專利名稱：模造玻璃的模仁的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種模造玻璃的模仁(die)，特別是涉及一種用于模造低表面粗糙度玻璃的模仁。
背景技術：
高精度模造玻璃所使用的模仁，歷經(jīng)多年來不斷的演進、改良，在本發(fā)明之前的文獻中所公開的模仁，其使用壽命，在約700℃的模造溫度下，已可達約2000次的模造次數(shù)。例如日本專利公開號62-119128公開的是使用Ir-Mn-XN做為模仁底材的保護膜，其中Mn為Pt、Os、Pd、Rh、或Ru，XN為Ti、Cr、Ta、Nb、Si、B、Al、Hf、Zr、或V的氮化物；由日本專利公開號62-292637公開的是使用Ir-(Re，Os)-Ta做為模仁底材的保護膜，其中Re與Os的含量分別必須大于30％或40％；由臺灣地區(qū)專利第137069號(公開號為445242)公開的是使用Ir-Re-CrN合金作為模仁底材的保護膜、Ir-Re-Ni合金為上述保護膜與底材之間的中間層，上述的保護膜中，Ir∶Re＝1∶4～4∶1，CrN重量百分比為1～30wt％。上述文獻所公開的模仁，持續(xù)進行2000次以上的模造之后，其保護膜易剝離，而無法在使其在約700℃的模造溫度下的使用壽命繼續(xù)延長到3000次甚至4000次。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是提供一種模造玻璃的模仁，改善其各層結構之間的附著力，以提升其在約700℃的模造溫度下的使用壽命至3000次～4000次，進而減少預防性維護(PM)的次數(shù)，并降低生產(chǎn)成本。
為達到本發(fā)明的上述目的，本發(fā)明的技術方案是提供一種模造玻璃的模仁，包括底材；第一中間層，其位于上述底材上，為含鎳的銥錸合金，其鎳濃度隨著遠離上述底材與第一中間層界面而遞減；第二中間層，其位于上述第一中間層上，為含一種金屬成分的銥錸合金，其中上述金屬成分是選自鉻、鉭、鈦與鈦鉻合金所組成的族群之一，上述金屬成分在上述第二中間層中的濃度隨著遠離上述第一中間層與第二中間層界面而遞增；以及保護膜，其位于上述第二中間層上。
在第一中間層的形成方面，先將底材的表面研磨、拋光，以多靶材共濺鍍(Co-sputtering)的方式，濺鍍一層含鎳的銥錸合金作為第一中間層，將底材置入鍍膜反應室(未繪示)內(nèi)，并提供銥靶材、錸靶材、鎳或鎳合金靶材，在各靶材(Target)依所需成份比例選定鍍膜功率，開始鍍制第一中間層。在鍍制的過程中，銥靶材、錸靶材維持固定鍍膜功率不變，而將鎳或鎳合金靶材的鍍膜功率，隨著膜厚的增加而逐漸變小至最低鍍膜功率后，調整至零，此時第一中間層中為最小鎳濃度；接下來，以多靶材共濺鍍的方式在第一中間層上形成第二中間層。在完成第一中間層的鍍制后，在銥靶材、錸靶材仍維持固定鍍膜功率不變的情況下，而提供鉻、鉭、或鈦的靶材(視需要選擇其中之一或其組合)，由其最低鍍膜功率開始，隨著膜厚的增加而逐漸加大其鍍膜功率，從而鍍制第二中間層。
此外，在上述第一中間層與第二中間層之間，可視需要還可加上一層調和中間層，以更進一步增加上述第一中間層與第二中間層之間的附著力。
本發(fā)明達到的技術效果在于本發(fā)明提供的模造玻璃的模仁，其第一中間層與底材同樣含有鎳，而能夠增加兩者之間的附著力；而第一中間層中的鎳含量度隨著遠離底材與第一中間層的界面而遞減，至第一中間層與第二中間層的界面處為最小，接著第二中間層中的鉻、鉭、鈦、或鈦鉻合金的含量在第一中間層與第二中間層的界面處為最小，隨著遠離第一中間層與第二中間層的界面而遞增，而能降低第一中間層與第二中間層的界面處的成分差異而能夠增加兩者之間的附著力；最后保護膜含有與第二中間層相同合金元素的氮化物時，亦能增加第二中間層與保護膜之間的附著力。而使本發(fā)明模造玻璃的模仁在約700℃的模造溫度下的使用壽命提升至3000次～4000次，進而減少預防性維護(PM)的次數(shù)，并降低生產(chǎn)成本。


圖1為剖面圖，是顯示本發(fā)明玻璃模造的模仁1的結構。
圖2為剖面圖，是顯示本發(fā)明玻璃模造的模仁2的結構。
符號說明1模仁 2模仁100、200底材 101、201第一中間層102、202第二中間層103、203保護膜120、220模造面204調和中間層為了讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉二個較佳實施例，并配合所附圖示，作詳細說明如下
具體實施例方式實施例一請參考圖1，為一個剖面圖，是顯示本發(fā)明模造玻璃的模仁1。其中，模仁1的結構依次包括底材100、第一中間層101、第二中間層102、與保護膜103。其中保護膜103優(yōu)選為含一種氮化物的銥錸合金，其中氮化物可為氮化鉻、氮化鉭、氮化鈦或氮化鈦鉻。另外，保護膜103上具有模造面120。
底材100，通常是使用碳化鎢，其中通常含有鎳的成分，因此第一中間層101的材質是使用含鎳的銥錸合金，以增加第一中間層101與底材100之間的附著力。在第一中間層101的形成方面，先將底材100的表面研磨、拋光，以多靶材共濺鍍的方式，濺鍍一層含鎳的銥錸合金作為第一中間層101，其膜厚范圍優(yōu)選為0.1～0.3μm，而銥錸合金中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10?？紤]到第一中間層101與后續(xù)的第二中間層102之間的附著力，第一中間層101中的鎳濃度是隨著遠離底材100與第一中間層101的界面而遞減。
因此，在使用多靶材共濺鍍的方式形成第一中間層101時，將底材100置入鍍膜反應室(未繪示)內(nèi)，并提供銥靶材、錸靶材、鎳或鎳合金靶材，在各靶材依所需成份比例選定鍍膜功率，開始鍍制第一中間層101。在鍍制的過程中，銥靶材、錸靶材維持固定鍍膜功率不變，而將鎳或鎳合金靶材的鍍膜功率，隨著膜厚的增加而逐漸變小至最低鍍膜功率(低于此功率，則無法由靶材射出其原子，依材料特性而有不同的值，以鎳而言，為約50W)后，調整至零，此時第一中間層101中的最小鎳原子百分比濃度為5at％～10at％。
而第一中間層101中的最大鎳濃度，亦即是位于底材100與第一中間層101的界面的鎳原子百分比濃度為20at％～30at％。
接下來，以多靶材共濺鍍的方式在第一中間層101上形成第二中間層102。在完成第一中間層101的鍍制后，在銥靶材、錸靶材仍維持固定鍍膜功率不變的情況下，而提供鉻、鉭、或鈦的靶材(視需要選擇其中之一或其組合)，由其最低鍍膜功率開始，隨著膜厚的增加而逐漸加大其鍍膜功率，從而鍍制第二中間層102，其膜厚范圍優(yōu)選為0.1～0.3μm，而銥錸合金中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10。
當選擇鍍制含鉻的銥錸合金作為第二中間層102時，其最小鉻濃度，亦即第一中間層101與第二中間層102的界面的鉻原子百分比濃度至少大于0at％，其鉻濃度隨著遠離第一中間層101與第二中間層102的界面而遞增，至后續(xù)的第二中間層102與保護膜103的界面時的最大鉻原子百分比濃度優(yōu)選為40at％～50at％。而后，優(yōu)選為將銥靶材、錸靶材、與鉻靶材的鍍膜功率固定，并在上述的鍍膜反應室內(nèi)通入氮氣，形成含氮化鉻的銥錸合金作為保護膜103。其中保護膜103中銥與錸的原子百分比的優(yōu)選范圍為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10；氮化鉻的含量優(yōu)選為4at％～40at％；膜厚優(yōu)選為0.5～2μm。
當選擇鍍制含鉭的銥錸合金作為第二中間層102時，其最小鉭濃度，亦即第一中間層101與第二中間層102的界面的鉭原子百分比濃度至少大于0at％，其鉭濃度隨著遠離第一中間層101與第二中間層102的界面而遞增，至后續(xù)的第二中間層102與保護膜103的界面時的最大鉭原子百分比濃度優(yōu)選為20at％～25at％。而后，優(yōu)選為將銥靶材、錸靶材、與鉭靶材的鍍膜功率固定，并在上述的鍍膜反應室內(nèi)通入氮氣，形成含氮化鉭的銥錸合金作為保護膜103。其中保護膜103中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10；氮化鉭的原子百分比含量優(yōu)選為3at％～30at％；膜厚優(yōu)選為0.5～2μm。
當選擇鍍制含鈦的銥錸合金作為第二中間層102時，其最小鈦濃度，亦即第一中間層101與第二中間層102的界面的鈦原子百分比濃度至少大于0at％，其鈦濃度隨著遠離第一中間層101與第二中間層102的界面而遞增，至后續(xù)的第二中間層102與保護膜103的界面時的最大鈦原子百分比濃度為20at％～25at％。而后，優(yōu)選為將銥靶材、錸靶材、與鈦靶材的鍍膜功率固定，并在上述的鍍膜反應室內(nèi)通入氮氣，形成含氮化鈦的銥錸合金作為保護膜103。其中保護膜103中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10；氮化鈦的原子百分比含量優(yōu)選為3at％～30at％；膜厚優(yōu)選為0.5～2μm。
當選擇鍍制含鈦鉻合金的銥錸合金作為第二中間層102時，其最小鈦鉻合金的濃度，亦即第一中間層101與第二中間層102的界面的鈦鉻合金原子百分比濃度至少大于0at％，其鈦鉻合金濃度隨著遠離第一中間層101與第二中間層102的界面而遞增，至后續(xù)的第二中間層102與保護膜103的界面時的最大鈦鉻合金原子百分比濃度優(yōu)選為30at％～38at％。而后，優(yōu)選為將銥靶材、錸靶材、鈦靶材、與鉻靶材的鍍膜功率固定，并在上述的鍍膜反應室內(nèi)通入氮氣，形成含氮化鉻的銥錸合金作為保護膜103。其中保護膜103中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10；氮化鈦鉻的含量優(yōu)選為10at％～40at％；膜厚優(yōu)選為0.5～2μm。
如上所述，本發(fā)明模造玻璃的模仁1，其第一中間層101與底材100同樣含有鎳，而能夠增加兩者之間的附著力；而第一中間層101中的鎳含量度隨著遠離底材100與第一中間層101的界面而遞減，至第一中間層101與第二中間層102的界面處為最小，接著第二中間層102中的鉻、鉭、鈦、或鈦鉻合金的含量在第一中間層101與第二中間層102的界面處為最小，隨著遠離第一中間層101與第二中間層102的界面而遞增，而能降低第一中間層101與第二中間層102的界面處的成分差異而能夠增加兩者之間的附著力；最后保護膜103含有與第二中間層102相同合金元素的氮化物時，亦能增加第二中間層102與保護膜103之間的附著力。而使本發(fā)明模造玻璃的模仁1在約700℃的模造溫度下的使用壽命提升至3000次～4000次，進而減少預防性維護(PM)的次數(shù)，并降低生產(chǎn)成本，是達成本發(fā)明的上述目的。
實施例二使用多靶材濺鍍的方式，形成第一實施例的第一中間層101、第二中間層102時，兩者中的溶質成分差異已降至制程的極限，而能夠達成增加兩者之間的附著力而增加本發(fā)明模仁1的使用壽命的目標；然而兩者之間的溶質成分差異較難遞減至零或由零開始遞增，為了能夠再進一步提升發(fā)明的模仁1的使用壽命，特再提出本實施例，在上述第一中間層與第二中間層之間，再加入一層調和中間層，而更進一步提升兩者之間的附著力，請參考以下的敘述。
請參考圖2，為一個剖面圖，是顯示本發(fā)明模造玻璃的模仁2。其中，模仁2的結構依次包括底材200、第一中間層201、調和中間層204、第二中間層202、與保護膜203。保護膜203優(yōu)選為含一種氮化物的銥錸合金，其中氮化物可為氮化鉻、氮化鉭、氮化鈦或氮化鈦鉻。另外，保護膜203上具有模造面220。
底材200，通常是使用碳化鎢，其內(nèi)通常含有鎳的成分，因此第一中間層201的材質是使用含鎳的銥錸合金，以增加第一中間層201與底材200之間的附著力。在第一中間層201的形成方面，先將底材200的表面研磨、拋光，以多靶材共濺鍍的方式，濺鍍一層含鎳的銥錸合金作為第一中間層201，其膜厚范圍優(yōu)選為0.1～0.3μm，而銥錸合金中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10。考慮到第一中間層201與后續(xù)的第二中間層202之間的附著力，第一中間層201中的鎳濃度是隨著遠離底材200與第一中間層201的界面而遞減。
因此，在使用多靶材共濺鍍的方式形成第一中間層201時，將底材200置入鍍膜反應室(未繪示)內(nèi)，并提供銥靶材、錸靶材、鎳或鎳合金靶材，在各靶材依所需成份比例選定鍍膜功率，開始鍍制第一中間層201。在鍍制的過程中，銥靶材、錸靶材維持固定鍍膜功率不變，而將鎳或鎳合金靶材的鍍膜功率，隨著膜厚的增加而逐漸變小至一最低鍍膜功率(低于此功率，則無法由靶材射出其原子，依材料特性而有不同的值，以鎳而言，為約50W)后，調整至零，此時第一中間層201中的最小鎳原子百分比濃度為5at％～10at％。
而第一中間層201中的最大鎳濃度，亦即是位于底材200與第一中間層201的界面的鎳濃度，優(yōu)選為等于底材200內(nèi)的鎳原子百分比濃度，例如為20at％～30at％。
接下來，繼續(xù)維持銥靶材、錸靶材的固定鍍膜功率，從而鍍制不含其它合金成分的銥錸合金層作為介于第一中間層201與后續(xù)的第二中間層202之間的調和中間層204，其銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10，而其厚度范圍優(yōu)選為0.01～0.1μm。調和中間層204因不含其它的合金成分，可以更加地調和第一中間層201與后續(xù)的第二中間層202之間的成分差異，因而更增加第一中間層201與后續(xù)的第二中間層202之間的附著力。
接下來，以多靶材共濺鍍的方式在調和中間層204上形成第二中間層202。在完成調和中間層204的鍍制后，在銥靶材、錸靶材仍維持固定鍍膜功率不變之下，而提供鉻、鉭、或鈦的靶材(視需要選擇其中之一或其組合)，由其最低鍍膜功率開始，隨著膜厚的增加而逐漸加大其鍍膜功率，從而鍍制第二中間層202，其膜厚范圍優(yōu)選為0.1～0.3μm，而銥錸合金中銥與錸的原子百分比的優(yōu)選范圍為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10。
當選擇鍍制含鉻的銥錸合金作為第二中間層202時，其最小鉻濃度，亦即調和中間層204與第二中間層202的界面的鉻原子百分比濃度至少大于0at％，其鉻濃度隨著遠離調和中間層204與第二中間層202的界面而遞增，至后續(xù)的第二中間層202與保護膜203的界面時的最大鉻原子百分比濃度優(yōu)選為40at％～50at％。而后，將銥靶材、錸靶材、與鉻靶材的鍍膜功率固定，并在上述的鍍膜反應室內(nèi)通入氮氣，形成含氮化鉻的銥錸合金作為保護膜203。其中保護膜203中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10；氮化鉻的含量優(yōu)選為4at％～40at％；膜厚優(yōu)選為0.5～2μm。
當選擇鍍制含鉭的銥錸合金作為第二中間層202時，其最小鉭濃度，亦即調和中間層204與第二中間層202的界面的鉭原子百分比濃度至少大于0at％，其鉭濃度隨著遠離調和中間層204與第二中間層202的界面而遞增，至后續(xù)的第二中間層202與保護膜203的界面時的最大鉭原子百分比濃度為20at％～25at％。而后，將銥靶材、錸靶材、與鉭靶材的鍍膜功率固定，并在上述的鍍膜反應室內(nèi)通入氮氣，形成含氮化鉭的銥錸合金作為保護膜203。其中保護膜203中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10；氮化鉭的含量優(yōu)選為3at％～30at％；膜厚優(yōu)選為0.5～2μm。
當選擇鍍制含鈦的銥錸合金作為第二中間層202時，其最小鈦濃度，亦即調和中間層204與第二中間層202的界面的鈦原子百分比濃度至少大于0at％，其鈦濃度隨著遠離調和中間層204與第二中間層202的界面而遞增，至后續(xù)的第二中間層202與保護膜203的界面時的最大鈦原子百分比濃度為20at％～25at％。而后，將銥靶材、錸靶材、與鈦靶材的鍍膜功率固定，并在上述的鍍膜反應室內(nèi)通入氮氣，形成含氮化鈦的銥錸合金作為保護膜203。其中保護膜203中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10；氮化鈦的含量優(yōu)選為3at％～30at％；膜厚優(yōu)選為0.5～2μm。
當選擇鍍制含鈦鉻合金的銥錸合金作為第二中間層202時，其最小鈦鉻合金的濃度，亦即調和中間層204與第二中間層202的界面的鈦鉻合金原子百分比濃度至少大于0at％，其鈦鉻合金濃度隨著遠離調和中間層204與第二中間層202的界面而遞增，至后續(xù)的第二中間層202與保護膜203的界面時的最大鈦鉻合金原子百分比濃度為30at％～38at％。而后，將銥靶材、錸靶材、鈦靶材、與鉻靶材的鍍膜功率固定，并在上述的鍍膜反應室內(nèi)通入氮氣，形成含氮化鉻的銥錸合金作為保護膜203。其中保護膜203中銥與錸的原子百分比的范圍優(yōu)選為99∶1～70∶30、更優(yōu)選為99∶1～90∶10；氮化鈦鉻的含量優(yōu)選為10at％～40at％；膜厚優(yōu)選為0.5～2μm。
如上所述，本發(fā)明模造玻璃的模仁2，其第一中間層201與底材200同樣含有鎳，而能夠增加兩者之間的附著力；而第一中間層101中的鎳含量度隨著遠離底材200與第一中間層201的界面而遞減，至第一中間層201與調和中間層204的界面處為最??；然后不含其它合金的調和中間層204的形成，可以更加調和第一中間層201與第二中間層202之間的成分差異，從而更增加二者之間的附著力；接著第二中間層202中的鉻、鉭、鈦、或鈦鉻合金的含量在調和中間層204與第二中間層202的界面處為最小，隨著遠離第調和中間層204與第二中間層202的界面而遞增，而能降低調和中間層204與第二中間層202的界面處的成分差異而能夠增加兩者之間的附著力；最后保護膜203含有與第二中間層202相同合金元素的氮化物時，亦能增加第二中間層202與保護膜203之間的附著力。而使本發(fā)明模造玻璃的模仁2在約700℃的模造溫度下的使用壽命提升至3000次～4000次，進而減少預防性維護(PM)的次數(shù)，并降低生產(chǎn)成本，是達到本發(fā)明的上述目的。
最后，提供發(fā)明人所認為制造本發(fā)明模造玻璃的模仁2的最佳工作例。請注意后續(xù)所提供的各項制程參數(shù)，例如鍍膜功率、其變化速率、鍍膜時間、合金的選擇等是用來舉例說明，不應成為本發(fā)明的限制，熟悉此項技術的人可依其本身的制程條件，在不脫離本發(fā)明精神的情況下，做出顯而易見的變化。
將碳化鎢的底材200置入鍍膜反應室(未繪示)內(nèi)，在底材200上，鍍制Ir-Re-Ni的第一中間層200，各靶材起始功率為分別為約400W、約100W及約200W，Ir與Re靶材的功率固定在400W及100W，Ni靶材的功率由約200W開始以約15W/min之速率降至約50W后，將Ni靶材的功率調至零；Ir-Re繼續(xù)鍍不停止，持續(xù)約5分鐘后而完成調和中間層204的鍍制；然后開始鍍第二中間層202，將Cr靶材的功率由約100W開始以約50W/min的速率升至約300W，維持約2分鐘后；開始鍍保護膜203，Ir、Re及Cr靶材的功率延續(xù)第二中間層202后約2分鐘的條件，將N2通入上述鍍膜反應室內(nèi)，鍍制約5分鐘；而完成本發(fā)明模造玻璃的模仁2的制造。
雖然本發(fā)明已以較佳實施例公開如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此項技術的人，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍應當以本申請權利要求書所界定的保護范圍為準。
權利要求
1.一種模造玻璃的模仁，其特征在于包括底材；第一中間層，其位于底材上，為含鎳的銥錸合金，其鎳濃度隨著遠離該底材與第一中間層界面而遞減；第二中間層，其位于第一中間層上，為含一種金屬成分的銥錸合金，其中該金屬成分是選自鉻、鉭、鈦與鈦鉻合金所組成的族群之一，該金屬成分在該第二中間層中的濃度隨著遠離該第一中間層與第二中間層界面而遞增；以及保護膜，其位于第二中間層上。
2.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述底材為碳化鎢。
3.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的最大鎳原子百分比濃度為20％～30％。
4.如權利要求3所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的最小鎳原子百分比濃度為5％～10％。
5.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～70∶30。
6.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～90∶10。
7.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的厚度為0.1～0.3μm。
8.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的最大鉻原子百分比濃度為40％～50％。
9.如權利要求8所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的鉻原子百分比濃度至少大于0％。
10.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的最大鉭原子百分比濃度為20％～25％。
11.如權利要求10所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的鉭原子百分比濃度至少大于0％。
12.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的最大鈦原子百分比濃度為20％～25％。
13.如權利要求12所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的鈦原子百分比濃度至少大于0％。
14.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的最大鈦鉻合金原子百分比濃度為30％～38％。
15.如權利要求14所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的鈦鉻合金原子百分比濃度至少大于0％。
16.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～70∶30。
17.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～90∶10。
18.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的厚度為0.1～0.3μm。
19.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜為含一種氮化物的銥錸合金。
20.如權利要求19所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜的銥與錸的原子百分比為99∶1～70∶30。
21.如權利要求19所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜的銥與錸的原子百分比為99∶1～90∶10。
22.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜的厚度為0.5～2μm。
23.如權利要求19所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述氮化物是擇自氮化鉻、氮化鉭、氮化鈦或氮化鈦鉻。
24.如權利要求23所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述金屬成分為鉻時，所述氮化物為氮化鉻。
25.如權利要求23所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述金屬成分為鉭時，所述氮化物為氮化鉭。
26.如權利要求23所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述金屬成分為鈦時，所述氮化物為氮化鈦。
27.如權利要求23所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述金屬成分為鈦鉻合金時，所述氮化物為氮化鈦鉻。
28.如權利要求1所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜具有模造面。
29.一種模造玻璃的模仁，其特征在于包括底材；第一中間層，其位于底材上，為含鎳的銥錸合金，其鎳濃度隨著遠離該底材與第一中間層界面而遞減；調和中間層，在該第一中間層上，為不含其它金屬成分的銥錸合金層；第二中間層，其位于銥錸合金層上，為含一種金屬成分的銥錸合金，其中該金屬成分是選自鉻、鉭、鈦與鈦鉻合金所組成的族群之一，該金屬成分在該第二中間層中的濃度隨著遠離該第一中間層與第二中間層界面而遞增；以及保護膜，其位于第二中間層上。
30.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述底材為碳化鎢。
31.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的最大鎳原子百分比濃度為20％～30％。
32.如權利要求31所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的最小鎳原子百分比濃度為5％～10％。
33.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～70∶30。
34.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～90∶10。
35.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第一中間層的厚度為0.1～0.3μm。
36.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的最大鉻原子百分比濃度為40％～50％。
37.如權利要求36所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的鉻原子百分比濃度至少大于0％。
38.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的最大鉭原子百分比濃度為20％～25％。
39.如權利要求38所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的鉭原子百分比濃度至少大于0％。
40.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的最大鈦原子百分比濃度為20％～25％。
41.如權利要求40所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的鈦原子百分比濃度至少大于0％。
42.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的最大鈦鉻合金原子百分比濃度為30％～38％。
43.如權利要求42所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的鈦鉻合金原子百分比濃度至少大于0％。
44.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～70∶30。
45.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～90∶10。
46.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述第二中間層的厚度為0.1～0.3μm。
47.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述調和中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～70∶30。
48.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述調和中間層的銥與錸的原子百分比為99∶1～90∶10。
49.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述調和中間層的厚度為0.01～0.1μm。
50.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜為含一種氮化物的銥錸合金。
51.如權利要求50所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜的銥與錸的原子百分比為99∶1～70∶30。
52.如權利要求50所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜的銥與錸的原子百分比為99∶1～90∶10。
53.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜的厚度為0.5～2μm。
54.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述氮化物是擇自氮化鉻、氮化鉭、氮化鈦或氮化鈦鉻。
55.如權利要求54項所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述金屬成分為鉻時，所述氮化物為氮化鉻。
56.如權利要求54所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述金屬成分為鉭時，所述氮化物為氮化鉭。
57.如權利要求54所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述金屬成分為鈦時，所述氮化物為氮化鈦。
58.如權利要求54所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述金屬成分為鈦鉻合金時，所述氮化物為氮化鈦鉻。
59.如權利要求29所述的模造玻璃的模仁，其特征在于所述保護膜具有模造面。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種模造玻璃的模仁，包括底材；第一中間層，其位于底材上，為含鎳的銥錸合金，其鎳濃度隨著遠離上述底材與第一中間層界面而遞減；第二中間層，其位于第一中間層上，為含一金屬成分的銥錸合金，其中上述金屬成分是選自鉻、鉭、鈦與鈦鉻合金所組成的族群之一，上述金屬成分在上述第二中間層中的濃度隨著遠離上述第一中間層與第二中間層界面而遞增；以及保護膜，其位于第二中間層上。此外，在上述第一中間層與第二中間層之間，可視需要還可加上一層調和中間層，以更進一步增加上述第一中間層與第二中間層之間的附著力。
文檔編號C03B11/06GK1657452SQ20041003916
公開日2005年8月24日 申請日期2004年2月18日 優(yōu)先權日2004年2月18日
發(fā)明者白瑞芬 申請人:亞洲光學股份有限公司