專利名稱：一種真空鍍膜設備及用于該設備的大氣回轉臺的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種真空鍍膜設備及用于該設備的大氣回轉臺。
技術背景由于在對玻璃等一些產品進行鍍膜時需要保證工作環(huán)境的凈化，因此，現有的鍍膜生產線例如ITO連續(xù)真空鍍膜生產線的布置方式通常是采 用從凈化操作間裝片，經過真空鍍膜設備完成鍍膜，再返回凈化操作間卸 片。因凈化操作間的高成本，通常將裝片和卸片都設計在一個凈化操作間， 這要求工件在鍍膜后折回裝片的操作間，相應的真空鍍膜設備也都是折回式的?，F有的折回式真空鍍膜設備主要包括兩種方式(1)真空雙面鍍膜+出口平移+大氣回架；(2)真空單面鍍膜+真空旋轉回架。對于第一種方式，其真空鍍膜設備包括真空雙面鍍膜室、平移回收臺和大氣回倉；待鍍工件如玻璃基片從凈化操作間裝入真空雙面鍍膜室，工 件架裝載待鍍工件在真空鍍膜室中移動，真空雙面鍍膜室對待鍍工件進行 鍍膜，當鍍膜結束，待鍍工件架移動到平移回收臺并與平移回收臺上的工 件架相接，已鍍膜的工件從真空鍍膜室轉移到平移回收臺，平移回收臺中 裝載了已鍍膜的工件的工件架從與真空鍍膜室相接的位置平移到與大氣回 倉相接的位置，大氣回倉不需要設計為真空環(huán)境，但需要是高凈化環(huán)境， 已鍍膜的工件從平移回收臺轉移到大氣回倉并從大氣回倉折回到同一凈化 操作間卸片。對于第二種方式，其真空鍍膜設備包括第一真空鍍膜室、第二真空鍍 膜室和真空回轉臺，待鍍工件從凈化操作間進入第一真空鍍膜室開始鍍膜 并在其中移動，完成鍍膜工序的一部分，到達真空回轉臺后，真空回轉臺 將工件從第一真空鍍膜室轉移到與第一真空鍍膜室大致平行但運行方向相 反的第二真空鍍膜室，繼續(xù)鍍膜，工件在第二真空鍍膜室中鍍膜后返回到 凈化操作間。以上兩種方式各有其缺陷，第一種方式由于來用平移回收臺，其不但 占地面積大，而且生產節(jié)拍較低，通常都大于100 s/pitch。第二種方式采 用真空回轉臺，真空回轉臺需要真空環(huán)境，且和第一真空鍍膜室、第二真 空鍍膜室都需要真空密封，所以其對傳動精度及真空密封要求很高，增加了制造和維護難度。 發(fā)明內容為了解決上述技術問題，本發(fā)明提出了一種真空鍍膜設備及用于該設 備的大氣回轉臺，不僅提高了生產節(jié)拍，而且降低了傳動精度和密封要求， 更利于維護。為了實現上述目的，本發(fā)明采用了如下技術方案一種真空鍍膜設備，包括用于對工件進行真空鍍膜的真空鍍膜室、位 于真空鍍膜室內用于將用于承載工件的工件架運輸且穿過真空鍍膜室的第 一移動機構、大氣回倉和位于大氣回倉內用于將用于承載工件的工件架運 輸且穿過大氣回倉的第二移動機構，所述第一移動機構和第二移動機構的 運行方向相反，且大氣回倉的入口與真空鍍膜室的出口靠近，大氣回倉的 出口與真空鍍膜室的入口靠近，還包括大氣回轉臺，所述大氣回轉臺靠近 真空鍍膜室的出口和大氣回倉的入口，所述大氣回轉臺包括旋轉機構、用 于將工件架從真空鍍膜室運輸到大氣回轉臺上的第三移動機構和用于將工 件架從大氣回轉臺上運輸到大氣回倉內的第四移動機構，所述第三移動機 構和第四移動機構跟隨旋轉機構旋轉以交換位置。所述第三移動機構在靜止狀態(tài)下位于第一移動機構的運行方向上，所 述第四移動機構在靜止狀態(tài)下位于第二移動機構的運行反方向上，即所述 第三移動機構在靜止狀態(tài)下位于將第一移動機構沿其運行延伸的軌道上， 所述第四移動機構在靜止狀態(tài)下位于將第二移動機構沿其運行的反方向延 伸的軌道上。本發(fā)明的優(yōu)選實施中，所述旋轉機構包括旋轉轉臺，所述第三移動機 構和第四移動機構分別固定在旋轉轉臺的兩相對的側邊上，所述大氣回轉 臺還包括位于旋轉轉臺上方或上邊緣、與第三移動機構和第四移動機構分 別對應的兩個固定機構。所述旋轉機構還包括轉動馬達和轉盤軸承，所述轉盤軸承與轉動馬達 的輸出端耦合，所述旋轉轉臺與轉盤軸承緊固在一起。所述第三移動機構和第四移動機構分別包括驅動馬達、由驅動馬達驅 動旋轉的至少兩個摩擦驅動輪，所述摩擦驅動輪固定在旋轉轉臺的外側面; 所述固定機構為用于容納工件架上邊緣的倒"U"型軌道。優(yōu)選的，所述倒"U"型軌道為磁軌道，所述工件架上邊緣設有與磁軌道磁性相反的磁條。所述磁軌道的兩端為喇叭口，所述大氣回轉臺還包括位于旋轉轉臺上 的、用于固定磁軌道的磁軌道支架。進一步的，所述大氣回轉臺還包括與摩擦驅動輪位于相同外側面的位 置傳感器，所述每一側面的位置傳感器至少有兩個。所述旋轉機構的旋轉中心分別到所述真空鍍膜室的出口和大氣回倉的 入口的最短距離大于旋轉機構的邊緣相對于旋轉中心的最大徑向距離。所述真空鍍膜設備還包括與所述大氣回轉臺結構相同的工件裝卸臺， 所述工件裝卸臺靠近真空鍍膜室的入口和大氣回倉的出口。本發(fā)明還提出了一種用于真空鍍膜設備的大氣回轉臺，包括旋轉機構、 第三移動機構和第四移動機構，所述第三移動機構在靜止狀態(tài)下位于將第 一移動機構沿其運行方向延伸的軌道上，用于將工件架從真空鍍膜室運輸 到大氣回轉臺上，所述第四移動機構在靜止狀態(tài)下位于將第二移動機構沿 其運行的反方向延伸的軌道上，用于將工件架從大氣回轉臺上運輸到大氣 回倉內，所述第三移動機構和第四移動機構跟隨旋轉機構旋轉以交換位置。所述旋轉機構包括轉動馬達、轉盤軸承和旋轉轉臺，所述轉盤軸承與 轉動馬達的輸出端耦合，所述旋轉轉臺與轉盤軸承緊固在一起；所述第三 移動機構和第四移動機構分別固定在旋轉轉臺的兩相對的側邊上，所述大 氣回轉臺還包括位于旋轉轉臺上方、與第三移動機構和第四移動機構分別 對應的兩個固定機構。所述第三移動機構和第四移動機構分別包括驅動馬達、由驅動馬達驅 動旋轉的至少兩個摩擦驅動輪，所述摩擦驅動輪固定在旋轉轉臺的外側面； 所述固定機構為用于容納工件架上邊緣的倒"U"型磁軌道。所述大氣回轉臺還包括與摩擦驅動輪位于相同外側面的位置傳感器， 所述每一側面的位置傳感器至少有兩個。與現有技術相比，本發(fā)明的有益效果是-本發(fā)明采用大氣回轉臺回收已鍍膜的工件，使用回轉方式的回收臺占 地面積小，回收節(jié)拍快，可以在大氣環(huán)境工作，而不需要在真空環(huán)境，對 傳動精度與密封要求不高，有利于設備的維護。工件裝卸臺采用與大氣回轉臺相同的結構，使操作員不用變換位置就 可以完成工件的裝卸，簡化了操作，提高了工作效率。


圖1是本發(fā)明具體實施方式
的真空鍍膜設備的結構示意圖； 圖2是本發(fā)明具體實施方式
的大氣回轉臺的立體結構圖； 圖3是本發(fā)明具體實施方式
的大氣回轉臺的分解結構圖； 圖4一A是本發(fā)明具體實施方式
的大氣回轉臺的正視圖； 圖4一B是本發(fā)明具體實施方式
的大氣回轉臺的側視圖； 圖4一C是本發(fā)明具體實施方式
的大氣回轉臺的俯視圖； 圖5是本發(fā)明具體實施方式
的真空鍍膜設備的立體結構圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本發(fā)明的方案和效果做進一步詳細的說明。 實施例一請參看圖1和圖5，本發(fā)明的真空鍍膜設備包括工件裝卸臺1、真空鍍膜室2、大氣回轉臺3和大氣回倉4，工件裝卸臺1安置在凈化操作間內， 靠近真空鍍膜室2的入口和大氣回倉3的出口 ；大氣回倉4的入口與真空 鍍膜室2的出口靠近，出口與真空鍍膜室2的入口靠近，大氣回倉4和真 空鍍膜室2可平行并排設置，大氣回轉臺3靠近真空鍍膜室2的出口和大 氣回倉4的入口。在工件裝卸臺l處，待鍍工件如玻璃基片被安裝在工件 架上，工件架帶著工件從工件裝卸臺1移入真空鍍膜室2，工件架裝載待 鍍工件在真空鍍膜室2中移動，真空鍍膜室2對待鍍工件進行鍍膜，當鍍 膜結束，工件架移動到大氣回轉臺3，已鍍膜的工件從真空鍍膜室2轉移 到大氣回轉臺3，大氣回轉臺3將裝載了已鍍膜工件的工件架從與真空鍍 膜室2出口位置旋轉到大氣回倉4入口位置，然后裝載了已鍍膜工件的工 件架被從大氣回轉臺3轉移到大氣回倉4并從大氣回倉4回到凈化操作間 的工件裝卸臺1卸片。大氣回倉4中不斷充入凈化氣體使其相對于外界環(huán) 境為高壓狀態(tài)，從而可將灰塵排出，保證大氣回倉4內的凈化狀態(tài)。裝載工件的工件架在真空鍍膜室2和大氣回倉4中的移動是借助于位 于真空鍍膜室2內的第一移動機構(附圖未示出)和位于大氣回倉4內的 第二移動機構(附圖未示出)，第一移動機構和第二移動機構的運行方向相 反，均采用現有技術的移動機構，例如可用馬達驅動傳送帶從而使工件架 隨著傳送帶移動?；蛘哂民R達驅動沿真空鍍膜室2和大氣回倉4的軸向分 布的轉動輪，工件架直立在轉動輪上，轉動輪在馬達驅動下轉動，靠轉動 摩擦力帶動工件架移動。4-A、 4-B和4-C，本發(fā)明的大氣回轉臺3包括轉臺底 座31、固定機構32，固定機構支架33、位置傳感器34、傳感器安裝座35、 旋轉機構、第三移動機構和第四移動機構。旋轉機構包括旋轉轉臺361、 轉盤軸承362、軸承固定板363和轉動馬達364;軸承固定板363安置在轉 臺底座31上，轉盤軸承362固定安裝在軸承固定板363上并與轉動馬達 364的輸出端耦合，旋轉轉臺361安置在轉盤軸承362上并與轉盤軸承362 緊固在一起；通過轉動馬達364輸出旋轉驅動力，轉盤軸承362轉動并帶 動旋轉轉臺361在轉臺底座31上進行旋轉。第三移動機構和第四移動機構 分別位于旋轉轉臺361的相對的兩側，第三移動機構在靜止狀態(tài)下位于真 空鍍膜室2中的第一移動機構沿其運行方向延伸的軌道上，第四移動機構 在靜止狀態(tài)下位于大氣回倉4中的第二移動機構沿其運行反方向延伸的軌 道上。第三移動機構用于從真空鍍膜室2中接收工件架并將工件架運輸到 第三移動機構上，第四移動機構用于位于其上的工件架運輸并送入到大氣 回倉4中。當第三移動機構和第四移動機構隨旋轉轉臺361旋轉180度后， 第三移動機構和第四移動機構交換位置，原第三移動機構變?yōu)樾碌牡谒囊?動機構，將其上的工件架運輸并送入到大氣回倉4中，原第四移動機構變 為新的第三移動機構，從真空鍍膜室2中接收工件架。因大氣回轉臺3需要旋轉，所以大氣回轉臺3不能緊靠真空鍍膜室2 和/或大氣回倉4，大氣回轉臺3的旋轉中心分別到真空鍍膜室2的出口和 大氣回倉4的入口的最短距離應大于旋轉機構的邊緣相對于旋轉中心的最 大徑向距離，以保證大氣回轉臺3旋轉時不會接觸或碰撞真空鍍膜室2和 大氣回倉4。第三移動機構和第四移動機構分別包括驅動馬達371、驅動皮帶372 和摩擦驅動輪373，摩擦驅動輪373固定在旋轉轉臺361的外側面，呈"一" 字形，摩擦驅動輪373的數目不限，可以是2、 3、 4個等等，通過驅動馬 達371的驅動，驅動皮帶372可帶動摩擦驅動輪373旋轉。固定機構支架33安裝在旋轉轉臺361上，其上安裝有兩個固定機構 32，分別與第三移動機構和第四移動機構相對應；固定機構32用于容納工 件架上邊緣，以使工件架直立在摩擦驅動輪373上而不會向兩邊歪倒。本 實施例中，固定機構32為倒"U"型磁軌道，開口321為喇叭型，以防止 工件架稍偏離軌道時，也能將工件架導入此軌道中，并將工件架矯正回軌道上。下面說明本發(fā)明的工作原理。工件完成鍍膜后，裝載已鍍膜工件的工件架從真空鍍膜室2中被第一 移動機構移出，然后轉移到大氣回轉臺3的第三移動機構，此時，工件架 下邊緣由第三移動機構中的第一個摩擦驅動輪373支撐，上邊緣則進入到 作為固定機構32的磁軌道中，工件架上方安裝有與磁軌道磁性相反的磁 條，通過磁性相斥，使得工件架能直立在摩擦驅動輪373上而不與磁軌道 的任意一邊相接觸；這樣可以使工件架在移動機構上移動時上邊緣幾乎沒 有摩擦，有利于工件架的移動。當工件架完全進入大氣回轉臺3后，轉動馬達364驅動旋轉轉臺361 旋轉，第三移動機構和第四移動機構跟隨旋轉機構旋轉以交換位置使得已 鍍膜的工件從真空鍍膜室2出口轉移到大氣回倉4的入口 ，然后以同樣方 法將己鍍膜工件移入大氣回倉4并返回到凈化操作間中進行卸片；在第三 移動機構和第四移動機構交換位置后，第三移動機構將己鍍膜的工件移入 大氣回倉4的同時，第四移動機構可以繼續(xù)從真空鍍膜室2接收已鍍膜的 工件。當然，本實施例中的固定機構32的形狀并不限于倒"U"型，也可以 是倒"V"型或倒"L"型等，開口也可以是其他形狀，也不限定采用磁性 軌道，也可采用一般軌道。實施例二在實施例一的基礎上，進一步增加了位置傳感器34，位置傳感器34 與摩擦驅動輪373位于相同外側面，通過傳感器安裝座35安裝在旋轉轉臺 361上，其數目不限，可以是2、 3、 4個等等。位置傳感器34用于檢測工 件架的移動位置，并將檢測結果傳送給PLC (可編程邏輯控制器，附圖中 未示出)由其根據檢測結果控制馬達旋轉和停止。第三移動機構和第四移動機構的摩擦驅動輪以四個為宜，每邊可以設 置兩個位置傳感器34。如果每邊的四個摩擦驅動輪按照其運轉的方向依次 是第一摩擦驅動輪、第二摩擦驅動輪、第三摩擦驅動輪和第四摩擦驅動輪， 對于第三移動機構來說，則第一個位置傳感器設置在第一摩擦驅動輪的右 側，而第二個位置傳感器設置在第四摩擦驅動輪的左側，對于第四移動機 構，則第一個位置傳感器設置在第一摩擦驅動輪的左側，而第二個位置傳 感器設置在第四摩擦驅動輪的右側。當第三移動機構側的第一個位置傳感器感應到工件架移動過來時，則將工件架的位置信號傳遞給PLC， PLC控 制驅動馬達371輸出相應的動力驅動摩擦驅動輪373轉動，工件架依靠其 與摩擦驅動輪之間的摩擦力向前移動。當第二個位置傳感器感應到工件架 的位置時，將信號傳給PLC, PLC控制驅動馬達371停止，摩擦驅動輪373 停止轉動，工件架也停止移動。同時此時PLC判斷第四移動機構的第二個 位置傳感器是否感應到工件架移走，即判斷前次旋轉時從真空鍍膜室2出 口轉移到大氣回倉4入口的裝載了已鍍工件的工件架是否已經進入到大氣 回倉4，如果是則控制轉動馬達364轉動，旋轉轉臺361轉動，第三移動 機構和第四移動機構交換位置。 實施例三:本實施例是基礎實施例一或二基礎上的進一步改進，即工件裝卸臺1 采用與大氣回轉臺3相同的結構，當裝載有已鍍膜工件的工件架移動到大 氣回倉4的出口時，進行移動進入到工件裝卸臺1上，工件裝卸臺l進行 180度旋轉，已鍍膜工件的工件架轉移到真空鍍膜室2的入口處，操作員 將已鍍膜工件卸下，然后裝上待鍍膜的工件，待鍍膜的工件被送入真空鍍 膜室2。本實施例使操作員不甩變換位置就可以完成工件的裝卸，簡化了 操作，提高了工作效率。綜上所述，本發(fā)明在真空鍍膜設備中采用了大氣回轉臺，不僅占地面 積小，回收節(jié)拍快，回收節(jié)拍可達到60秒。同時大氣回轉方式因大氣回 轉臺和真空鍍膜室、大氣回倉之間不需要真空密封，所以對傳動精度和密 封要求較真空回轉方式低，采用轉盤軸承來完成回轉，設備簡單，成本低， 有利于操作維護。并且裝工件和卸工件可在同一個凈化操作間，減少了凈 化操作間的成本，同時裝卸工件可在同一個工位，提高了工作效率。以上內容是結合具體的優(yōu)選實施方式對本發(fā)明所作的進一步詳細說 明，不能認定本發(fā)明的具體實施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術 領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明構思的前提下，還可以做出若 干簡單推演或替換，都應當視為屬于本發(fā)明的保護范圍。
權利要求
1.一種真空鍍膜設備，包括用于對工件進行真空鍍膜的真空鍍膜室、位于真空鍍膜室內用于將用于承載工件的工件架運輸且穿過真空鍍膜室的第一移動機構、大氣回倉和位于大氣回倉內用于將用于承載工件的工件架運輸且穿過大氣回倉的第二移動機構，所述第一移動機構和第二移動機構的運行方向相反，且大氣回倉的入口與真空鍍膜室的出口靠近，大氣回倉的出口與真空鍍膜室的入口靠近，其特征在于還包括大氣回轉臺，所述大氣回轉臺靠近真空鍍膜室的出口和大氣回倉的入口，所述大氣回轉臺包括旋轉機構、用于將工件架從真空鍍膜室運輸到大氣回轉臺上的第三移動機構和用于將工件架從大氣回轉臺上運輸到大氣回倉內的第四移動機構，所述第三移動機構和第四移動機構跟隨旋轉機構旋轉以交換位置。
2. 如權利要求1所述的真空鍍膜設備，其特征在于所述第三移動機構在 靜止狀態(tài)下位于將第一移動機構沿其運行延伸的軌道上，所述第四移動機 構在靜止狀態(tài)下位于將第二移動機構沿其運行的反方向延伸的軌道上。
3. 如權利要求2所述的真空鍍膜設備，其特征在于所述旋轉機構包括旋 轉轉臺，所述第三移動機構和第四移動機構分別固定在旋轉轉臺的兩相對 的側邊上，所述大氣回轉臺還包括位于旋轉轉臺上方或上邊緣、且與第三 移動機構和第四移動機構分別對應的兩個固定機構。
4. 如權利要求3所述的真空鍍膜設備，其特征在于所述旋轉機構還包括 轉動馬達和轉盤軸承，所述轉盤軸承與轉動馬達的輸出端耦合，所述旋轉 轉臺與轉盤軸承緊固在一起。
5. 如權利要求4所述的真空鍍膜設備，其特征在于所述第三移動機構和 第四移動機構分別包括驅動馬達、由驅動馬達驅動旋轉的至少兩個摩擦驅 動輪，所述摩擦驅動輪固定在旋轉轉臺的外側面；所述固定機構為用于容 納工件架上邊緣的倒"U"型軌道。
6. 如權利要求5所述的真空鍍膜設備，其特征在于所述倒"U"型軌道 為磁軌道，所述工件架上邊緣設有與磁軌道磁性相反的磁條。
7. 如權利要求6所述的真空鍍膜設備，其特征在于所述磁軌道的兩端為 喇叭口，所述大氣回轉臺還包括位于旋轉轉臺上的、用于固定磁軌道的磁 軌道支架。2
8. 如權利要求5至7中任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于所述大氣回轉臺還包括與摩擦驅動輪位于相同外側面的位置傳感器，所述每一側 面的位置傳感器至少有兩個。
9. 如權利要求1至7任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于所述旋轉機構的旋轉中心分別到所述真空鍍膜室的出口和大氣回倉的入口的最短距 離大于旋轉機構的邊緣相對于旋轉中心的最大徑向距離。
10. 如權利要求1至7任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于還包括與所述大氣回轉臺結構相同的工件裝卸臺，所述工件裝卸臺靠近真空鍍膜室 的入口和大氣回倉的出口。
11. 一種用于真空鍍膜設備的大氣回轉臺，其特征在于包括旋轉機構、第 三移動機構和第四移動機構，所述第三移動機構在靜止狀態(tài)下位于將第一 移動機構沿其運行方向延伸的軌道上，用于將工件架從真空鍍膜室運輸到 大氣回轉臺上，所述第四移動機構在靜止狀態(tài)下位于將第二移動機構沿其 運行的反方向延伸的軌道上，用于將工件架從大氣回轉臺上運輸到大氣回 倉內，所述第三移動機構和第四移動機構跟隨旋轉機構旋轉以交換位置。
12. 如權利要求11所述的大氣回轉臺，其特征在于所述旋轉機構包括轉 動馬達、轉盤軸承和旋轉轉臺，所述轉盤軸承與轉動馬達的輸出端耦合， 所述旋轉轉臺與轉盤軸承緊固在一起；所述第三移動機構和第四移動機構 分別固定在旋轉轉臺的兩相對的側邊上，所述大氣回轉臺還包括位于旋轉 轉臺上方、與第三移動機構和第四移動機構分別對應的兩個固定機構。
13. 如權利要求12所述的大氣回轉臺，其特征在于所述第三移動機構和 第四移動機構分別包括驅動馬達、由驅動馬達驅動旋轉的至少兩個摩擦驅 動輪，'所述摩擦驅動輪固定在旋轉轉臺的外側面；所述固定機構為用于容 納工件架上邊緣的倒"U"型磁軌道。
14. 如權利要求13所述的大氣回轉臺，其特征在于還包括與摩擦驅動輪 位于相同外側面的位置傳感器，所述每一側面的位置傳感器至少有兩個。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種真空鍍膜設備，包括用于對工件進行真空鍍膜的真空鍍膜室和大氣回倉，大氣回倉的入口與真空鍍膜室的出口靠近，大氣回倉的出口與真空鍍膜室的入口靠近，還包括大氣回轉臺，所述大氣回轉臺靠近真空鍍膜室的出口和大氣回倉的入口，所述大氣回轉臺包括旋轉機構、用于將工件架從真空鍍膜室運輸到大氣回轉臺上的第三移動機構和用于將工件架從大氣回轉臺上運輸到大氣回倉內的第四移動機構，所述第三移動機構和第四移動機構跟隨旋轉機構旋轉以交換位置。本發(fā)明采用大氣回轉臺回收已鍍膜的工件，占地面積小，回收節(jié)拍快，對傳動精度與密封要求不高，有利于設備的維護。
文檔編號C03C17/23GK101328576SQ20071007514
公開日2008年12月24日 申請日期2007年6月20日 優(yōu)先權日2007年6月20日
發(fā)明者張驚雷, 斌 趙 申請人:中國南玻集團股份有限公司