制品如瓷器盤子可制成為具有上釉底足或無(wú)釉底足(即無(wú)釉面的底足)。底足是盤子在其以正常位置擱置于桌上的表面。
在使用頻繁的環(huán)境如酒店和飯店中，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在瓷器制品中采用上釉底足比采用無(wú)釉底足更加有利。例如，上釉底足允許制品在疊放在一起時(shí)能容易地在相鄰制品的表面上滑動(dòng)，不會(huì)擦傷或損壞其表面。具有無(wú)釉底足的瓷器在接觸時(shí)會(huì)擦傷相鄰的制品。另外，上釉底足因其釉面而不會(huì)滲水，并且不會(huì)粘附上金屬印記或來(lái)自其它表面的印記。未上釉的底足還易于粘附上異物。這就會(huì)導(dǎo)致衛(wèi)生問(wèn)題，因?yàn)闊o(wú)釉底足可能會(huì)成為細(xì)菌繁殖的場(chǎng)所。
當(dāng)瓷器制品如瓷器盤子制作成具有上釉底足時(shí)，在釉燒之前必須先進(jìn)行素?zé)?。這在本行業(yè)中稱為“二次燒制”工藝，其中在第一次燒制中先制出素瓷，然后對(duì)素瓷上釉，并再次燒制以使釉料燒好。當(dāng)素瓷已上釉并準(zhǔn)備燒制時(shí)，必須通過(guò)與盤子的外底邊相接觸的支腳(通常為3個(gè))來(lái)支撐已上釉的盤子。這些支腳會(huì)留下必須被去除的印記。
制造上釉瓷器的另一方法是“一次燒制”工藝。在該工藝中，將瓷器制品成形為具有底足的“生瓷”。在制品上涂上釉料，并在此期間從底足上除去多余的釉料。如果有釉料留在底足上，那么制品就會(huì)在燒制過(guò)程中粘附到支撐面上。在燒制后瓷器制品就具有未上釉的粗糙的“無(wú)釉”底足?？蓪?duì)無(wú)釉底足進(jìn)行拋光以降低粗糙度。然而，與上釉底足相比，無(wú)釉底足仍然比較粗糙。
與二次燒制工藝相比，一次燒制工藝在制造瓷器制品方面通常成本較低且用時(shí)較少。然而，由于上述原因，對(duì)于某些用途而言，由一次燒制工藝制成的具有無(wú)釉底足的制品是不合要求的。
已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，需要一種能夠在一次燒制工藝中給瓷器制品上釉并使最終制品具有上釉底足的工藝。本發(fā)明滿足了這一需要。本發(fā)明提供了一種高效且經(jīng)濟(jì)的工藝。
發(fā)明概要本發(fā)明是一種用于給瓷器制品上釉的工藝。該工藝包括形成具有底部的瓷器制品，該底部包括上釉底足和無(wú)釉底足，其中上釉底足從底部中向下延伸到無(wú)釉底足下方的某點(diǎn)處。在制品上涂上釉料，使得在上釉底足上涂有釉料，而無(wú)釉底足基本上沒有釉料。制品被支撐在用于支撐瓷器制品的裝置上，使得無(wú)釉底足與支撐裝置相接合，而上釉底足被暴露出來(lái)。對(duì)制品進(jìn)行加熱或燒制，以將包括有釉料的制品燒好。本發(fā)明還涉及根據(jù)本發(fā)明的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
本發(fā)明的首要目的是提供一種用于在一次燒制工藝中給瓷器制品上釉并使制品包括有上釉底足的工藝。
本發(fā)明的一個(gè)重要目的是提供一種根據(jù)本發(fā)明的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
在閱讀了對(duì)優(yōu)選實(shí)施例的下述詳細(xì)介紹和附圖之后，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點(diǎn)。
附圖簡(jiǎn)介

圖1是根據(jù)本發(fā)明的工藝生產(chǎn)出來(lái)的瓷器制品的第一實(shí)施例的底部的平面圖2是沿著圖1中的線2-2剖切的第一實(shí)施例的瓷器制品的側(cè)剖視圖，其位于同樣以剖面示出的第一實(shí)施例的耐火支撐墊板上；圖3是圖2所示上釉底足的詳細(xì)視圖；圖4是圖2所示無(wú)釉底足的詳細(xì)視圖；圖5是位于第二實(shí)施例的耐火支撐墊板上的第二實(shí)施例的瓷器制品的剖視圖；圖6是圖5的局部放大視圖；圖7是位于第三實(shí)施例的耐火支撐墊板上的第三實(shí)施例的瓷器制品的剖視圖；圖8是第四實(shí)施例的瓷器制品和第四實(shí)施例的耐火支撐墊板的剖視圖；圖9是第五實(shí)施例的瓷器制品的底部及其相應(yīng)的耐火支撐墊軌的平面圖；圖10是沿圖9中的線10-10的剖視圖；圖11是第六實(shí)施例的瓷器制品的底部及其相應(yīng)的耐火支撐墊軌的平面圖；圖12是圖11所示耐火支撐墊軌的透視圖；圖13是沿圖11中的線13-13的剖視圖；圖14是根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的瓷器制品的底部的平面圖；圖15是第七實(shí)施例的瓷器制品的沿圖14中的線15-15的剖視圖和第七實(shí)施例的耐火支撐墊板的剖視圖；圖16是圖15的局部放大視圖；圖17是根據(jù)本發(fā)明第八實(shí)施例的瓷器制品的底部的平面圖；圖18是第八實(shí)施例的瓷器制品的沿圖17中的線18-18的剖視圖和第八實(shí)施例的耐火支撐墊板的剖視圖；圖19是圖18的局部放大視圖；圖20是根據(jù)本發(fā)明第九實(shí)施例的瓷器制品的底部的平面圖；圖21是第九實(shí)施例的瓷器制品的沿圖20中的線21-21的剖視圖和第九實(shí)施例的耐火支撐墊板的剖視圖；圖22是圖21的局部放大視圖；和圖23是顯示了根據(jù)本發(fā)明的工藝步驟的流程圖。
優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)描述下面將參考附圖來(lái)詳細(xì)地介紹本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例和最佳實(shí)施方式。本發(fā)明是一種用于給瓷器制品上釉的工藝。本發(fā)明還涉及一種根據(jù)該工藝來(lái)上釉的瓷器制品。本發(fā)明包括多個(gè)實(shí)施例。但是，各實(shí)施例均包括以下工藝步驟(a)形成具有包括了上釉底足和無(wú)釉底足在內(nèi)的底部的瓷器制品，上釉底足從底部中向下延伸到無(wú)釉底足下方的某點(diǎn)處；(b)在制品上涂上釉料，其中在上釉底足上涂有釉料，而無(wú)釉底足基本上沒有釉料；(c)將制品支撐在用于支撐瓷器制品的裝置或器具上，使得無(wú)釉底足與支撐裝置相接合，而上釉底足被暴露出來(lái)；和(d)加熱制品以將包括有釉料的制品燒好。
如下所述，瓷器制品可成形為多種形狀。各瓷器制品的共同特征在于，制品的底部包括上釉底足和無(wú)釉底足，其中上釉底足從底部中向下延伸到無(wú)釉底足下方的某點(diǎn)處。用語(yǔ)“上釉底足”指在本發(fā)明的工藝期間被上釉的底足。用語(yǔ)“無(wú)釉底足”指的是沒有或基本上沒有釉料的底足。
在成形后將釉料涂在瓷器制品上。這可通過(guò)將制品浸入到釉料池中或?qū)χ破穱娡坑粤蟻?lái)完成。在涂上釉料之后，從無(wú)釉底足上除去多余的釉料，使得它沒有或基本上沒有釉料。
將瓷器制品支撐在用于支撐制品的裝置或器具上，使得無(wú)釉底足與支撐裝置相接合，而上釉底足暴露出來(lái)。支撐裝置可以是耐火支撐墊板或墊環(huán)，其適于支撐瓷器制品的無(wú)釉底足。
對(duì)瓷器制品進(jìn)行加熱或燒制，以將包括釉料在內(nèi)的整個(gè)制品燒好。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，這一步驟在一次燒制工藝中完成，其中瓷器制品在制造期間只被加熱或燒制一次。
本發(fā)明的工藝可生產(chǎn)出這樣一種瓷器制品，其具有包括了上釉底足和無(wú)釉底足的底部，其中上釉底足從底部中向下延伸到無(wú)釉底足下方的某點(diǎn)處。這消除了與原有一次燒制工藝及制品相關(guān)的問(wèn)題。本發(fā)明還提供了一種工藝以及所得到的瓷器制品，與原有的二次燒制工藝及制品相比其更加經(jīng)濟(jì)和有效率。
參見圖1-4，第一實(shí)施例的制品10包括底部12，其具有上釉底足14和無(wú)釉底足16。如圖2和3所示，上釉底足14從底部12中向下延伸到無(wú)釉底足16下方的點(diǎn)P處。
如圖1所示，瓷器制品10形成有上釉底足14和無(wú)釉底足16，它們是具有中心C的連續(xù)同心環(huán)。無(wú)釉底足16設(shè)于由上釉底足14所限定的空間18內(nèi)。
參見圖2-4，瓷器制品10被支撐在第一實(shí)施例的耐火墊板20上，該墊板20具有大小適于與無(wú)釉底足16接合同時(shí)允許上釉底足14暴露出來(lái)的開口22。墊板20具有與無(wú)釉底足16的形狀相對(duì)應(yīng)的形狀。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，墊板20具有與圖1所示無(wú)釉底足16的圓形相對(duì)應(yīng)的圓形。然而應(yīng)當(dāng)理解，墊板20可具有多種形狀，這取決于無(wú)釉底足的形狀。
在工藝的加熱或燒制步驟期間，墊板20將瓷器制品10支撐在加熱裝置如窯爐中。在加熱后從墊板20上取下瓷器制品10。
如圖3和4所示，所制成的瓷器制品10包括如上所述的上釉底足14和無(wú)釉底足16。在圖中，釉料由標(biāo)號(hào)24表示。
參見圖5和6，第二實(shí)施例的瓷器制品10具有底部12，其包括上釉底足14和無(wú)釉底足16。在該實(shí)施例中，上釉底足14和無(wú)釉底足16是連續(xù)的同心環(huán)，其中上釉底足14設(shè)于由無(wú)釉底足16所限定的空間30內(nèi)。應(yīng)當(dāng)理解，上釉底足14和無(wú)釉底足16可形成為多種形狀，這取決于無(wú)釉底足的形狀。
如圖5所示，無(wú)釉底足16與第二實(shí)施例的耐火墊板32相接合或擱置于其上。墊板32的尺寸適于與無(wú)釉底足16的形狀相對(duì)應(yīng)。當(dāng)將瓷器制品10置于墊板32上時(shí)，上釉底足14暴露出來(lái)。
參見圖7，圖中顯示了第三實(shí)施例的瓷器制品10。該實(shí)施例與第二實(shí)施例類似。在第三實(shí)施例中，無(wú)釉底足16是細(xì)長(zhǎng)形的。第三實(shí)施例的耐火墊板34的尺寸制成為適于與無(wú)釉底足16的形狀相對(duì)應(yīng)。
在圖8中顯示了第四實(shí)施例的瓷器制品10。該實(shí)施例也包括細(xì)長(zhǎng)形的無(wú)釉底足16。第四實(shí)施例的耐火墊板36的尺寸制成為適于與第四實(shí)施例的無(wú)釉底足16的形狀相對(duì)應(yīng)。
參見圖9和圖10，第五實(shí)施例的瓷器制品10包括上釉底足14，其由四個(gè)區(qū)段40，42，44和46組成。無(wú)釉底足16由四個(gè)與上釉底足14相鄰接的開口或凹口48，50，52和54組成。在第五實(shí)施例中，上釉底足14和無(wú)釉底足16從中心C沿著共同的半徑延伸。然而應(yīng)當(dāng)理解，上釉底足14和無(wú)釉底足16的形狀和尺寸可以變化，這取決于瓷器制品10的類型。
仍參見圖9和10，第五實(shí)施例的瓷器制品10由兩根間隔開的平行耐火墊軌56和58來(lái)支撐，其中凹口48和50支撐在墊軌56上，而凹口52和54支撐在墊軌58上。
參見圖11-13，圖中顯示了第六實(shí)施例的瓷器制品10。在該實(shí)施例中，瓷器制品10包括由三個(gè)區(qū)段60，62和64組成的上釉底足14。無(wú)釉底足16由三個(gè)與上釉底足14相鄰接的凹口66，68和70組成。在該實(shí)施例中，上釉底足14和無(wú)釉底足16從中心C沿著共同的半徑延伸。然而應(yīng)當(dāng)理解，上釉底足14和無(wú)釉底足16的形狀和尺寸可以變化，這取決于瓷器制品10的類型。
第六實(shí)施例的瓷器制品10由圖12所示的第六實(shí)施例的耐火墊板72來(lái)支撐。墊板72包括三根間隔開的從中心80處向外伸出的墊軌74，76和78。墊軌74，76和78的尺寸制成為適于分別與圖11和13所示的凹口66，68和70相接合。
參見圖14-16，第七實(shí)施例的瓷器制品10具有底部12，其包括限定了空間82的上釉底足14。在該實(shí)施例中，無(wú)釉底足16由設(shè)于空間82內(nèi)的平面84組成。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，平面84的形狀與上釉底足14的形狀相對(duì)應(yīng)，例如為圖14所示的圓形。然而應(yīng)當(dāng)理解，平面84可具有各種形狀和尺寸。
在圖15和16中顯示了第七實(shí)施例的耐火墊板86。墊板86的尺寸制成為適于與由瓷器制品10的平面84組成的無(wú)釉底足16相接合。
參見圖17-19，第八實(shí)施例的瓷器制品10具有底部12，其包括限定了空間88的上釉底足14。無(wú)釉底足16由設(shè)于空間88內(nèi)的三個(gè)間隔開的平面90，92和94組成。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，平面90-94為圓形。然而應(yīng)當(dāng)理解，平面90-94可具有各種形狀和尺寸。由平面90-94組成的無(wú)釉底足16由第八實(shí)施例的耐火墊板96所支撐，耐火墊板96與各個(gè)平面90-94相接合。
在圖20-22中顯示了第九實(shí)施例的瓷器制品10。第九實(shí)施例的瓷器制品10與第八實(shí)施例的制品10類似。第九實(shí)施例的瓷器制品10包括一個(gè)平面98和相應(yīng)的第九實(shí)施例的耐火墊板100。
圖23是顯示了根據(jù)本發(fā)明的工藝步驟的流程圖。上述其它的工藝步驟也構(gòu)成了本發(fā)明的一部分。
在上文中出于說(shuō)明的目的給出了本發(fā)明的詳細(xì)介紹。對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)很明顯，在不脫離本發(fā)明范圍的前提下可進(jìn)行大量的變化和修改。因此，上述整個(gè)介紹應(yīng)被解釋為示例性的和非限制性的，本發(fā)明的范圍僅由所附權(quán)利要求來(lái)限定。
權(quán)利要求
1.一種用于給瓷器制品上釉的工藝，包括(a)形成具有包括了上釉底足和無(wú)釉底足在內(nèi)的底部的瓷器制品，所述上釉底足從所述底部中向下延伸到所述無(wú)釉底足下方的某點(diǎn)處；(b)在所述制品上涂上釉料，其中在所述上釉底足上涂有所述釉料，而所述無(wú)釉底足基本上沒有所述釉料；(c)將所述制品支撐在用于支撐瓷器制品的裝置上，使得所述無(wú)釉底足與所述支撐裝置相接合，而所述上釉底足被暴露出來(lái)；和(d)加熱所述制品以將包括有所述釉料的所述制品燒好。
2.一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器形成為使得所述無(wú)釉底足設(shè)于由所述上釉底足所限定的空間內(nèi)。
4.一種根據(jù)權(quán)利要求3所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器形成為使得所述上釉底足設(shè)于由所述無(wú)釉底足所限定的空間內(nèi)。
6.一種根據(jù)權(quán)利要求5所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器制品形成有同心環(huán)形式的所述上釉底足和所述無(wú)釉底足，其中所述無(wú)釉底足設(shè)于由所述上釉底足所限定的空間內(nèi)。
8.一種根據(jù)權(quán)利要求7所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器制品形成有同心環(huán)形式的所述上釉底足和所述無(wú)釉底足，其中所述上釉底足設(shè)于由所述無(wú)釉底足所限定的空間內(nèi)。
10.一種根據(jù)權(quán)利要求9所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器形成為所述無(wú)釉底足是設(shè)置成與所述上釉底足相鄰接的至少一個(gè)凹口。
12.一種根據(jù)權(quán)利要求11所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器形成為所述無(wú)釉底足是設(shè)置成與所述上釉底足相鄰接的三個(gè)凹口。
14.一種根據(jù)權(quán)利要求13所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器形成為所述無(wú)釉底足是設(shè)置成與所述上釉底足相鄰接的四個(gè)凹口。
16.一種根據(jù)權(quán)利要求15所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器形成為所述無(wú)釉底足是設(shè)于由所述上釉底足所限定的空間內(nèi)的至少一個(gè)平面。
18.一種根據(jù)權(quán)利要求17所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器形成為所述無(wú)釉底足是設(shè)于由所述上釉底足所限定的空間內(nèi)的至少三個(gè)平面。
20.一種根據(jù)權(quán)利要求19所述的工藝來(lái)上釉的瓷器制品。
21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述釉料通過(guò)將所述制品浸入到所述釉料中來(lái)進(jìn)行施加。
22.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述釉料通過(guò)將所述釉料噴到所述制品上來(lái)進(jìn)行施加。
23.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述用于支撐瓷器制品的裝置包括適于與所述無(wú)釉底足相接合的基座。
24.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述用于支撐瓷器制品的裝置包括適于與所述無(wú)釉底足相接合的耐火墊板。
25.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述用于支撐瓷器制品的裝置包括至少兩根間隔開的大致平行的墊軌。
26.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述用于支撐瓷器制品的裝置包括至少三根間隔開的從中心向外延伸的墊軌。
27.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述瓷器制品被加熱不超過(guò)一次。
28.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述加熱是所述陶瓷制品的一次燒制。
全文摘要
一種用于給瓷器制品上釉的工藝，包括形成具有底部(12)的瓷器制品，該底部包括上釉底足(14)和無(wú)釉底足(16)。上釉底足(14)從底部(12)中向下延伸到無(wú)釉底足(16)下方的某點(diǎn)處。在制品上涂上釉料，使得在上釉底足(14)上涂有釉料，而無(wú)釉底足(16)基本上沒有釉料。制品被支撐在支撐裝置(20)上，使得無(wú)釉底足(16)與裝置(20)接合，而上釉底足(14)被暴露出來(lái)。對(duì)制品(10)進(jìn)行加熱以將包括有釉料的制品燒好。在此工藝中可生產(chǎn)出上釉的瓷器制品(10)。
文檔編號(hào)B28B11/04GK1620342SQ02828300
公開日2005年5月25日 申請(qǐng)日期2002年11月22日 優(yōu)先權(quán)日2002年2月25日
發(fā)明者W·J·齊特庫(kù)斯, J·N·伯努瓦 申請(qǐng)人:錫拉丘茲瓷器公司