專(zhuān)利名稱(chēng)：：用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明涉及一種用以施設(shè)多孔的玻璃層的方法以及一種包括多孔的玻璃層的復(fù)合材料。
背景技術(shù)：
：多孔的玻璃層在基材上的產(chǎn)生是已知的。例如EP708061(Yazawa等人)描述多孔的玻璃層通過(guò)腐蝕法的生產(chǎn)。已知的用于生產(chǎn)多孔的玻璃層的腐蝕法具有缺點(diǎn)，其是很昂貴的。例如為生產(chǎn)多孔的玻璃層需要多個(gè)方法步驟。另一方面不能任意調(diào)節(jié)玻璃層的孔隙度。此外腐蝕的玻璃層的孔隙度大多不是很均質(zhì)的，通常層的孔隙度隨著漸增的深度而降低。利用腐蝕法也不能制造較厚的層。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于，提供一種用以施設(shè)至少一個(gè)多孔的玻璃層的方法，其盡可能是簡(jiǎn)單的和低成本的。此外本發(fā)明的目的是，提供一種方法，其能夠在設(shè)備中提供具有不同孔隙度的玻璃層。應(yīng)該可以提供不同厚度和不同孔隙度的玻璃層?？紫抖葢?yīng)該沿整個(gè)層厚是可調(diào)的，從而也有可能施設(shè)具有基本上均質(zhì)的孔隙度或有針對(duì)性地逐漸改變的孔隙度的層。此外本發(fā)明的目的是，提供一種復(fù)合材料，其是納米構(gòu)造的并且具有光學(xué)上或化學(xué)上活性的特性。已通過(guò)按照獨(dú)立權(quán)利要求所述的一種用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法和一種復(fù)合材料達(dá)到了本發(fā)明的該目的。由相應(yīng)的從屬權(quán)利要求得知本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施形式和進(jìn)一步構(gòu)成。本發(fā)明設(shè)定一種用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其中準(zhǔn)備一基材和一材料源并且借助于PVD法在基材上沉積一玻璃層，其具有超過(guò)百分之一的孔隙度。本發(fā)明還設(shè)定一種用于施設(shè)玻璃層的方法，其包括以下步驟準(zhǔn)備至少一個(gè)基材，準(zhǔn)備至少一個(gè)材料源和沉積至少一個(gè)多孔的玻璃層。在一實(shí)施形式中沉積具有一超過(guò)1%的孔隙度的玻璃層。對(duì)此優(yōu)選多孔的玻璃層借助PVD法、特別借助于蒸發(fā)來(lái)沉積在基材上。本發(fā)明已找到，借助于PVD(物理氣相沉積)法可沉積多孔的玻璃層。這樣的PVD法可以在一個(gè)過(guò)程步驟中實(shí)施并且比傳統(tǒng)的腐蝕法顯著較少耗費(fèi)的。并且在PVD法中可以有針對(duì)性地控制玻璃層的孔隙度。例如有可能施設(shè)一具有基本上均質(zhì)的孔隙度的玻璃層，反之已知的腐蝕法大多具有從基材面向外側(cè)面增加的孔隙度。多孔的玻璃層優(yōu)選地構(gòu)成為功能層。在沉積的玻璃層中包括的空隙按已知的現(xiàn)有技術(shù)是不符合要求的。相反本發(fā)明人已找到，可以提供一種層，其由于孔隙度用作為功能層，因此首次能夠?qū)崿F(xiàn)層的孔隙度確定的功能，它們?cè)谝韵赂敿?xì)地描述。按照本發(fā)明設(shè)定，產(chǎn)生有針對(duì)性的梯度層，亦即具有從外向內(nèi)有針對(duì)性地改變的孔隙度的層。特別按照本發(fā)明設(shè)定，產(chǎn)生在基材面上具有高的起始孔隙度和在外側(cè)面上具有較小的孔隙度的層。本發(fā)明的方法適用于幾乎全部的類(lèi)型的基材，特別是也可以采用塑料基材。借助于PVD法有可能也對(duì)較大的基材如窗、顯示器等進(jìn)行涂層。這可以以?xún)?yōu)選的方式在連續(xù)設(shè)備中實(shí)現(xiàn)。作為材料源準(zhǔn)備玻璃靶極。玻璃可以例如通過(guò)蒸發(fā)例如通過(guò)電子束蒸發(fā)、或通過(guò)濺射轉(zhuǎn)化為氣相并接著沉積在基材上。度。對(duì)此通常較高的沉積率和/或較高的分壓力導(dǎo)致較高的孔隙度。經(jīng)由剩余氣體的成分可以調(diào)節(jié)層的其他的特殊的特性，例如在塑料上的粘附性或功能特性。-說(shuō)本恭。邦9^侑點(diǎn)，即可以保持很低的基材溫度并且也可以對(duì)由一聚合物材料構(gòu)成的基材進(jìn)行涂層。通過(guò)蒸發(fā)產(chǎn)生的微小的熱負(fù)荷還允許采用光刻的技術(shù)并且對(duì)此特別采用熱敏的光刻漆或光刻膠。因此然后也可以結(jié)構(gòu)化地施設(shè)各個(gè)由多孔的玻璃構(gòu)造的層。這包括接著的方法步驟的一次或多次的實(shí)施，這些方法步驟包括基材用光敏的保護(hù)層的涂布，施設(shè)的保護(hù)層的光刻的構(gòu)造、因此預(yù)構(gòu)造的基材用一多孔的玻璃層的涂布以及保護(hù)層的剝離(Lift-Off)。此外蒸發(fā)、特別是電子束蒸發(fā)的特征在于，相對(duì)于濺射提高的沉積率。以百分?jǐn)?shù)說(shuō)明的孔隙度在該申請(qǐng)的目的上定義為總孔隙度，因此以百分?jǐn)?shù)在數(shù)量上說(shuō)明微孔體積在總體積上的分量，其中不僅考慮敞開(kāi)的而且考慮封閉的微孔。結(jié)合的孔隙度的鑒定可以例如經(jīng)由層密度的確定來(lái)實(shí)現(xiàn)(例如借助于具有條紋的入射的X射線(xiàn)反射實(shí)驗(yàn)(GIXE)),或可由層的涂層質(zhì)量(在制造時(shí)經(jīng)由石英晶體振蕩測(cè)定是可得到的)和幾何的層密度(在光學(xué)上是可確定的)相對(duì)于致密的初始材料或一包括與該層相同的化學(xué)成分的致密的玻璃的密度算出。(敞開(kāi)的)微孔尺寸也可以借助于擴(kuò)散實(shí)驗(yàn)來(lái)確定，其中使層暴露在不同尺寸的示蹤分子下并且該材料在層中的擴(kuò)散通過(guò)一定的尺寸來(lái)確定。此外層橫截面的透射照片或掃描電子照片或光學(xué)顯微鏡照片用來(lái)確定微孔尺寸和微孔分布(敞開(kāi)的和封閉的)是可能的?？紫抖纫部梢越?jīng)由IR光鐠學(xué)來(lái)實(shí)施。一般在接近的和中間的IR區(qū)域(4000cm"至400cnT1)內(nèi)實(shí)施IR光語(yǔ)學(xué)并且可得出關(guān)于ODS的組成和結(jié)構(gòu)。例如可以通過(guò)IR吸收頻帶的強(qiáng)度的比較來(lái)確定層組分的相對(duì)的分量。IR光譜學(xué)在ODS上的另一應(yīng)用領(lǐng)域是探測(cè)污染物，如水或硅醇團(tuán)，利用它們?cè)?350cnT1(-OH)和3650cm"(氫化合的硅醇團(tuán))時(shí)的特征的吸收頻帶。通過(guò)這些污染物的存在可以推斷出ODS的孑L隙度(Maissel，Glang，"HandbookofThinFilmTechnology",McGraw-Hill,1970)。據(jù)推測(cè)，孔隙度還這樣來(lái)實(shí)現(xiàn)，即特別在高的沉積率時(shí)導(dǎo)致玻璃層在基材表面上的柱狀生長(zhǎng)。在各個(gè)柱之間的間隙導(dǎo)致玻璃層的一多孔的結(jié)構(gòu)。所謂玻璃層在本申請(qǐng)的目的上也應(yīng)被理解為部分結(jié)晶的層，亦即這樣的層，其中沉積的玻璃不完全是非品質(zhì)的結(jié)構(gòu)。在優(yōu)選的方式中在施設(shè)多孔的玻璃層時(shí)的沉積率處在0.1|Lim/min與lO^im/min之間，優(yōu)選在0.5|um/min與8)im/min之間，并特別優(yōu)選在l)im/min與4fim/min之間。已證明，在沉積率超過(guò)0.5|im/min時(shí)沉積的結(jié)構(gòu)變成越來(lái)越有孔隙的。借助于本發(fā)明的方法因此有可能生產(chǎn)具有在1%與60%之間、特別在5%與50%之間的孔隙度的玻璃層。具有這樣的孔隙度的層適用于一整系列的應(yīng)用目的。反之，具有超過(guò)60%的孔隙度的層具有缺點(diǎn)，即機(jī)械穩(wěn)定性是很受限制的。在優(yōu)選的方式中，基材溫度不超過(guò)120。C，甚至有可能使基材溫度不超過(guò)IOO'C或80°C。這樣有機(jī)材料、特別是OLED也可以?xún)羝ね坎?。這在借助于電子束蒸發(fā)方法沉積多孔的玻璃層時(shí)特別有可能。按照本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)具有l(wèi)nm至1000|um的厚度的層厚。因此可以從單層直到在毫米范圍內(nèi)的層生產(chǎn)幾乎任何厚度的多孔的層。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中，準(zhǔn)備一材料源，由其生長(zhǎng)一層，該層至少產(chǎn)生二元的系統(tǒng)。已證明，顯著地改進(jìn)這樣的至少二元的玻璃層的光學(xué)的和機(jī)械的特性。據(jù)推測(cè)，這樣的二元的系統(tǒng)較不易于結(jié)晶化，從而基本上避免部分結(jié)晶的結(jié)構(gòu)，其不僅對(duì)于玻璃的光學(xué)的而且對(duì)于其機(jī)械的特性是不利的。特別是金屬氧化物很好地適用于一這樣的二元的系統(tǒng)的構(gòu)成。按照本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成，準(zhǔn)備至少兩個(gè)不同的材料源。這樣有可能生產(chǎn)混合結(jié)構(gòu)。特別是設(shè)定，通過(guò)兩材料源的準(zhǔn)備(它們相應(yīng)的沉積率可以改變)生產(chǎn)具有逐漸改變的材料成分的層。在本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施形式中，在一個(gè)過(guò)程步驟中沉積多孔的玻璃層。不同于傳統(tǒng)的腐蝕法，按照本發(fā)明有可能，在真空室中在一個(gè)方法步驟中生產(chǎn)多孔的層。因此本發(fā)明的方法比傳統(tǒng)的腐蝕法是顯著更便宜的和更簡(jiǎn)單的。在本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施形式中，在一超過(guò)l(T3毫巴、優(yōu)選超過(guò)l(T2毫巴的壓力下實(shí)現(xiàn)所述至少一個(gè)多孔的玻璃層的沉積。已證明，對(duì)于PVD法較高的壓力導(dǎo)致，沉積優(yōu)選的多孔的層。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中，給所述至少一個(gè)多孔的玻璃層至少部分地?fù)诫s，以便有針對(duì)性改變光學(xué)的或其他的特性。通過(guò)外來(lái)原子的摻雜可以例如通過(guò)摻雜材料、特別是由3/5價(jià)元素如鋁、砷、鎵、磷或銻的共蒸發(fā)達(dá)到。這樣的摻雜特別在電子技術(shù)中是重要的，對(duì)此特別采用借助于本發(fā)明的方法制成的多孔的玻璃層。多孔的玻璃層在優(yōu)選的方式中具有在lnm與100ixm之間、優(yōu)選在100nm與l(Him之間的平均的微孔橫截面。有可能為了不同的應(yīng)用提供寬范圍的不同的微孔橫截面。對(duì)此微孔橫截面通常在微孔性的范圍內(nèi)變化。特別是例如對(duì)于離子選擇性的薄膜也可以生產(chǎn)具有l(wèi)nm至10nm的微孔橫截面的玻璃層。按照本發(fā)明，玻璃層的多孔性，因此孔隙度和平均的微孔橫截面可以經(jīng)由沉積率、過(guò)程壓力和基材溫度來(lái)控制。已證明，較高的沉積率和較高的過(guò)程壓力通常導(dǎo)致一較高的孔隙度。較低的溫度通常也導(dǎo)致較高的孔隙度。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中，特別為了控制孔隙度，在沉積時(shí)添加水蒸氣。已表明，通過(guò)水蒸氣的添加顯著地提高孔隙度。據(jù)推測(cè)，通過(guò)化學(xué)的相互作用和形成的OH團(tuán)在沉積時(shí)形成結(jié)塊或聚集體，它們提高孔隙度。為了提高孔隙度，按選擇可以添加有機(jī)的材料、特別是曱烷、乙烷或乙炔。人們推測(cè)，通過(guò)有機(jī)的剩余團(tuán)的加入形成空隙，它們產(chǎn)生的結(jié)果是提高的孔隙度。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中，在沉積過(guò)程中機(jī)械地噴撒納米粒子，亦即尺寸為約lnm至10nm的粒子。這樣的納米粒子凈皮加入沉積的多孔的玻璃層中并且導(dǎo)致具有納米級(jí)構(gòu)造的層。多孔的玻璃層在本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施形式中形成薄膜，亦即形成用于分隔液體或氣體的多孔的壁。特別是通過(guò)孔隙度和平均的微孔橫截面的有針對(duì)性的匹配可制造半滲透的薄膜，借此材料隔離是可能的。如果制造薄膜，特別是層從載體基材上的分離可以包括例如按機(jī)械的熱的方法或化學(xué)的方法。也可以溶解或清除載體基材，例如通過(guò)腐蝕去掉，特別是借助于離子束、化學(xué)方式或通過(guò)載體的溶解(例如可溶于水的載體基材處于水中)。作為基材考慮特別是聚合物，尤其是聚氧化乙烯。由于低于80t:的過(guò)程溫度是可能的，借助于本發(fā)明也可對(duì)這樣的材料進(jìn)行涂布。按選擇，特別為了構(gòu)成電極，也可采用包括金屬的基材。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中，采用手性的載體材料。這樣按簡(jiǎn)單的方式生產(chǎn)手性的薄膜，其可用于隔離對(duì)映體。按選擇或以組合也可以蒸發(fā)或噴撒手性的化合物，以便也賦予多孔的玻璃層手性的特性。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中，同時(shí)沉積一起催化作用的材料。多孔的玻璃層由此構(gòu)成一起催化作用的材料，這樣的多孔的玻璃層的很大的表面對(duì)其有利。按照本發(fā)明設(shè)定，也沉積結(jié)晶的區(qū)段。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中，沉積二氧化鈦。包括二氧化鈦的層可以例如用于光化學(xué)中。特別在含水的環(huán)境中在用光輻射時(shí)可以釋放氧和氫。包括氧化鈦的層具有很大的表面并且產(chǎn)生有效的新生的氧，其另外具有氧化的和抗菌的作用，該進(jìn)一步構(gòu)成可以特別用于水的凈化和處理。一般通過(guò)其他的材料的共蒸發(fā)或噴撒可以制造具有各種極不同的成分的層。對(duì)此可以添加顏料、納米材料或有機(jī)金屬的復(fù)合體，借此可以生產(chǎn)極不同的應(yīng)用范圍的層。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中，用聚合物溶液浸漬多孔的玻璃層。因此由一聚合物溶液至少部分填滿(mǎn)空隙。同時(shí)聚合物溶液本身由于其化學(xué)的或光學(xué)的特性可以是一具有化學(xué)的或光學(xué)的特性的功能層或材料載體的一部分。按照本發(fā)明也設(shè)定，采用單體溶液，亦即溶液包括至少一個(gè)單體，其中單體只在層中被聚合。設(shè)定，用半導(dǎo)的材料充填多孔的玻璃層。在用光輻射時(shí)在半導(dǎo)的材料中分離出電子，它們?cè)谙嘟缟媳环蛛x地傳向電極。這樣制成的基材可以特別用于光電學(xué)或光化學(xué)中。按照本發(fā)明還設(shè)定，至少部分地用導(dǎo)電的材料充填多孔的玻璃層。然后可將這樣的層系統(tǒng)特別用于電工技術(shù)和電子技術(shù)中，例如用于蓄電池。按照本發(fā)明沉積具有變化的孔隙度的梯度層。對(duì)此不僅可以產(chǎn)生孔隙度向外逐漸增大的梯度層而且可以產(chǎn)生孔隙度向外逐漸減小的梯度層。但也設(shè)定，沉積一具有交替的孔隙度的層。按照本發(fā)明可以在一個(gè)過(guò)程步驟中沉積這樣的具有交替的孔隙度的層。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中設(shè)定，層設(shè)有電致發(fā)光的材料。這樣的電致發(fā)光的材料可以用于發(fā)光的構(gòu)件的制造。按照本發(fā)明還設(shè)定，將這樣的具有電致發(fā)光的材料的層用于光電子學(xué)中。除這樣的層的簡(jiǎn)單的制造性外，玻璃的熱負(fù)荷能力是較大的優(yōu)點(diǎn)。在本發(fā)明的進(jìn)一步構(gòu)成中，在多孔的玻璃層上施設(shè)一密封層。這樣的密封層可以例如是一具有一高密度的玻璃層，其同樣可借助于PVD法施設(shè)或沉積。這可以以特別簡(jiǎn)單的方式在一個(gè)過(guò)程步驟中實(shí)現(xiàn)。這樣，設(shè)定這樣改變過(guò)程參數(shù)，即最后沉積一密封層。這可以特別通過(guò)降低沉積率和/或降低設(shè)備中的壓力來(lái)實(shí)現(xiàn)。這樣的密封層在優(yōu)選的方式中包括二元的系統(tǒng)并且可以附加通過(guò)離子束壓縮或等離子作用進(jìn)行沉積，其產(chǎn)生的結(jié)果是繼續(xù)增加的密度。按照本發(fā)明還設(shè)定，沉積多孔的玻璃層，其用溶液、特別單體溶液或聚合物溶液浸漬并且必要時(shí)在干燥或聚合以后用緊密的玻璃層密封。本發(fā)明還涉及另一種用以制造多孔的玻璃層的方法。按照該方法，準(zhǔn)備至少一種第一材料和第二材料。然后由兩材料制造一復(fù)合材料。例如第一材料可以包括一玻璃，該玻璃與一作為第二材料的填料用來(lái)形成復(fù)合材料。按照本發(fā)明還設(shè)定，只在制造復(fù)合材料時(shí)才形成玻璃、特別是第一材料首先可以以結(jié)晶的形式存在并且沉積在基材上，同時(shí)其在那里成玻璃狀凝固。最后至少部分地清除第二材料，從而留下多孔的玻璃層。第二材料因此可以看作為填料并且通過(guò)適當(dāng)?shù)姆椒ㄇ宄?，從而留下空隙。作為結(jié)果形成多孔的玻璃層。在本發(fā)明的目的上所謂一玻璃層也被理解為除玻璃外還包括非玻璃狀材料的層。不僅完全地清除第二材料而且部分地清除第二材料是可設(shè)想的。特別設(shè)定，只部分地清除第二材料，這樣雖然形成空隙，但留下第二材料的殘留物作為單個(gè)玻璃粒子的結(jié)合劑。本發(fā)明的該實(shí)施形式不僅允許在基材上構(gòu)成多孔的玻璃層，其中例如沉積第一和第二材料，而且允許制造一多孔的層作為單獨(dú)的層，而不需要釆用基材。優(yōu)選作為第一材料采用玻璃。但也可以釆用結(jié)晶的材料，其只在沉積在基材上時(shí)才形成玻璃狀的結(jié)構(gòu)。為了達(dá)到復(fù)合材料的能夠產(chǎn)生多孔結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)，按照本發(fā)明設(shè)定，準(zhǔn)備第一和至少第二材料作為材料混合物，因此例如作為溶液或彌散體。在復(fù)合材料的制造過(guò)程中至少部分地通過(guò)相分離而分離各材料。該混合物具有一結(jié)構(gòu)，其由于第一材料的細(xì)微的分布不可能構(gòu)成多孔的玻璃層。在復(fù)合材料的制造過(guò)程中，因此例如在沉積一層時(shí)這樣分離各材料，即形成一具有填料的足夠大的夾雜物的結(jié)構(gòu)。然后清除填料并留下多孔的玻璃層。在本發(fā)明的目的上因此復(fù)合材料還可以稱(chēng)為混合物，第二材料在第一材料中的夾雜物平均占有只不多的體積，從而具有可測(cè)量的孔隙度的層的制造變成可能的。按選擇或以組合按照本發(fā)明設(shè)定，各材料只在復(fù)合材料的制造以后才至少部分地分離。這特別通過(guò)電磁輻射的作用特別通過(guò)光的作用、或通過(guò)帶電粒子的作用特別通過(guò)離子的作用來(lái)實(shí)現(xiàn)。該處理方法的優(yōu)點(diǎn)是，經(jīng)由電磁輻射作用的持續(xù)時(shí)間可以影響分離的程度并從而影響微孔大小。按選擇或以組合也可以通過(guò)加熱實(shí)現(xiàn)分離。在本發(fā)明的另一實(shí)施形式中，準(zhǔn)備至少一種材料作為粒狀物。經(jīng)由顆粒大小和顆粒大小分布可以調(diào)節(jié)孔隙度和多孔的玻璃層的多孔性分布。按照本發(fā)明設(shè)定，不僅準(zhǔn)備填料或一玻璃作為粒狀物，而且也準(zhǔn)備填料和玻璃都作為粒狀物。經(jīng)由一粒狀物可以生產(chǎn)具有較大孔隙的多孔的玻璃層。在本發(fā)明的一優(yōu)選的實(shí)施形式中，復(fù)合材料的制造包括粒狀物的擠壓。該處理方法在準(zhǔn)備一玻璃粒狀物并同時(shí)要將填料用作為各個(gè)玻璃顆粒的粘結(jié)劑時(shí)是特別適合的。通過(guò)擠壓在各個(gè)玻璃顆粒的接觸點(diǎn)上形成一牢固的結(jié)合并且在清除填料時(shí)優(yōu)選在這些接觸點(diǎn)上保留填料的殘留物。在本發(fā)明的特別優(yōu)選的實(shí)施形式中，在制造復(fù)合材料時(shí)燒結(jié)至少一種玻璃粒狀物。特別設(shè)定，包括玻璃粒狀物和鹽的混合物遭受燒結(jié)過(guò)程。對(duì)此優(yōu)選這樣控制燒結(jié)過(guò)程，即基本上使玻璃顆粒在其接觸點(diǎn)相互連結(jié)。鹽于是可以容易被分離出來(lái)并留下多孔的玻璃層。作為鹽特別提供食鹽結(jié)晶體，其可以容易用水作為溶劑而溶解。鹽結(jié)晶體的大小匹配于要求的微孔大小或要求的微孔大小分布?；蛘邽榱朔纸獾诙牧?、亦即填料，將第二材料在一腐蝕浴中至少部分地腐蝕掉。通過(guò)腐蝕法也可采用包括兩種不同玻璃的混合物，如果采用一腐蝕劑并且其基本上只對(duì)一個(gè)成分起作用的話(huà)。本發(fā)明還涉及一種復(fù)合材料，其包括一沉積的具有超過(guò)1%的孔隙度的玻璃層或一借助于一本發(fā)明的方法制成的層。一這樣的復(fù)合材料的特征在于高的耐用性并且特別借助于本發(fā)明的方法比傳統(tǒng)的具有一多孔的層的復(fù)合材料顯著較簡(jiǎn)單地制造。本發(fā)明還包括復(fù)合材料，其包括至少一個(gè)沉積的多孔的玻璃層。在一實(shí)施形式中沉積的多孔的玻璃層具有超過(guò)1%的孔隙度。優(yōu)選借助于PVD法、特別是借助于蒸發(fā)來(lái)沉積多孔的玻璃層。利用一種用于施設(shè)多孔的玻玻層的方法或一種用于施設(shè)玻璃層的方法或一種用于制造多孔的玻璃層的方法可制造、特別是制造本發(fā)明的復(fù)合基材。按照本發(fā)明復(fù)合材料可以不僅包括一單獨(dú)的多孔的玻璃層而且包括一基材，其設(shè)有一按照本發(fā)明的多孔的玻璃層。所謂復(fù)合材料被理解為包括至少兩個(gè)功能部件的任何材料。一本發(fā)明的復(fù)合材料可以用于一整系列的應(yīng)用。借助于本發(fā)明可以提供薄膜。對(duì)此在本發(fā)明的第一實(shí)施形式中將多孔的層沉積在載體基材上，然后將載體基材減薄并至少部分地清除。不僅化學(xué)的方法而且機(jī)械的方法適用于減薄。這樣采用一種基材，其可以溶解或腐蝕掉。在本發(fā)明的第二實(shí)施形式中可以放棄基材，從而省去其清除。例如按照本發(fā)明設(shè)定，將復(fù)合材料用于電化學(xué)中。對(duì)此該材料的特征在于即使在較高的溫度下也具有高的耐腐蝕力和機(jī)械的耐用性。一多孔的玻璃層具有很好的潤(rùn)濕特性，特別在可溶于水的化合物中。在聚合物的載體材料上或金屬基材上沉積，由本發(fā)明的復(fù)合材料構(gòu)成的薄膜可以用于燃料電池中。一這樣的具有一玻璃層的薄膜不同于傳統(tǒng)的聚合物薄膜具有優(yōu)點(diǎn)，其顯著較少地遭受老化過(guò)程。經(jīng)由孔隙度的有針對(duì)性的調(diào)節(jié)可以生產(chǎn)離子選擇性的薄膜。例如設(shè)定，一離子選擇性的薄膜用于蓄電池，特別用于鋰離子電池。對(duì)此傳輸介質(zhì)包括一聚合物、特別是一聚氧化乙烯。通過(guò)微小的可能的層厚可以制造極薄的蓄電池。但對(duì)于一整系列的其他的應(yīng)用也需要離子選擇性的電極。本發(fā)明的方法對(duì)此具有優(yōu)點(diǎn)，可以幾乎任意調(diào)節(jié)孔隙度。對(duì)于催化劑也設(shè)置本發(fā)明的復(fù)合材料。這樣可以例如通過(guò)催化的材料的共蒸發(fā)生產(chǎn)催化活性的薄膜。對(duì)此也可使用多層系統(tǒng)，在其各層中提供不同的反應(yīng)材料。通過(guò)各微孔產(chǎn)生的催化反應(yīng)的地點(diǎn)的分離導(dǎo)致，可以在相當(dāng)大程度上阻止不符合要求的副反應(yīng)。本發(fā)明的蒸鍍玻璃層還可以用于材料分離。例如設(shè)定，將這樣的層用作為分子篩或分子過(guò)濾器。有可能在很窄的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)微孔大小。這樣可選擇性清除單個(gè)分子、離子等。其優(yōu)點(diǎn)是，即使起強(qiáng)腐蝕或化學(xué)侵蝕作用的材料也可利用一本發(fā)明的復(fù)合材料易于分離。通過(guò)手性的材料加入基材或多孔的玻璃層中可以生產(chǎn)手性的薄膜用以分離對(duì)映體。按選擇或附加，可以將至少一種手性的材料加入多孔的層中，例如通過(guò)手性的材料的噴撒。為了氣體的分離，特別在滲透和逆滲透的區(qū)域可以采用本發(fā)明的復(fù)合材料。通過(guò)高的機(jī)械穩(wěn)定性可以比在傳統(tǒng)的純聚合物材料時(shí)更高的壓力下進(jìn)行這樣的過(guò)程。在醫(yī)學(xué)的領(lǐng)域內(nèi)也可以采用本發(fā)明的復(fù)合材料。其具有高的生物兼容性，不受身體細(xì)胞的侵蝕并且因此可以不僅用于醫(yī)學(xué)的應(yīng)用而且可以用于體外。特別是設(shè)定一這樣的材料應(yīng)用于透析。還設(shè)定，在制造植入物時(shí)采用本發(fā)明的復(fù)合材料。對(duì)此由多孔的玻璃構(gòu)成的層可以例如用作為載體材料，在其中可以生長(zhǎng)生物的組織。此外設(shè)定，將本發(fā)明的復(fù)合材料用于光電子學(xué)中。可以生產(chǎn)薄的層，它們是波長(zhǎng)選擇性的，亦即只影響確定的波長(zhǎng)，例如通過(guò)散射或干涉效應(yīng)。經(jīng)由過(guò)程參數(shù)和通過(guò)摻雜和不同材料的共蒸發(fā)可以生產(chǎn)具有各種極不同的光學(xué)特性的層，并且按簡(jiǎn)單的方式例如可制造濾光器、反射開(kāi)關(guān)和空腔。這些層也可用于光學(xué)的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)。多孔的蒸鍍玻璃特別允許一用于制造光子的結(jié)晶體的簡(jiǎn)單方法或一本發(fā)明的復(fù)合基材用于光子的應(yīng)用。光子的應(yīng)用包括例如光學(xué)開(kāi)關(guān)或?yàn)V光器。光學(xué)開(kāi)關(guān)構(gòu)成一光學(xué)網(wǎng)絡(luò)中的部件，其在不同的光波導(dǎo)體之間例如轉(zhuǎn)換光信號(hào)，而不必事先將該信號(hào)轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘?hào)。光子的結(jié)晶體的特征特別在于空間上周期變化的折射率。借助于本發(fā)明的方法可以可再現(xiàn)地獲得一這樣的光子的結(jié)晶體的周期的特性對(duì)此特別通過(guò)微孔的大小控制光子的結(jié)晶體的特性。此外可以用選擇的材料填滿(mǎn)微孔。在這方面可能的材料可以是鐵電的、鐵磁的和/或聚合的材料。對(duì)此可以通過(guò)微孔的大小和/或用于填滿(mǎn)微孔的材料控制光子的結(jié)晶體的特性。然后經(jīng)由外部的電場(chǎng)、磁場(chǎng)和/或光場(chǎng)可以控制結(jié)構(gòu)的特性。通過(guò)蒸鍍技術(shù)可以?xún)?yōu)選構(gòu)造化地沉積包括作為偶對(duì)的上述材料的玻璃，以便達(dá)到要求的光學(xué)效應(yīng)。其他的實(shí)例對(duì)于上述的偶對(duì)包括依賴(lài)于波長(zhǎng)的納米粒子或顏料。對(duì)此優(yōu)點(diǎn)是通過(guò)偶對(duì)的同時(shí)的共蒸發(fā)的可能性和微孔大小實(shí)現(xiàn)控制簡(jiǎn)單的行程操縱。本發(fā)明的多孔的玻璃層按照本發(fā)明也作為干涉層和隱身涂層設(shè)置。一多孔的玻璃層具有一比致密的玻璃層較小的折射率。優(yōu)選在垂直的入射光時(shí)層的厚度大致為待隱去的波長(zhǎng)的1/4。在傾斜入射時(shí)形成較厚的層。借助于相應(yīng)的遮蔽技術(shù)也可以由不同厚的材料制造透鏡、DOE或菲涅耳透鏡。通過(guò)顏料、納米材料或半導(dǎo)體的嵌入本發(fā)明的復(fù)合材料的應(yīng)用例如作為基體也設(shè)在光電學(xué)、電致發(fā)光、光致發(fā)光或光化學(xué)中。按照本發(fā)明為產(chǎn)生光化學(xué)活性的或電化學(xué)活性的層所需的材料在一步驟中共蒸發(fā)并且在多孔的玻璃層中分布地沉積。這樣構(gòu)成的層具有一很大的表面。經(jīng)由光化學(xué)的還原過(guò)程或氧化過(guò)程可以通過(guò)多孔的玻璃層有針對(duì)性地濾出例如變成自由的氣體。在電技術(shù)中本發(fā)明的復(fù)合材料的應(yīng)用還特別設(shè)有金屬基材。對(duì)此對(duì)多孔的玻璃層特別有利的是，玻璃具有高的擊穿強(qiáng)度。因此本發(fā)明還涉及一種離子選擇性的電極、一種蓄電池、一種催化劑材料、一種過(guò)濾器、一種用于生物組織的載體材料、一種用于人體或動(dòng)物體的植入物、一種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器、一種光電子構(gòu)件、一種電技術(shù)構(gòu)件和一種電容器，它們分別包括本發(fā)明的復(fù)合材料。此外本發(fā)明涉及一種抗水汽層或抗凍層。發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)，借助于一本發(fā)明的方法可以形成親水的層，借此至少對(duì)于一有限的時(shí)間間隔可以阻止在一表面上水的冷凝或冰形成。同時(shí)在載體基材已加熱到環(huán)境溫度或其已適應(yīng)于表面和環(huán)境的溫度以后，水由多孔的層吸收并且被散發(fā)。一這樣的抗水汽層或抗凍層由于其耐溫度性特別適用于一整系列的應(yīng)用，例如汽車(chē)玻璃板、助視器或冷卻器。層的抗水汽作用或抗凍作用可以通過(guò)納米粒子、特別通過(guò)噴撒的硅納米粒子加以改善。此外可以通過(guò)有機(jī)聚合物、特別是聚氨酯或聚乙烯醇改善親水的特性。在本發(fā)明的特別的實(shí)施形式中對(duì)此用有機(jī)聚合物浸漬多孔的玻璃層。然后放出聚合物，從而微孔至少部分地重新是敞開(kāi)的，但是由聚合物潤(rùn)濕的。聚合物然后被時(shí)效硬化。對(duì)此在應(yīng)用干燥方法時(shí)釆用聚合物溶液。或者通過(guò)聚合作用來(lái)時(shí)效硬化聚合物，該聚合作用例如可以通過(guò)用uv光輻射來(lái)產(chǎn)生。這樣形成多孔的玻璃層，其具有聚合物覆層。DE3222675、EP310911、DE3733636、EP389896、DE3909341、DE3909341、DE4005366、DE4111879、EP508343和WO05042798中描述多孔的玻璃層的其他的應(yīng)用，它們的全部公開(kāi)內(nèi)容在此引入。當(dāng)然，各相應(yīng)的構(gòu)件也可以構(gòu)成復(fù)合材料的基材并因此可以是這樣的復(fù)合材料的一部分。以下要借助圖1至圖12更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。圖1示意示出本發(fā)明的復(fù)合材料的一個(gè)實(shí)施例。圖2示意示出本發(fā)明的復(fù)合材料的另一實(shí)施例。圖3示意示出用以實(shí)施本發(fā)明的方法的PVD設(shè)備。圖4示意示出本發(fā)明的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器。圖5示意示出本發(fā)明的電極。圖6示意示出本發(fā)明的植入物。圖7示意示出本發(fā)明的方法的流程圖。圖8和9示意示出多孔的玻璃層借助于相分離的制造。圖10至12示意示出利用另一可選擇的方法制造多孔的玻璃層的步驟。圖13a至13c示意示出示例性構(gòu)造的多孔的玻璃層的制造。具體實(shí)施例方式圖1示意示出一本發(fā)明的復(fù)合材料l的實(shí)施例。復(fù)合材料l在該實(shí)施例中包括基材2，在這里構(gòu)成為塑料基材。在基材2的頂面上借助PVD法沉積多孔的玻璃層3。多孔的玻璃層3在該實(shí)施例中具有在100nm與600nm之間的厚度。復(fù)合材料1適用于大量的應(yīng)用。圖2示意示出一本發(fā)明的復(fù)合材料1的另一實(shí)施例。復(fù)合材料l包括由聚合物材料構(gòu)成的基材2。在基材上借助于一電子束蒸發(fā)法沉積100nm至500nm厚的多孔的玻璃層3，其具有在10%與30%之間的孔隙度，然后用一密封層4密封多孔的玻璃層3。在該實(shí)施例中用與多孔的玻璃層3相同的材料源(未示出)涂覆該密封層。為了構(gòu)成緊密的密封層，對(duì)此降低設(shè)備(未示出)的沉積率并且將設(shè)備中的壓力減小均10倍。此外借助于離子束壓實(shí)法(Ionenstrahl-Verdichtungsverfahren)進(jìn)一步壓實(shí)密封層4?？梢赃@樣在一個(gè)過(guò)程步驟中沉積密封層4，但沒(méi)有可測(cè)量的孔隙度。代替離子束也可以在等離子作用和/或等離子支持下沉積各層。這樣可以沉積一密封的層，其只具有一極小的或沒(méi)有可測(cè)量的孔隙度。圖3示意示出PVD設(shè)備IO用以實(shí)施本發(fā)明的方法并且適用于一本發(fā)明的復(fù)合材料的制造。在PVD設(shè)備IO中借助于一電子束方法給基材2涂層，其可以設(shè)置于基材夾具17中。為此在設(shè)備IO中設(shè)置電子源11，經(jīng)由轉(zhuǎn)向磁鐵12將由電子源11發(fā)生的電子束指向盤(pán)形的極靶13。極靶13在該實(shí)施形式中為了達(dá)到盡可能均勻的沉積率可繞旋轉(zhuǎn)軸線(xiàn)14旋轉(zhuǎn)。作為極靶13或材料源在這里設(shè)置由低熔點(diǎn)的硅酸硼玻璃構(gòu)成的盤(pán)，其在該實(shí)施例中還包括金屬氧化物并且由此在沉積的狀態(tài)下在基材2上形成二元的系統(tǒng)。通過(guò)電子束蒸發(fā)極靶13并且沉積在基材2上。為了偏轉(zhuǎn)次級(jí)電離子，在基材2與極靶13之間還設(shè)置兩電極15，在其上可施加電壓并可產(chǎn)生電場(chǎng)。用箭頭16標(biāo)記電場(chǎng)的方向。經(jīng)由一泵18將設(shè)備抽成真空。經(jīng)由調(diào)節(jié)閥19可調(diào)節(jié)設(shè)備壓力。借助于泵18和調(diào)節(jié)閥19已可控制在基材2上沉積的層的孔隙度。為了進(jìn)一步的影響，在PVD設(shè)備IO中還設(shè)置水蒸氣23的供給。水蒸氣的供給也可經(jīng)由調(diào)節(jié)閥22來(lái)控制。按選擇或附加也可以供給有機(jī)氣體。在沉積時(shí)供給的水蒸氣導(dǎo)致產(chǎn)生顯著較高的孔隙度。此外設(shè)備10包括固體粒子21的供給，其同樣可經(jīng)由調(diào)節(jié)閥20調(diào)節(jié)。固體粒子可以在一射流中例如在一氬氣氛中經(jīng)由閥供給。對(duì)此可以例如涉及納米粒子，其可以在基材2上形成一納米構(gòu)造的層?；蛘呖梢怨┙o光活性的物質(zhì)，借其在基材上沉積一光學(xué)的功能層。已證明特別作為蒸鍍玻璃適用于一本發(fā)明的用以施設(shè)多孔的玻璃層的方法是這些玻璃，其具有下列以重量百分?jǐn)?shù)計(jì)的成分范圍成分玻璃范圍1玻璃范圍2Si0275-8565-75B20310-1520-30Na20l畫(huà)50.1-1Li20O.l畫(huà)lO.l畫(huà)lK200.1-10.5-5A12031-50.5-5優(yōu)選的由這些組構(gòu)成的蒸鍍玻璃是具有下列以重量百分?jǐn)?shù)計(jì)的成分的玻璃成分玻璃1玻璃2Si0284.1%71%B20311.0%26%Na202.0%0.5%Li200.3%0.5%K200.3o/o1.0o/oA12032.6%1.0%應(yīng)該指出，所述的成分并不涉及沉積的層，更確切地說(shuō)在蒸鍍時(shí)成分是變化的。優(yōu)選采用的玻璃特別具有下表中舉出的特性<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>公司Schott的蒸鍍玻璃型式8329已證明特別適用于多孔的玻璃層的蒸鍍，其具有下列以重量百分?jǐn)?shù)計(jì)的成分Si0284.1%B20311.0%<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>原始材料的電阻大致為101GQ/cm(100。C時(shí))。該玻璃在純形式中還具有一約1.470的折射率。介電常數(shù)s為約4.8(25X:，1MHz)，tg5為約45xl(T4(25匸，1MHz)。通過(guò)蒸鍍過(guò)程和該系統(tǒng)的各成分的不同的揮發(fā)性在載體材料與蒸鍍的層之間產(chǎn)生稍有不同的化學(xué)計(jì)量學(xué)。在蒸鍍的層中的偏差列入括號(hào)中。圖4示意示出一本發(fā)明的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器30。對(duì)此涉及一種基材，其施設(shè)有一具有光學(xué)特性的多孔的玻璃層。在這里示出的是一板式存儲(chǔ)器，未示出其更詳細(xì)地構(gòu)造。圖5示意示出一本發(fā)明的電極40。該電極包括一金屬基材41，該金屬基材在電極板上施設(shè)有一多孔的玻璃層。一這樣的電極40可以例如用于一大功率電容器(未示出)。圖6示意示出一本發(fā)明的植入物50。植入物在這里是一骨植入物，其施設(shè)有一多孔的玻璃層。多孔的玻璃層50提高表面的機(jī)械穩(wěn)定性并同時(shí)用作為身體自身的材料的載體基材。一這樣的植入物很好地在身體內(nèi)生長(zhǎng)并且多孔的玻璃層具有高的生物抗力。圖7示意示出一本發(fā)明的方法的流程圖60。按照該方法準(zhǔn)備一基材(步驟61)。接著準(zhǔn)備一材料源(步驟62)?；臍庀嗾翦円欢嗫椎牟Ａ?步驟63)并同時(shí)噴灑納米粒子(步驟64)。這樣形成一具有一納米構(gòu)造的表面的基材，然后借助于一包括液態(tài)相的涂層方法，例如旋涂、浸涂方法或一印刷方法例如墨水噴射印刷或絲網(wǎng)印刷浸漬基材(步驟65)。可以借助于一旋涂方法將例如光活性材料加入基材中。用于旋涂的溶液可以包括一聚合物和一溶劑并且由此通過(guò)溶劑的蒸發(fā)達(dá)到一與多孔的玻璃層的牢固連結(jié)。圖8和9示意示出多孔的玻璃層借助于相分離的制造。如圖8中所示，準(zhǔn)備復(fù)合材料l，其包括基材2和雙成分層5。雙成分層5包括由兩不同的材料構(gòu)成的混合物。如圖9中所示，使復(fù)合材料1遭受UV輻射。通過(guò)輻射兩材料已部分地分離。在清除一成分以后留下多孔的玻璃層3。借助圖10至12示意示出用于制造多孔的玻璃層的方法的另一實(shí)施形式。圖10示出一雙成分層5，其由一玻璃粒狀物和一鹽粒狀物擠壓而成。鹽顆粒構(gòu)成為黑色的粒子。圖11示出雙成分層5，按此其經(jīng)受一燒結(jié)過(guò)程。各個(gè)玻璃粒子和鹽粒子在其界面上相互融合。緊接著在水中將鹽分離出來(lái)，從而留下一多孔的玻璃層，如圖12中示意示出的。圖13a至13c示出一構(gòu)造的多孔的玻璃層3的制造。在基材2的待構(gòu)造的側(cè)面上用一對(duì)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)已知的方法涂覆一掩模6，例如為一光刻膠的形式并且光刻地構(gòu)造。該構(gòu)造相當(dāng)于待生產(chǎn)的結(jié)構(gòu)的負(fù)象。在基材2的構(gòu)造的側(cè)面上沉積一多孔的玻璃層3。在掩模6的凹槽內(nèi)玻璃層3直接沉積在基材2上。多孔的玻璃層3可以例如借助于電子束蒸發(fā)或等離子束支持的電子束蒸發(fā)來(lái)涂覆。隨后借助于剝離來(lái)消除沉積的玻璃層3的位于掩模6上的區(qū)域。為此例如在丙酮中分離光刻膠。沉積的玻璃層3在掩模的凹槽的區(qū)域內(nèi)在基材上形成要求的正結(jié)構(gòu)。當(dāng)然，本發(fā)明并不限于在這里所描述的實(shí)例，而各特征的對(duì)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)有意義的任何組合都是本發(fā)明的主題。附圖標(biāo)記清單1復(fù)合材料2基材3多孔的玻璃層4密封層5雙成分層6掩模10PVD設(shè)備11電子源12轉(zhuǎn)向磁鐵13極耙14旋轉(zhuǎn)軸線(xiàn)15電極16箭頭17基材夾具18泵19調(diào)節(jié)閥20調(diào)節(jié)閥21固體粒子供給22調(diào)節(jié)閥23水蒸氣供給30光學(xué)的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器40電極41金屬基材42電極板50植入物60流程圖61準(zhǔn)備基材62準(zhǔn)備材料源63蒸鍍基材64噴撒納米粒子65旋涂材料權(quán)利要求1.用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，包括以下步驟準(zhǔn)備至少一個(gè)基材，準(zhǔn)備至少一個(gè)材料源，借助于PVD法在基材上沉積至少一個(gè)具有超過(guò)1％的孔隙度的玻璃層。2.按照權(quán)利要求1所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積率處在O.lnm/min與10jnm/min之間、優(yōu)選在0.5nm/min與8nm/min之間并特別優(yōu)選在lnm/min與4|iim/min之間。3.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)多孔的玻璃層的孔隙度處在1%與60%之間、優(yōu)選在5%與50%之間。4.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，基材溫度不超過(guò)120'C、優(yōu)選不超過(guò)100'C、特別優(yōu)選不超過(guò)80'C。5.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，至少部分地借助于電子束蒸發(fā)來(lái)沉積多孔的玻璃層。6.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積一具有在lnm與lOOOiim之間的厚度的層。7.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準(zhǔn)備至少一個(gè)材料源，該材料源產(chǎn)生一個(gè)包括至少一個(gè)二元系統(tǒng)的層。8.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準(zhǔn)備一個(gè)沉積金屬氧化物的材料源。9.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準(zhǔn)備至少兩個(gè)不同的材料源。10.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在一個(gè)過(guò)程步驟中沉積多孔的玻璃層。11.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在超過(guò)10-3毫巴、優(yōu)選超過(guò)10-2毫巴的壓力下沉積所述至少一個(gè)多孔的玻璃層。12.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，給所述至少一個(gè)多孔的玻璃層至少部分地?fù)诫s。13.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所迷的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積具有在lnm與100jLim、優(yōu)選在100nm與10pm之間的平均的微孔橫截面的多孔的玻璃層。(見(jiàn)正文說(shuō)明)14.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，經(jīng)由沉積率控制玻璃層的孔隙度。15.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，經(jīng)由基材溫度和/或過(guò)程溫度控制所述至少一個(gè)玻璃層的孔隙度。16.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，經(jīng)由過(guò)程壓力控制所述至少一個(gè)玻璃層的孔隙度。17.按照上迷權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在沉積多孔的玻璃層時(shí)添加水蒸氣。18.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積時(shí)添加至少一種揮發(fā)的有機(jī)的或無(wú)機(jī)的材料，特別是曱烷、乙烷和/或乙炔。19.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在所述至少一個(gè)多孔的玻璃層的沉積過(guò)程中添加、特別是機(jī)械地噴撒納米粒子。20.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)多孔的玻璃層形成薄膜。21.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，該方法包括層從基材上的分離和/或基材的清除、溶解或減薄。22.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準(zhǔn)備聚合物、特別是聚氧化乙烯作為基材。23.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準(zhǔn)備包括至少一種金屬的基材。24.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為基材，準(zhǔn)備手性的載體材料和/或在多孔的層中加入至少一種手性的材料。25.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，同時(shí)沉積至少一種起催化作用的材料。26.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，沉積結(jié)晶的區(qū)段。27.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積TiCh。28.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，用聚合物溶液浸漬多孔的玻璃層。29.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，借助于液態(tài)相的涂布方法或借助于印刷方法由至少一種材料浸漬多孔的玻璃層。30.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，至少部分地用半導(dǎo)的材料充填多孔的玻璃層。31.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，至少部分地用導(dǎo)電的材料充填多孔的玻璃層。32.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積一具有變化的孔隙度的梯度層。33.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積電致發(fā)光的材料，特別是有機(jī)的電致發(fā)光的材料，特別是包括硅、鎵、砷和/或磷的材料。34.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在所述至少一個(gè)多孔的玻璃層上施設(shè)密封層。35.按照權(quán)利要求34所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，借助于PVD法施設(shè)密封層。36.按照權(quán)利要求34或35所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在一個(gè)過(guò)程步驟中施設(shè)玻璃層作為密封層。37.38.按照權(quán)利要求34至37之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在離子束壓縮的情況下沉積一密封層。39.按照權(quán)利要求34至38之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在等離子作用的情況下和/或等離子支持地沉積密封層。40.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為材料源，準(zhǔn)備玻璃，該玻璃包括至少一種下列材料或具有多種或全部下列材料的以重量百分?jǐn)?shù)計(jì)的混合物Si0265-85B20310-30堿金屬氧化物0.1-7A12030.5-541.按照上述權(quán)利要求1至39之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為材料源，準(zhǔn)備玻璃，該玻璃包括至少一種下列材料或具有多種或全部下列材料的以重量百分?jǐn)?shù)計(jì)的混合物Si0275-85B20310-15Na201-5u2oO.l誦lA12031-542.按照權(quán)利要求1至39之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為材料源準(zhǔn)備玻璃，該玻璃包括至少一種下列材料或具有多種或全部下列材料的以重量百分?jǐn)?shù)計(jì)的混合物Si0265-75B20320-30Na20O.l國(guó)lLi20O.l畫(huà)lK200.5-5A12030.5-543.用于施設(shè)玻璃層的方法，包括下列各步驟準(zhǔn)備至少一個(gè)基材，準(zhǔn)備至少一個(gè)材料源，沉積至少一個(gè)多孔的玻璃層。44.按照權(quán)利要求43所述的用于施設(shè)玻璃層的方法，其特征在于，沉積具有超過(guò)1%的孔隙度的多孔的玻璃層。45.按照權(quán)利要求43或44所述的用于施設(shè)玻璃層的方法，其特征在于，借助于PVD法在基材上沉積多孔的玻璃層。46.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)玻璃層的方法，其特征在于，借助于蒸發(fā)在基材上沉積多孔的玻璃層。47.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于施設(shè)玻璃層的方法，包括上述權(quán)利要求2至42的一個(gè)特征或多個(gè)特征。48.用于制造多孔的玻璃層的方法，包括下列各步驟準(zhǔn)備一種第一材料，準(zhǔn)備至少一種第二材料，由所述第一材料和至少一種第二材料制造一復(fù)合材料，其中復(fù)合材料包括一個(gè)玻璃，至少部分地清除第二材料，從而留下多孔的玻璃層。49.用于按照權(quán)利要求48所述制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，第一材料是一個(gè)玻璃。50.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準(zhǔn)備所述第一和至少一種第二材料作為材料混合物，并且在復(fù)合材料的制造過(guò)程中至少部分地通過(guò)相分離而分離各材料。51.按照權(quán)利要求48至49之一項(xiàng)所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準(zhǔn)備所述第一和至少一種第二材料作為材料混合物，并且在復(fù)合材料制造以后至少部分地分離各材料。52.按照權(quán)利要求51所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，通過(guò)電磁輻射的作用、特別通過(guò)光的作用和/或通過(guò)帶電粒子的作用、特別通過(guò)離子的作用和/或通過(guò)熱的作用分離各材料。53.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準(zhǔn)備至少一種材料作為粒狀物。54.按照權(quán)利要求53所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，復(fù)合材料的制造包括粒狀物的擠壓。55.按照權(quán)利要求53或54所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，復(fù)合材料的制造包括玻璃粒狀物的燒結(jié)的步驟。56.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，第二材料包括可溶解的材料、特別是鹽，或由可溶解的材料構(gòu)成。57.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，第二材料包括結(jié)晶體或分子集合體，特別是鹽結(jié)晶體，特別是NaCl結(jié)晶體。58.按照權(quán)利要求57所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，結(jié)晶體或分子集合體的大小匹配于要求的微孔大小或要求的微孔大小分布。59.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，通過(guò)在溶劑中的溶解至少部分地清除第二材料。60.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為溶劑采用水或有機(jī)的溶劑。61.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，通過(guò)在腐蝕浴中至少部分地腐蝕掉第二材料。62.復(fù)合材料，特別是可利用一種按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述用于施設(shè)多孔的玻璃層或玻璃層的方法或一種按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述用于制造多孔的玻璃層的方法來(lái)制造，包括至少一個(gè)借助于PVD法沉積的多孔的玻璃層，優(yōu)選具有超過(guò)1%的孔隙度，或至少一個(gè)借助于一種按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述用于制造多孔的玻璃層的方法制成的多孔的玻璃層。63.按照權(quán)利要求62所述的方法，其特征在于，復(fù)合材料包括基材。64.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層構(gòu)成為功能層。65.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層的孔隙度處在1%與60%之間、優(yōu)選在5%與50%之間。66.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，層的孔隙度沿層厚變化小于50%、優(yōu)選小于30%。67.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層基本上是均質(zhì)的。68.按照權(quán)利要求62至67之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層的孔隙度逐漸地和/或交替地變化。69.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層具有在lnm與1000|im、優(yōu)選在30nm與lOOpm之間的厚度。70.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一個(gè)二元的系統(tǒng)。71.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一種金屬氧化物。72.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，給多孔的玻璃層至少部分地?fù)诫s。73.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層具有在lnm與100|nm之間、優(yōu)選在100nm與10jam之間的平均的橫截面的微孔。74.按照上迷權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，復(fù)合材料包括基材，該基材包括聚合物、特別是聚氧化乙烯。75.按照上迷權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，復(fù)合材料包括基材，該基材包括至少一種金屬。76.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，復(fù)合材料包括基材，該基材包括手性的載體材料。77.按照上迷權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一種手性的材料。78.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，載體材料包括至少一種起催化作用的材料。79.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層具有光學(xué)的作用。80.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層構(gòu)成波長(zhǎng)選擇性的。81.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一種光活性的材料、特別是顏料。82.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括TK)2。83.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一種納米材料。84.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，多孔的玻璃層具有納米構(gòu)造。85.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，復(fù)合材料具有密封層、特別是玻璃密封層。86.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，密封層具有低于1.0%、優(yōu)選低于0.5%、特別優(yōu)選低于0.1%的孔隙度。87.按照權(quán)利要求85或66所述的復(fù)合材料，其特征在于，密封層包括至少二元的材料系統(tǒng)。88.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，密封層包括金屬氧化物。89.復(fù)合材料，特別是可利用一種按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述用于施設(shè)多孔的玻璃層或玻璃層的方法或一種按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述用于制造多孔的玻璃層的方法來(lái)制造，包括至少一個(gè)沉積的多孔的玻璃層。90.按照權(quán)利要求89所述的復(fù)合材料，其特征在于，沉積的多孔的玻璃層具有超過(guò)1%的孔隙度。91.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，借助于PVD法沉積多孔的玻璃層。92.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，其特征在于，借助于蒸發(fā)來(lái)沉積多孔的玻璃層。93.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料，包括按照權(quán)利要求62至88的至少一項(xiàng)所述的一個(gè)特征或多個(gè)特征。94.離子選擇性的電極，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。95.蓄電池，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。96.催化劑材料，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。97.過(guò)濾器，特別是干涉濾光器，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。98.透鏡、菲涅耳透鏡或衍射光元件，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。99.用于生物組織的載體材料，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。100.用于人體或動(dòng)物體的植入物，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。101.光學(xué)的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。102.光電子構(gòu)件，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。103.光子結(jié)晶體，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料或可利用按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法來(lái)制造。104.光子構(gòu)件，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。105.電技術(shù)的或電化學(xué)的構(gòu)件，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。106.電容器，包括按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的復(fù)合材料。107.隱身涂層，利用按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法可制造、特別是制造。108.薄膜，利用按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法可制造、特別是制造。109.抗水汽層和/或抗凍層，利用按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法可制造、特別是制造。110.按照上述權(quán)利要求所述的抗水汽層和/或抗凍層，包括納米粒子、特別是含硅的納米粒子。111.按照權(quán)利要求109或110所述的抗水汽層和/或抗凍層，還包括至少一種有機(jī)聚合物、特別是聚氨酯和/或聚乙烯醇。全文摘要本發(fā)明涉及一種用以施設(shè)多孔的玻璃層的方法。本發(fā)明建議，借助于PVD法涂覆多孔的玻璃層?？梢越?jīng)由過(guò)程參數(shù)如壓力和沉積率以及通過(guò)有針對(duì)性地添加雜質(zhì)改變孔隙度和平均的微孔大小。文檔編號(hào)C03C17/00GK101305111SQ200680041401公開(kāi)日2008年11月12日申請(qǐng)日期2006年9月14日優(yōu)先權(quán)日2005年9月16日發(fā)明者C·奧特曼,J·波梅雷納申請(qǐng)人:肖特股份公司