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      用于玻璃的回收處理系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號:2015327閱讀:398來源:國知局
      專利名稱:用于玻璃的回收處理系統(tǒng)的制作方法
      技術領域
      本發(fā)明是關于一種回收處理方法,特別是用于玻璃的回收處理系統(tǒng)。
      背景技術
      薄膜電晶體液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD )是在兩片很薄的導電玻璃( 一 片是彩色濾光片,另 一 片是有電晶體 的玻璃基板)中間灌入液晶,兩邊再貼上偏光板,然后加上驅動電路、背光模 組及框架。其制程可概分為三大部分,即"TFT陣列基板(Array )"、"面板組 裝(Cell)"、"模組組裝(Module)"等。
      然而,在制造過程中,難免因為某些因素導致"面板組裝(Cdl)"成為 廢液晶玻璃。為了回收廢液晶玻璃, 一般都經(jīng)過"前處理"、"混料"、"制坯"、 "干燥"、"燒結"等步驟。具體來說,在"前處理"中,若廢液晶玻璃片尺寸 過大時,需先以怪手進行破碎后,再送入破碎機破碎成玻璃粒。然后將含液晶 的玻璃粒送至蒸發(fā)爐,將液晶蒸出或成份破壞。"混料"則將已去除液晶的玻 璃粒,送至球磨機研磨成200mesh玻璃細粉。然后以適當比例摻配于原料土 中,進行擠壓混拌,即可初步得到均勻混練的制磚原料土。再來,在"制坯" 中,由調節(jié)制磚原料土的供料機,將原料土導入螺旋攪拌機,并用自動加水系 統(tǒng)控制原料土的含水率,在導入射出成型機之前由機器抽真空,加強其密和度。 接著,"干燥"則是將前一單元完成的粗坯送入生坯預備線上,以自然陰干方 式靜置至少36小時后導入磚坯烘干窯干燥。最后,在"燒結,,中,以漸進式 加溫和連續(xù)進料方式燒結,燒成窯內分為漸進料預備常溫段、加溫段及高溫燒 結段。相關專利,請參閱中國臺灣專利公告號第1226315號"液晶顯示面板玻 璃的回收方法"。
      然而,上述方法必須先破壞玻璃再重新燒結成玻璃,而導致必須損耗相當 大的能源才能完成回收,并不符合經(jīng)濟效益。再者,除了含液晶的玻璃可以輕 易地借著高溫去除液晶,其他具有各種薄膜層的光學玻璃則無法利用此方法完本發(fā)明的主要目的是提供一種用于玻璃的回收處理系統(tǒng),其利用化學溶 液的化學特性,去除光學玻璃上有瑕瘋的薄膜層,而無須破壞光學玻璃就可達 到回收的目的,不但減少污染與能耗,同時也可以回收各類具有薄膜層的光學 玻璃。
      基于上述目的,在本發(fā)明用于玻璃的回收處理系統(tǒng)中,主要包含儲存槽、 以及釋放化學溶液至儲存槽的化學溶液釋放器。當化學溶液釋放器的化學溶液 自然溢出時,化學溶液會流入儲存槽中,并從排放閥被排除,以便利用化學溶 液的化學特性,去除光學玻璃上有瑕疵的薄膜層。被去除薄膜層的光學玻璃可 直接再次被利用來形成沒有瑕疵的薄膜層,而無須完全銷毀光學玻璃。
      關于本發(fā)明的優(yōu)點與精神可以通過以下的發(fā)明詳述及附圖得到進一步的
      了解。


      圖1為本發(fā)明用于玻璃的回收處理系統(tǒng)的示意圖。 符號說明
      10儲存槽 10a排放閥 12化學溶液釋放器 14光學玻璃 16、 16a、 16b化學溶液 18載臺 20薄膜層
      具體實施例方式
      請參閱圖1,圖1為本發(fā)明用于玻璃的回收處理系統(tǒng)的示意圖。如圖1 所示,在本發(fā)明用于玻璃的回收處理系統(tǒng)中,主要包含儲存槽10、以及釋放 化學溶液16至儲存槽10的化學溶液釋放器12。儲存槽10具有儲存空間與排 放閥10a。儲存空間可儲存化學溶液16,而排放闊10a可使已儲存的化學溶液 16被排出?;瘜W溶液釋放器12具有儲存化學溶液16的長條狀凹槽,并被設
      4置在儲存槽IO的上方。
      簡單來說,在本發(fā)明用于玻璃的回收處理系統(tǒng)中,如圖1所示,當化學
      溶液釋放器12的化學溶液16自然溢出時,化學溶液16a會流入儲存槽10中 的光學玻璃14上,以利用化學溶液16的化學特性,去除光學玻璃14上有瑕 疵的薄膜層20,而無須破壞光學玻璃14就可達到回收的目的,不但減少污染 與能耗,同時也可以回收各類具有薄膜層20的光學玻璃14。
      由于光學玻璃14上的薄膜層20通常會由數(shù)個薄膜材料所構成,因此在 以往必須針對不同薄膜材料用不同方法去除,甚至在去除不夠徹底時還需研 磨。為了克服這樣的問題,在本發(fā)明化學溶液16可采用低濃度的氫氟酸溶液, 以達到 一次性去除不同薄膜材料。
      具體來說,當化學溶液釋放器12的化學溶液16自然溢出時,化學溶液 16a會流入儲存槽10中,并從排放閥10a排除化學溶液16b (包含有反應生成 物),以便利用化學溶液16的化學特性處理被浸入在儲存槽10中的光學玻璃 14,但又不會在儲存槽10中殘留生成物。若處理光學玻璃14的化學溶液16 為氟化氬溶液,則處理光學玻璃14所產生的生成物為氟化硅。
      通常為了只處理單一面上的光學玻璃14,只對光學玻璃14的其中一面提 供自然溢出的化學溶液16a,而流經(jīng)被傾斜擺設在儲存槽10中的光學玻璃14, 并同樣地從排放閥10a被排除,以便利用化學溶液16的化學特性處理被傾斜 擺設在儲存槽10中的光學玻璃14的其中一面。
      上述系統(tǒng)中主要利用載臺18的傾斜面(例如5。~10。),使所承載的光學 玻璃14呈現(xiàn)傾斜狀態(tài)。因此,若需要調整處理速率時,可通過調整傾斜角度, 來改變化學溶液停留在光學玻璃14之上的時間長短,從而控制處理速率。此 外,使用低濃度的氫氟酸溶液處理光學玻璃14時,會因化學反應所帶來的溫 度提升,在光學玻璃上14形成凹陷(dimple ),不過,利用上述自然溢出的化 學溶液16a與傾斜光學玻璃14的自然落下,可有效使溫度維持在特定溫度內, 避免在光學玻璃上14形成凹陷(dimple)。
      為了進一步提高化學溶液16流經(jīng)光學玻璃14時的均勻性,利用特殊機 構使得載臺18可左右移位,使得擺放在傾斜面上的光學玻璃14也隨之左右移 位,并使得流經(jīng)光學玻璃14上的化學溶液16更均勻地借著重力流下。此外,比起平面擺放光學玻璃14的做法(例如需要研磨等步驟),由于 本發(fā)明是將光學玻璃14擺放在傾斜的載臺18上,使得整體裝置大小相對較小, 占用較小的廠房空間。
      通過以上較佳具體實施例的詳述,希望能更加清楚描述本發(fā)明的特征與精 神,而并非以上述所揭露的較佳具體實施例來對本發(fā)明的范疇加以限制。相反 地,其
      權利要求
      1. 一種用于玻璃的回收處理系統(tǒng),包含儲存槽,其具有儲存空間與排放閥,該儲存空間可儲存該化學溶液,該排放閥可使已儲存的該化學溶液被排出;化學溶液釋放器,其具有儲存化學溶液的長條狀凹槽,并被設置在該儲存槽的上方;其中,當該化學溶液釋放器的該化學溶液自然溢出時,該化學溶液會流入該儲存槽中,并從該排放閥被排除,以便利用該化學溶液的化學特性,去除被傾斜擺設在該儲存槽中的該光學玻璃上的薄膜層。
      2. 如權利要求1所述的用于玻璃的回收處理系統(tǒng),其中,已去除該薄膜 層的該光學玻璃可再次被利用。
      3. 如權利要求1所述的用于玻璃的回收處理系統(tǒng),其中,該薄膜層為具 有瑕疵的彩色膜(CF )或TFT光學薄膜。
      4. 如權利要求1所述的用于玻璃的回收處理系統(tǒng),其中,基于傾斜狀態(tài) 的該光學玻璃,處理該光學玻璃所產生的生成物,將隨著剩余的化學溶液一起 順著該光學玻璃的傾斜方向流下,使得該生成物不會殘留在該光學玻璃上。
      5. 如權利要求4所述的用于玻璃的回收處理系統(tǒng),其中,處理該光學玻 璃的化學溶液為氟化氬溶液,而處理該光學玻璃所產生的該生成物則為氟化 硅。
      6. 如權利要求1所述的用于玻璃的回收處理系統(tǒng),其中,使該光學玻璃 被左右移位,使得流經(jīng)該光學玻璃上的化學溶液更均勻地流下。
      7. 如權利要求1所述的用于玻璃的回收處理系統(tǒng),其中,該光學玻璃的 傾斜角度會影響化學溶液停留在該光學玻璃上的時間長短,而影響對該光學玻 璃的處理速率。
      8. 如權利要求1所述的用于玻璃的回收處理系統(tǒng),其中,從該化學溶液 釋放器自然溢出的該化學溶液的流速等同于該化學溶液從該排放閥被排除的 流速。
      全文摘要
      在本發(fā)明用于玻璃的回收處理系統(tǒng)中,主要包含儲存槽、以及釋放化學溶液至儲存槽的化學溶液釋放器。當化學溶液釋放器的化學溶液自然溢出時,化學溶液會流入儲存槽中,并從排放閥被排除,以便利用化學溶液的化學特性,去除光學玻璃上有瑕疵的薄膜層。被去除薄膜層的光學玻璃可直接再次被利用來形成沒有瑕疵的薄膜層,而無須完全銷毀光學玻璃。
      文檔編號C03C15/00GK101445329SQ200710194620
      公開日2009年6月3日 申請日期2007年11月27日 優(yōu)先權日2007年11月27日
      發(fā)明者嚴立巍, 范國勝 申請人:光捷國際股份有限公司
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