專利名稱：熱處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用于加熱處理被加熱物的熱處理裝置。
背景技術：
目前，下述專利文獻1中公開的熱處理裝置用于如液晶顯示器(LCD: Liquid Crystal Display)及等離子顯示器(PDP: Plasma Display)、有機EL 顯示器等那樣的平板顯示器(FPD: Flat Panel Display)的制作。熱處理裝 置為在加熱室內(nèi)收納預先對玻璃板等基板(被加熱物)涂敷特定的溶液并 使之加熱干燥的被加熱物，并將其暴露于導入到加熱室內(nèi)的規(guī)定溫度的熱 風中進行熱處理(燒制)的裝置。
專利文獻l:日本專利第2971771號說明書
現(xiàn)有技術的熱處理裝置具有用于取放被加熱物的開口及間隙等，不會 成為所謂完全的密閉狀態(tài)，從而所述開口及間隙的附近較易形成低溫。因 此，伴隨熱處理，基板上涂敷的特定的溶液等汽化而產(chǎn)生的生成氣體在開 口及間隙附近被冷卻而凝固，形成所謂的升華物。升華物為微粒狀或焦油 狀，不僅具有污染熱處理裝置內(nèi)使被加熱物的質(zhì)量下降的問題，而且還具 有在被加熱物取放時向熱處理裝置的外部泄漏這類問題。
通常，熱處理裝置被設置在凈化度較高的凈化間等。因此，存在升華 物如現(xiàn)有技術的熱處理裝置那樣從熱處理裝置泄漏時，連凈化間的凈化度 也降低這類問題。
鑒于上述問題，上述專利文獻l中公開的熱處理裝置中，為了防止熱 處理裝置內(nèi)的空氣或生成氣體向外部泄漏，而制成從熱處理裝置的內(nèi)側(cè)向 外側(cè)排氣，使熱處理裝置內(nèi)的靜壓降低的構成。在這種結構的情況中，對 于升華物從熱處理裝置向外部排出的這類問題具有一定的效果。但是，在 現(xiàn)有技術的熱處理裝置中，熱處理裝置內(nèi)的靜壓因位置不同而存在差異， 因此在靜壓沒有充分降低的位置設置的開口因被加熱物的取放而打開時，存在可能包含生成氣體或升華物的空氣從該開口泄漏這類問題。
另外，假定存在如上述的靜壓沒有充分降低的位置，在較高地設定為 了抽吸排出熱處理裝置內(nèi)的空氣等而設置的排氣裝置的排氣能力時，雖然 能夠防止由于取放被加熱物打開開口而將生成氣體等泄漏，但會產(chǎn)生熱處 理室內(nèi)的靜壓過度地降低的部分。因此，在構成這種結構的情況下，在靜 壓過度地低的部分設置的開口打開時，存在外部空氣經(jīng)由該開口流入熱處 理室內(nèi)，熱處理裝置內(nèi)的溫度分布不均勻這類問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于，提供一種熱處理裝置，隨著熱處理產(chǎn)生的 生成氣體及升華物等不會隨著出入口的開閉產(chǎn)生泄漏，或熱處理室內(nèi)的溫 度分布的不均勻難以發(fā)生。
為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種熱處理裝置，其特征在于，具備
可以收納被加熱物的熱處理室；可以相對于該熱處理室取放被加熱物的多 個出入口 ；可以改變用于將氣體從所述熱處理室的內(nèi)側(cè)向外側(cè)抽吸排出的 排氣能力的排氣裝置，調(diào)節(jié)所述排氣裝置的排氣能力，以使所述任意一個 出入口為打開狀態(tài)時，與該打開狀態(tài)的出入口鄰接的位置的所述熱處理室 內(nèi)的靜壓比所述出入口為打開狀態(tài)前的壓力低(權利要求1)。
在本發(fā)明的熱處理裝置中，調(diào)節(jié)排氣裝置的排氣能力，以使在與設置的 多個出入口中的處于打開狀態(tài)的出入口鄰接的位置，與成為打開狀態(tài)的出 入口鄰接的位置的熱處理室內(nèi)的靜壓比將出入口設為打開狀態(tài)前的靜壓 低，因此，即使進行被加熱物的取放，也能夠防止生成氣體及升華物等泄 漏。
另外，上述本發(fā)明的熱處理裝置中，理想的是，調(diào)節(jié)所述排氣裝置的 排氣能力，以使任意一個出入口為打開狀態(tài)時，與該打開狀態(tài)的出入口鄰 接的位置的所述熱處理室內(nèi)的靜壓為該熱處理室的外側(cè)的大氣壓以下(權
利要求2)。
在作成這種結構的情況下，能夠更進一步可靠地防止由于出入口打 開，生成氣體及升華物等經(jīng)由出入口泄漏。
上述本發(fā)明的熱處理裝置中，理想的是，具有用于將氣體從熱處理室內(nèi)向外側(cè)排出的排氣口 ，根據(jù)處于打開狀態(tài)的出入口和所述排氣口的距離 調(diào)節(jié)排氣裝置的排氣能力。
根據(jù)這種結構，能夠?qū)⑴c設置的多個出入口中的為打開狀態(tài)的出入口 鄰接的位置的熱處理室內(nèi)的靜壓調(diào)節(jié)至適于更進一步準確地防止在被加 熱物取放時生成氣體等泄漏的壓力。
上述本發(fā)明的熱處理裝置中，理想的是，具有用于將氣體從熱處理室 內(nèi)向外側(cè)排出的排氣口，在距所述排氣口近的區(qū)域A 、及相對所述排氣
口比所述區(qū)域A遠離的區(qū)域B并列設置有多個出入口，設于該區(qū)域A、 B 的所述出入口以規(guī)定的順序進行開閉，以配置于所述區(qū)域B的出入口為打 開狀態(tài)的時機作為基準的規(guī)定期間中的所述排氣裝置的排氣能力比以配 置于所述區(qū)域A的出入口為打開狀態(tài)的時機作為基準的規(guī)定期間中的所 述排氣裝置的排氣能力高(權利要求4)。
在本發(fā)明的熱處理裝置中，由于距排氣口近的區(qū)域A及遠離排氣口的 區(qū)域B分別設置有出入口，因此使排氣裝置以相同的排氣能力動作時，處 于區(qū)域B附近的靜壓一方存在有變得比區(qū)域A附近的靜壓更高的趨勢。 但是，本發(fā)明的熱處理裝置進行動作，以使以配置于區(qū)域B的出入口為打 開狀態(tài)的時機為基準的規(guī)定期間中的排氣裝置的排氣能力變得比以配置 于區(qū)域A的出入口為打開狀態(tài)的時機為基準的規(guī)定期間中的排氣裝置的 排氣能力高。因此，即使在區(qū)域B設置的出入口為打開狀態(tài)時，也能夠使 出入口附近的靜壓下降至與設置于區(qū)域A的出入口為打開狀態(tài)時相同的 程度。因此，根據(jù)本發(fā)明的熱處理裝置，即使經(jīng)由在區(qū)域A、 B任意一個 區(qū)域設置的出入口進行被加熱物的取放，也能夠防止生成氣體及升華物等 泄漏。
另外，在本發(fā)明的熱處理裝置中，由于以配置于區(qū)域B的出入口為打 開狀態(tài)的時機為基準的規(guī)定期間中的排氣裝置的排氣能力變高，所以能夠 防止配置于區(qū)域A的出入口為打開狀態(tài)時，區(qū)域A附近的靜壓過度地形 成為低壓。因此，本發(fā)明的熱處理裝置中，能夠防止在出入口為打開狀態(tài) 時，外部空氣流入熱處理室內(nèi)，產(chǎn)生熱處理室內(nèi)的溫度分布的不均。
在此，通常經(jīng)加熱成為高溫的氣體處于向上方側(cè)流動的趨勢。因此， 上述本發(fā)明的熱處理裝置中，在作成區(qū)域B相對區(qū)域A位于上方的構成的情況下，假設在熱處理室內(nèi)成為高溫的氣體處于易從區(qū)域B側(cè)泄漏的趨
勢。但是，如上所述，本發(fā)明的熱處理裝置中，將以配置于區(qū)域B的出入
口為打開狀態(tài)的時機為基準的規(guī)定期間中的排氣裝置的排氣能力設定為
比以配置于所述區(qū)域A的出入口為打開狀態(tài)的時機為基準的規(guī)定期間中 的所述排氣裝置的排氣能力高。因此，本發(fā)明的熱處理裝置中，即使作成 區(qū)域B相對區(qū)域A位于上方，且將排氣口設置在熱處理裝置的下方側(cè)的 位置的結構，也能夠可靠地防止生成氣體等的泄漏。(權利要求項5)
上述本發(fā)明的熱處理裝置中，更理想的是，排氣裝置的排氣能力的調(diào) 節(jié)在多個出入口的任意一個為打開狀態(tài)前完成。
根據(jù)該結構，至各出入口為打開狀態(tài)之前，使與該出入口鄰接的位置 的靜壓降低，從而能夠可靠地防止經(jīng)由出入口生成氣體及升華物等泄漏。
上述本發(fā)明的熱處理裝置中，理想的是，在與構成熱處理室且設置有 出入口的壁面鄰接的位置設置有排氣口，通過排氣裝置，經(jīng)由所述排氣口 可以將所述熱處理室內(nèi)的氣體向熱處理室外部排出(權利要求項7)。
根據(jù)這種結構，能夠更進一步防止經(jīng)由出入口生成氣體等泄漏。
上述本發(fā)明的熱處理裝置中，理想的是，在出入口和熱處理室之間設 置有比熱處理室的內(nèi)側(cè)及外側(cè)的氣壓更低的低壓區(qū)域(權利要求8)。
根據(jù)這種結構，能夠更進一步可靠地防止為了被加熱物取放而打開出 入口時，氣體從熱處理室內(nèi)側(cè)向外側(cè)泄漏。因此，根據(jù)上述結構，能夠更 進一步可靠地防止包含生成氣體的氣體向熱處理室的外部泄漏。
另外，根據(jù)上述結構，能夠防止因出入口打開，外部空氣經(jīng)由該出入 口流入熱處理室內(nèi)。因此，根據(jù)上述結構，能夠進一步可靠地防止因低溫 的空氣等從熱處理室外側(cè)向內(nèi)側(cè)流入而使熱處理室內(nèi)的溫度分布紊亂。
在此，在上述熱處理裝置中，在設置的多個出入口的全部為關閉狀態(tài) 的情況下，即使將排氣裝置設定為停止狀態(tài)，或以需要最小限度的排氣能 力排氣，生成氣體及升華物等也不會從出入口泄漏。另外，若這樣調(diào)節(jié)排 氣裝置的工作狀態(tài)，則能夠?qū)⒁蚺艢庋b置的動作而消耗的能量抑制在需要 最小限。
根據(jù)這種見解，上述本發(fā)明的熱處理裝置中，理想的是，調(diào)節(jié)排氣裝 置的工作狀態(tài)，以使全部的出入口為關閉狀態(tài)時，排氣裝置成為排氣流量為規(guī)定的最小流量的狀態(tài)、發(fā)揮各出入口打開時調(diào)節(jié)的排氣能力當中的最 小排氣能力的狀態(tài)、或停止狀態(tài)的任意一種狀態(tài)(權利要求項9)。
上述本發(fā)明的熱處理裝置中，理想的是，排氣裝置由送風機和變換器 構成，通過變換器控制能夠調(diào)節(jié)排氣能力。
在本發(fā)明的熱處理裝置中，由于排氣裝置由送風機構成，從而能夠?qū)?熱處理室內(nèi)存在的空氣等向熱處理室的外側(cè)抽吸并進行排氣。另外，由于 排氣裝置由變換器構成，從而能夠適宜地采用可調(diào)節(jié)排氣能力的變換器， 進行變換器控制。
根據(jù)本發(fā)明，提供一種熱處理裝置，難以引起隨著出入口開閉，伴隨 熱處理產(chǎn)生的生成氣體及升華物等的泄漏。


圖1是表示本發(fā)明一實施方式的熱處理裝置的立體圖； 圖2是圖1的A—A剖面圖； 圖3是圖1的B—B剖面圖4是表示圖1所示的熱處理裝置的工作的時間圖； 圖5是表示熱處理室內(nèi)的位置和靜壓的關系的坐標圖； 圖6是表示圖l所示的熱處理裝置的變形例的出入口附近的結構的放 大剖面圖。 符號說明 1 熱處理裝置 11排氣裝置 12熱處理室 13a底面 13b正面(壁面) 21排氣口 XI區(qū)域(區(qū)域A) X2區(qū)域(區(qū)域B) Xn 區(qū)域(區(qū)域A、 B) a、 b期間
具體實施例方式
下面，參照附圖對本發(fā)明一實施方式的熱處理裝置1進行詳細說明。 另外，在下面的說明中，上下及前后的位置關系只要沒有特別地說明，就 以本實施方式的熱處理裝置的通常的使用狀態(tài)為基準進行說明。即，在下 面的說明中，上下是指高度方向的位置關系。另外，下面說明中，所謂"面
前"及"前"是指在熱處理裝置或架子(rack)上取放作為被加熱物的基 板W (板狀體)時使用的移載裝置側(cè)的位置，即熱處理裝置或架子的正面 側(cè)。另外，將"面前"及"前"的相反側(cè)(熱處理裝置及架子的背面?zhèn)? 的位置稱為"里"或"后"。另外，下面的說明中，"左右"的位置關系以 從正面?zhèn)扔^察熱處理裝置或架子的姿態(tài)為基準。
如圖1所示，熱處理裝置1的主要部由熱處理裝置主體10構成。另 外，如圖2所示，熱處理裝置1具備用于從熱處理裝置主體10進行排氣 的排氣裝置ll。如圖2及圖3所示，熱處理裝置主體IO其構成為具有 由有隔熱性的壁面包圍的空間，在其內(nèi)部設置有調(diào)溫部(溫度調(diào)節(jié)部)12 及熱處理室13。
調(diào)溫部12在內(nèi)部具備加熱器16和送風機17。調(diào)溫部12經(jīng)由過濾器 14與熱處理室13鄰接，并與熱處理室13連通。調(diào)溫部12通過使加熱器 16和送風機17運轉(zhuǎn)，將經(jīng)加熱的空氣經(jīng)由過濾器14送入熱處理室13， 可以將熱處理室13的室內(nèi)溫度加熱至規(guī)定溫度。
熱處理室13是能夠設置作為被加熱物的基板W的空間。熱處理室13 在正面13b (壁面)側(cè)、即圖2中的左側(cè)、圖3中的下側(cè)具有用于取放基 板W的出入口18。出入口 18處于與上述的調(diào)溫部12對置的位置，設置 在從調(diào)溫部12吹出的空氣的流向的下游側(cè)位置。
如圖1及圖2所示，相對于熱處理室13在上下方向等間隔地設置有 多個(本實施方式中為4個)出入口 18。更詳細地說明，如圖2中雙點劃 線所示，將熱處理室13的內(nèi)部空間假想為相對熱處理室13的底面13a大 致平行，且穿過熱處理室13的高度的約一半的位置的假想平面P，而且， 以該假想平面P為界，在上下假想為區(qū)域X1、 X2 (分別相當于區(qū)域A、 B)時，在位于底面13a側(cè)的區(qū)域Xl內(nèi)上下并存有二個出入口 18 (下面，也分別稱為出入口 18a、 18b)。另外，在相對區(qū)域X1位于上方的區(qū)域X2 內(nèi)也上下并存有二個出入口 18 (下面，也分別稱為出入口 18c、 18d)。
在上述的出入口 18a 18d上以可以獨立地動作的方式分別安裝有擋 板Sn (n-l 4的自然數(shù))。出入口 18a 18d為通過打開擋板Sn，使用由 現(xiàn)有公知的機械手等構成的移載裝置(未圖示)可以對熱處理室13取放 基板W的狀態(tài)。
在熱處理室13的大致中央部設置有用于設置基板W的架子30。架子 30構成為在上下方向以每隔規(guī)定的間隔并排的方式配置多個擱架40。在 架子30的底部安裝有升降裝置(未圖示)的升降軸36，通過升降軸36 的伸縮，架子30在熱處理室13內(nèi)上下移動，能夠調(diào)節(jié)各出入口 18和各 擱架40的位置關系。
在熱處理室13的底面13a設置有排氣口 21。排氣口 21設置在與熱處 理室13的正面13b側(cè)即出入口 18側(cè)鄰接的位置。排氣裝置11經(jīng)由配管 22與排氣口 21連接。排氣裝置11由現(xiàn)有公知的送風機及泵和轉(zhuǎn)換器(一 y^—夕)等構成，能夠?qū)⒃跓崽幚硎?3內(nèi)存在的空氣等向熱處理室13 的外側(cè)抽吸進行排氣。在配管22的中途設置有閥23。
本實施方式的熱處理裝置1 了采用所謂的作業(yè)流水線，作業(yè)流水線通 過使用機械手等的移載裝置(未圖示)對配置在熱處理室13內(nèi)設置的架 子30的擱架40上并完成燒制的基板W、和處于熱處理室13的外部的未 燒制狀態(tài)的基板W進行交替，連續(xù)地實施基板W的燒制。下面，參照附 圖對本實施方式的熱處理裝置1的動作進行詳細地說明。
熱處理裝置1在基板W的燒制(熱處理)之前，通過未圖示的控制 裝置使加熱器16及送風機17運轉(zhuǎn)，將熱風送入熱處理室13，并將熱處理 室13內(nèi)的溫度調(diào)節(jié)至規(guī)定的熱處理溫度。熱處理室13內(nèi)的氛圍溫度達到 規(guī)定的熱處理溫度(本實施方式中為230°C 250 °C)時，熱處理裝置1 為可以燒制基板W的狀態(tài)。
如上所述，熱處理室13的氛圍溫度達到熱處理溫度時，如圖4所示， 為了基板W的取放，熱處理裝置1的控制裝置(未圖示)按順序從處于 下方的出入口開始使出入口 18a 18d的擋板Sn (n^l 4的自然數(shù))進行 開閉。另外，控制裝置在關閉最上的擋板S4后，與所述的相同，按順序
10從最下的擋板Sl開始使各擋板Sn進行開閉。另外，控制裝置在各擋板 Sn動作的時機之前，使架子30上下動作，以將用于取放基板W的擱架 40送到相當于出入口 18a 18d中為打開狀態(tài)的出入口的位置。
熱處理裝置1通過擋板Sn的動作，經(jīng)由出入口 18a 18d中的打開狀 態(tài)的出入口，能夠取放基板W。出入口 18a 18d經(jīng)過為了取放基板W而 分配的時間時，擋板Sn再一次動作，成為關閉狀態(tài)。其后，下一個擋板 Sn動作，與上述相同，在規(guī)定的時間成為能夠取放基板W的狀態(tài)。
在此，如上所述，在本實施方式的熱處理裝置1中，各出入口 18a 18d按順序從處于下方的出入口開始進行開閉。因此，以各出入口 18a 18b中存在于區(qū)域Xl的出入口 18a、 18b為打開狀態(tài)的時機作為基準而設 定的期間a和將存在于區(qū)域X2的出入口 18c、 18d為打開狀態(tài)的時機作為 基準而設定的期間b隨著時間的經(jīng)過交替到來。在熱處理裝置1中通過上 述的期間a和期間b變換排氣裝置11的輸出。
具體地說，在本實施方式中，如圖4所示，各出入口 18a 18d中的 一個為打開狀態(tài)的時機和在該時機之前其他的出入口 18a 18d為關閉狀 態(tài)的時機之間設置極少的待機時間t。另外，在本實施方式中，熱處理裝 置1啟動后，將從相對出入口 18a最先打開的時機提前上述的待機時間t 的時機至區(qū)域X1的出入口 18b為關閉狀態(tài)的期間設定為期間a。同樣地， 對于從相對設置于區(qū)域X1的出入口 18a為打開狀態(tài)的時機提前上述的待 機時間t的時機即設于區(qū)域X2的出入口 18d為關閉狀態(tài)的時機至區(qū)域Xl 的出入口 18b為關閉狀態(tài)的期間，也設定為期間a。另外，將從相對設于 區(qū)域X2的出入口 18c為打開狀態(tài)的時機提前上述的待機時間t的時機即 設于區(qū)域XI的出入口 18b為關閉狀態(tài)的時機至區(qū)域X2的出入口 18d為 關閉狀態(tài)的期間設定為期間b。
如圖4所示，熱處理裝置1在期間a將排氣裝置11的輸出設定在pl 進行動作。由此，如圖5所示，在熱處理室13內(nèi)的區(qū)域X1，距出入口 18a、 18b近的位置的靜壓與熱處理室13的外部大氣壓Po相等，或低于外部大 氣壓Po。因此，即使為了基板W的取放，出入口 18a、 18b為打開狀態(tài)， 包含生成氣體等的空氣也不會從熱處理室13的內(nèi)側(cè)向外側(cè)的泄漏。另外， 在期間a，設置有出入口 18c、 18d的區(qū)域X2的靜壓比外部大氣壓Po高，但出入口 18c、 18d為關閉狀態(tài)。因此，在出入口 18c、 18d中，不會引起 包含生成氣體等的空氣的泄漏及外部氣體的流入。
另一方面，熱處理裝置1在期間b將排氣裝置11的輸出設定在比上 述的pl更大的p2并進行動作。由此，如圖5所示，不僅熱處理室13內(nèi) 的區(qū)域X1，即使在區(qū)域X2，距出入口 18c、 18d近的位置的靜壓也與熱 處理室13的外部大氣壓Po相同，或為外部大氣壓Po以下。因此，在期 間b即使為了基板W的取放，出入口18c、 18d為打開狀態(tài)，包含生成氣 體等的空氣也不會從熱處理室13的內(nèi)側(cè)向外側(cè)泄漏。另外，在期間b，區(qū) 域X1中與出入口 18a、 18b鄰接的部分的靜壓變得比熱處理室13的外部 大氣壓Po低，但出入口 18a、 18b為關閉狀態(tài)。因此，在期間b，外部空 氣不會從出入口18a、 18b向熱處理室13的內(nèi)側(cè)流入，不會引起熱處理室 13內(nèi)的溫度分布不均勻，或沒有預期的位置的升華物的產(chǎn)生及附著這類不 良現(xiàn)象。
在上述實施方式中，調(diào)節(jié)排氣裝置11的輸出以使設置有處于打開狀 態(tài)的出入口 18的區(qū)域X1、 X2的靜壓與外部大氣壓Po相等，或低于外部 大氣壓Po，但本發(fā)明不限于此。具體地說，不僅進行區(qū)域X1、 X2的靜壓 調(diào)節(jié)，而且還執(zhí)行防止生成氣體的泄漏的方法，在即使區(qū)域X1、 X2的靜 壓為比外部大氣壓Po稍微高的氣壓Pl時，也能夠防止包含生成氣體等的 空氣從熱處理室13的泄漏的情況下，可以調(diào)節(jié)排氣裝置11的輸出以使設 置有處于打開狀態(tài)的出入口 18的區(qū)域X1、 X2的靜壓與氣壓P1相等，或 比其低。
另外，上述熱處理裝置1通過根據(jù)處于打開狀態(tài)的出入口 18和排氣 口 21的距離調(diào)節(jié)排氣裝置11的排氣能力，不僅防止包含生成氣體的空氣 從熱處理室13泄漏，或經(jīng)由出入口 18使外部空氣流入熱處理室13內(nèi)， 而且作為防止生成氣體泄漏及外部空氣流入的方法，也可以采用如圖6所 示的結構。具體地說，在圖6所示的例子中，在出入口 18和熱處理室13 之間形成有低壓區(qū)域50，其靜壓比熱處理室13的內(nèi)側(cè)及外側(cè)的氣壓低。 更詳細地說明，在圖6所示的例子中，在相對于出入口 18與上方及下方 鄰接的位置設置有管道狀的低壓區(qū)域50。在構成低壓區(qū)域50的壁面、即 與經(jīng)由出入口 18取放的基板W對置的面51、 52上，設置有切口狀的開口53、 55。因此，在如圖6所示的結構的情況下，即使為了基板W的取 放而出入口 18打開，也能夠?qū)臒崽幚硎?3要向外側(cè)泄漏的氣體經(jīng)由開 口 53、 55回收，不會向外部泄漏。另外，對于從出入口 18向熱處理室13 側(cè)流入的氣體，在到達熱處理室13以前也被吸入開口 53、 55，不會侵入 熱處理室13。因此，若在上述實施方式中說明的排氣裝置11的排氣能力 的調(diào)節(jié)的基礎上，還采用如圖6所示的結構，則能夠更進一步可靠地防止 包含生成氣體的氣體從熱處理室13向外部泄漏，或外部空氣從外部流入 熱處理室13內(nèi)而使熱處理室13內(nèi)的溫度分布不均勻這類不良現(xiàn)象。
在上述的實施方式中，根據(jù)距排氣口 21的距離，將熱處理室13內(nèi)的 區(qū)域劃分為區(qū)域X1、 X2二個區(qū)域，同時以設置在各區(qū)域X1、 X2的出入 口 18為打開狀態(tài)的時機作為基準設定期間a、 b，對各期間a、 b都調(diào)節(jié)排 氣裝置ll的輸出，但本發(fā)明不限于此。具體地說，也可以將熱處理室13 內(nèi)的區(qū)域進一步劃分為多個區(qū)域Xn (n=3以上的自然數(shù))，調(diào)節(jié)排氣裝置 ll的輸出，以使設置在多個區(qū)域Xn中的一個(區(qū)域A)的出入口 18打 開時的排氣裝置11的排氣能力比處于比該區(qū)域Xn (區(qū)域A)更遠離排氣 口21位置的其他區(qū)域Xn (區(qū)域B)的出入口 18打開時的排氣裝置11的 排氣能力更低。在這種結構的情況下，根據(jù)出入口 18和排氣口 21的距離 更多級地切換排氣裝置11的輸出，且可以調(diào)節(jié)各區(qū)域Xn的靜壓，以成為 對防止包含生成氣體的空氣從熱處理室13泄漏最適合的狀態(tài)。
如上所述，在熱處理裝置1為在熱處理裝置主體10的正面13b設置 有出入口18，在與之鄰接的位置設置有排氣口 21的結構，因此，可以經(jīng) 由出入口 18將要向外部泄漏的生成氣體等抽吸到排氣口21側(cè)，能夠可靠 地防止生成氣體等的泄漏。另外，排氣口 21如上所述，優(yōu)選設置在與正 面13b鄰接位置，但可以設置在例如熱處理室13的底面13a的中央部及 比其更靠近稍稍靠近正面13b側(cè)的位置、調(diào)溫部12內(nèi)、及靠近調(diào)溫部12 側(cè)的位置、熱處理室13的周壁等適宜的位置。另外，在將排氣口21設置 在遠離正面13b的位置時，也可以作成在距正面13b近的位置設置排氣進 氣口，并通過管道等連接該排氣進氣口和排氣口 21的結構。
如上述實施方式所示，熱處理裝置l中，各出入口 18及區(qū)域X1、 X2 在上下方向并列，并在熱處理室13的底面13a側(cè)設置有排氣口 21，因此，處于在上方側(cè)的區(qū)域X2的靜壓有比下方側(cè)的區(qū)域X1的靜壓更高的趨勢。 在熱處理室13內(nèi)，因空氣及生成氣體經(jīng)加熱變?yōu)楦邷?，因此處于趨向?方側(cè)的趨勢，因此，當區(qū)域X2的靜壓比外部大氣壓Po高時，出入口 18c、 18d為打開狀態(tài)時，有可能產(chǎn)生生成氣體泄漏，或與高溫的空氣一起產(chǎn)生 熱能泄漏。但是，在本實施方式的熱處理裝置l中，處于上方側(cè)的區(qū)域A 的出入口18打開時，比起區(qū)域B的出入口 18打開的情況，能使排氣裝置 ll的排氣能力提高。因此，如上所述，能夠可靠地防止包含生成氣體的空 氣從出入口 18及區(qū)域X1、 X2泄漏。
另外，在上述實施方式中示例了向左右方向(寬度方向)擴展的各出 入口 18在上下方向并列的結構，但本發(fā)明不限于此，例如各出入口 18也 可以按照在上下方向(高度方向)擴展的方式形成，分別為在左右方向并 列的結構。對于將各出入口 18在寬度方向并列配置的情況，也可以與在 上述實施方式中說明的相同，作成在各出入口 18并列的方向的一端側(cè)設 置排氣口21的結構，并且，根據(jù)距排氣口 21的距離設定區(qū)域X1、 X2， 在區(qū)域X2的出入口 18打開時，與區(qū)域X1的出入口 18打開的情況相比， 能夠提高排氣裝置11的排氣能力。根據(jù)這樣的結構，對于設置有開口區(qū) 域向高度方向擴展的各出入口 18的情況，也能夠防止包含生成氣體的空 氣向熱處理室13的外側(cè)泄漏。
在上述實施方式中，在各出入口 18依次開閉時，最先為打開狀態(tài)的 出入口 18成為關閉狀態(tài)之后至下一個出入口 18成為打幵狀態(tài)之間設定有 規(guī)定的待機時間t。而且，相對在區(qū)域X1、 X2出入口18a、 18c為打開狀 態(tài)的時機，使成為用于切換排氣裝置11的排氣能力的基準的期間a、 b提 前待機時間t的量。因此，在熱處理裝置l中，區(qū)域X1、 X2的靜壓調(diào)節(jié) 可以利用到區(qū)域X1、 X2中最先打開的出入口 18a、 18c為打開狀態(tài)為止。 另外，在上述實施方式中，即使出入口 18a 18d的任意一個為打開狀態(tài) 的情況下，待機時間t也是一致的，但本發(fā)明不限于此，例如可以作成根 據(jù)需要適宜地變更、或不設置待機時間t的結構。
另外，在上述實施方式中，為了調(diào)節(jié)靜壓而利用待機時間t，但本發(fā) 明不限于此，也可以作成到區(qū)域X1、 X2的靜壓變?yōu)橐?guī)定的值為止各出入 口 18a 18d不為開狀態(tài)的結構。根據(jù)這樣的結構，能夠進一步可靠地防
14止包含生成氣體的空氣經(jīng)由出入口 18泄漏。
在上述實施方式中示例了在與排氣裝置11連接的配管22中設置閥23 的例子，但本發(fā)明不限于此，也可以不設置閥23。另外，上述的排氣裝置 11也可以用任何方法調(diào)節(jié)排氣能力，但可適宜地采用通過所謂轉(zhuǎn)換器控制 而可以調(diào)節(jié)排氣能力的方法。
在上述熱處理裝置1中，在設置的多個出入口 18全部為關閉狀態(tài)的 情況下，即使將排氣裝置11設定為停止狀態(tài)，生成氣體及升華物等也不 會從各出入口 18泄漏。另外，各出入口 18為全部關閉狀態(tài)的情況下，即 使將排氣裝置11的排氣能力調(diào)節(jié)至為了冷卻換氣等所需要的最小限，生 成氣體及升華物等也不會從各出入口 18泄漏。同樣地，各出入口 18全部 為關閉狀態(tài)的情況下，也可以調(diào)節(jié)排氣裝置11的排氣能力，使之成為將 各出入口 18設定為打開狀態(tài)時的排氣裝置11的排氣能力中最小的排氣能 力(上述實施方式中區(qū)域XI的出入口 18為打開狀態(tài)時的輸出pl)或與 其相同程度的排氣能力。這樣，若進行排氣裝置11的輸出調(diào)節(jié)，則能夠 將由于排氣裝置的動作而消耗的能量抑制在需要的最小限度。
權利要求
1、一種熱處理裝置，其特征在于，具備可以收納被加熱物的熱處理室；可以相對于該熱處理室取放被加熱物的多個出入口；可以改變用于將氣體從所述熱處理室的內(nèi)側(cè)向外側(cè)抽吸排出的排氣能力的排氣裝置，調(diào)節(jié)所述排氣裝置的排氣能力，以使所述任意一個出入口為打開狀態(tài)時，與該打開狀態(tài)的出入口鄰接的位置的所述熱處理室內(nèi)的靜壓比所述出入口為打開狀態(tài)前的壓力低。
2、 如權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，調(diào)節(jié)所述排氣裝 置的排氣能力，以使任意一個出入口為打幵狀態(tài)時，與該打開狀態(tài)的出入 口鄰接的位置的所述熱處理室內(nèi)的靜壓為該熱處理室的外側(cè)的大氣壓以 下。
3、 如權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于， 具有用于將氣體從熱處理室內(nèi)向外側(cè)排出的排氣口， 根據(jù)處于打開狀態(tài)的出入口和所述排氣口的距離調(diào)節(jié)排氣裝置的排氣能力。
4、 如權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，具有用于將氣體從熱處理室內(nèi)向外側(cè)排出的排氣口， 在距所述排氣口近的區(qū)域A 、及相對所述排氣口比所述區(qū)域A遠離的區(qū)域B并列設置有多個出入口，設于該區(qū)域A、 B的所述出入口以規(guī)定的順序進行開閉，以配置于所述區(qū)域B的出入口為打開狀態(tài)的時機作為基準的規(guī)定期 間中的所述排氣裝置的排氣能力比以配置于所述區(qū)域A的出入口為打開 狀態(tài)的時機作為基準的規(guī)定期間中的所述排氣裝置的排氣能力高。
5、 如權利要求4所述的熱處理裝置，其特征在于， 區(qū)域B相對于區(qū)域A位于上方， 在熱處理室的下方側(cè)的位置設置有排氣口。
6、 如權利要求1 4中任一項所述的熱處理裝置，其特征在于，排氣 裝置的排氣能力的調(diào)節(jié)在多個出入口的任意一個為打開狀態(tài)前完成。
7、 如權利要求1 4中任一項所述的熱處理裝置，其特征在于， 在與構成熱處理室且設置有出入口的壁面鄰接的位置設置有排氣口， 通過排氣裝置，經(jīng)由所述排氣口可以將所述熱處理室內(nèi)的氣體向熱處理室外部排出。
8、 如權利要求1 4中任一項所述的熱處理裝置，其特征在于，在出 入口和熱處理室之間設置有比熱處理室的內(nèi)側(cè)及外側(cè)的氣壓更低的低壓 區(qū)域。
9、 如權利要求1 4中任一項所述的熱處理裝置，其特征在于，調(diào)節(jié) 排氣裝置的工作狀態(tài)，以使全部的出入口為關閉狀態(tài)時，排氣裝置成為排 氣流量為規(guī)定的最小流量的狀態(tài)、發(fā)揮各出入口打開時調(diào)節(jié)的排氣能力當 中的最小排氣能力的狀態(tài)、或停止狀態(tài)的任意一種狀態(tài)。
10、 如權利要求1 4中任一項所述的熱處理裝置，其特征在于，排 氣裝置由送風機和變換器構成，通過變換器控制能夠調(diào)節(jié)排氣能力。
全文摘要
一種熱處理裝置，其目的在于使伴隨熱處理而產(chǎn)生的生成氣體和升華物等不會隨著出入口的開閉而泄漏，或不會產(chǎn)生熱處理室內(nèi)溫度分布的不均。在成為熱處理裝置(1)的熱處理室(13)的正面(13b)并列設置有上下四個出入口(18a)～(18d)。另外，在熱處理室(13)的底面(13a)設置有排氣口(21)，排氣裝置(11)與之連接。排氣裝置(11)在上方區(qū)域(X2)設置的出入口(18c)、(18d)為打開狀態(tài)期間，其輸出比在熱處理室(13)的底面(13a)側(cè)的區(qū)域(X1)設置的出入口(18a)、(18b)為打開狀態(tài)期間高。由此，出入口(18c)、(18d)為打開狀態(tài)時，區(qū)域(X2)的靜壓也和外部大氣壓(Po)相等或低于外部大氣壓，防止了包含生成氣體的空氣的泄漏。
文檔編號C03C17/00GK101585665SQ20091020345
公開日2009年11月25日 申請日期2009年5月21日 優(yōu)先權日2008年5月21日
發(fā)明者神田敏朗 申請人:愛斯佩克株式會社