專利名稱：吸附裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種吸附裝置；特別是關(guān)于一種用以吸附一基板的吸附裝置。
背景技術(shù)：
隨著科技的發(fā)展以及半導(dǎo)體制造的進(jìn)步，平面顯示面板已經(jīng)在日常生活中具有舉 足輕重的角色，舉凡用以欣賞影音節(jié)目的平面電視，又或者是手機(jī)及相機(jī)中所搭載的小尺 寸液晶屏幕(LCD)，都隸屬于平面顯示面板的產(chǎn)品類別。于液晶面板的制造步驟中，多會(huì)先制作大尺寸的基板，并根據(jù)不同的客戶需求依 據(jù)不同面板尺寸，進(jìn)行液晶屏幕單元母板OXD cell mother board)的制造并分割為獨(dú)立 的液晶屏幕單元，以制造液晶屏幕。詳細(xì)而言，面板單元切割(Cell cut)步驟是進(jìn)行于面板單元組立 (Cellassembly)步驟之后。面板單元組立為將具有彩色濾光片(Color Filter)的A面玻璃 與具有液晶單元(LCD Cell)的B面玻璃進(jìn)行上下對(duì)位組合，從而形成液晶屏幕單元母板。 面板單元切割步驟則是切割該液晶屏幕單元母板，以符合特定尺寸液晶屏幕的規(guī)格。由于A 面玻璃與B面玻璃間存在有IC搭載區(qū)或其它端子線路區(qū)，因此當(dāng)進(jìn)行面板切割步驟時(shí)，需 先完成A面玻璃的切割，繼而翻轉(zhuǎn)該面板基板，接續(xù)切割B面玻璃，或依相反順序切割，才能 形成特定尺寸的面板單元，并確保IC搭載區(qū)或其它端子線路區(qū)不受傷害。公知技術(shù)于進(jìn)行液晶屏幕單元母板切割步驟時(shí)，必需使用公知吸盤以進(jìn)行翻轉(zhuǎn)并 移動(dòng)液晶屏幕單元母板等等步驟。然因公知吸盤的吸附力是以集中于玻璃基板的一點(diǎn)，容 易造成應(yīng)力集中，并且使用公知吸盤吸附大型基板時(shí)，亦容易發(fā)生各點(diǎn)吸盤移動(dòng)不一致或 移動(dòng)速度過快，造成基板破裂。囿于上述公知吸盤的限制，目前進(jìn)行大尺寸的基板切割步驟 時(shí)，多事先將大尺寸基板，例如液晶屏幕單元母板，進(jìn)行四等分切割為四尺寸較小的基板， 或切割為更多尺寸更小的基板，再以人工方式小心進(jìn)行面板基板的翻轉(zhuǎn)及移動(dòng)等步驟。然 而上述制造，隨著面板基板尺寸的加大以及日漸薄化的基板厚度，已經(jīng)造成人工成本過高、 生產(chǎn)效率低落以及制造良率偏低等等問題。有鑒于此，提供一種可以穩(wěn)固吸附大尺寸基板的吸附裝置，乃為此一業(yè)界亟待解 決的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一目的在于提供一種吸附裝置，其可以吸附一大尺寸基板，并且無(wú)損傷、 高效率地完成運(yùn)輸及翻轉(zhuǎn)該基板等動(dòng)作，避免該面板基板破裂，俾提高生產(chǎn)良率、節(jié)省人工 成本、并提高生產(chǎn)效率。為達(dá)上述目的，吸附裝置具有一吸附本體及一氣壓控制裝置。吸附本體包含一平 面及多個(gè)孔洞。平面具有一分布范圍，并適以與一基板接觸。該些孔洞是形成于平面上并 實(shí)質(zhì)上平均分布于平面的分布范圍內(nèi)。氣壓控制裝置是依控制氣動(dòng)連接一低氣壓源及該些 孔洞，使與平面接觸的基板與吸附本體相互穩(wěn)固。當(dāng)基板與平面接觸并且氣壓控制裝置氣動(dòng)連接該些孔洞與低氣壓源時(shí)，基板與吸附本體相互穩(wěn)固。藉此，本發(fā)明的吸附裝置適以避 免應(yīng)力集中地吸附基板，以利后續(xù)自動(dòng)化基板翻轉(zhuǎn)及基板運(yùn)輸?shù)戎圃臁?
為讓上述目的、技術(shù)特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文是以較佳實(shí)施例配合附圖進(jìn) 行詳細(xì)說明。


圖1為本發(fā)明吸附裝置的立體圖；以及圖2為本發(fā)明吸附本體的仰視圖。符號(hào)說明10吸附裝置20吸附本體22平面24孔洞26分布范圍261第一區(qū)262第二區(qū)263第三區(qū)264第四區(qū)加5第五區(qū)加6第六區(qū)W溝槽30氣壓控制裝置40緩沖裝置50支撐結(jié)構(gòu)
具體實(shí)施例方式如圖1所示，其為本發(fā)明的一吸附裝置10的立體圖。其中吸附裝置10適以連接 一低氣壓源(圖未示)，且用以吸附一基板(圖未示)。吸附裝置10包含一吸附本體20及 一氣壓控制裝置30。請(qǐng)同時(shí)參閱圖2，吸附本體20包含一平面22及多個(gè)孔洞M。平面22 具有一分布范圍26，并且平面22適以與基板接觸?？锥碝是形成于平面22上，并實(shí)質(zhì)上 平均分布于平面22的分布范圍沈內(nèi)。氣壓控制裝置30依控制氣動(dòng)連接低氣壓源與該些 孔洞對(duì)，使與平面22接觸的基板與吸附本體20相互穩(wěn)固。藉此，當(dāng)基板與平面22接觸并 且氣壓控制裝置30連接該些孔洞M與低氣壓源時(shí)，基板適可與吸附本體20相互穩(wěn)固而不 掉落。此時(shí)，吸附裝置10通過實(shí)質(zhì)上平均分布于平面22的分布范圍沈內(nèi)的孔洞M，施加 均勻分布的吸附力于基板的表面上，適可避免應(yīng)力集中使基板不慎破裂，進(jìn)一步使基板的 運(yùn)輸及翻轉(zhuǎn)等制造能夠機(jī)械自動(dòng)化。需特別說明的是，于本實(shí)施例中，基板較佳為可分割并 制造成一液晶顯示器的液晶顯示器單元母板的一玻璃基板，且低壓源較佳為一真空幫浦。于一較佳實(shí)施例中，吸附本體20的該些孔洞M可區(qū)分為多個(gè)群組，且氣壓控制裝 置30相應(yīng)地包含多個(gè)氣壓控制閥。該些氣壓控制閥是分別氣動(dòng)連接該些群組，并且各該氣 壓控制閥適以獨(dú)立控制各該群組內(nèi)的該些孔洞M分別與低氣壓源氣動(dòng)連接。于本發(fā)明的 實(shí)施例中，較佳地，該些氣壓控制閥較佳各是為一電磁閥，該些孔洞M較佳可區(qū)分為一第 一群組、一第二群組、一第三群組、一第四群組及一第五群組，共五群組。該些氣壓控制閥較 佳為五氣壓控制閥，以分別氣動(dòng)連接該五群組。如圖2所示，平面22的分布范圍沈是區(qū)分 為一第一區(qū)洸1、一第二區(qū)洸2、一第三區(qū)洸3、一第四區(qū)洸4、一第五區(qū)265及一第六區(qū)洸6。 第二區(qū)沈2、第三區(qū)263及第四區(qū)264是依序向外環(huán)繞第一區(qū)261設(shè)置，且第五區(qū)265及第 六區(qū)266是分別設(shè)置于第四區(qū)264的二相對(duì)側(cè)。該些孔洞M的第一群組、第二群組、第三群4組及第四群組是分別實(shí)質(zhì)上平均分布于第一區(qū)261內(nèi)、第二區(qū)沈2內(nèi)、第三區(qū)沈3內(nèi)及第四 區(qū)沈4內(nèi)，并且該些孔洞M的第五群組是實(shí)質(zhì)上平均分布于第五區(qū)265及第六區(qū)沈6內(nèi)。藉此，當(dāng)平面22的分布范圍沈與基板接觸，并且氣壓控制裝置30分別以該些氣 壓控制閥氣動(dòng)連接該些孔洞M與低氣壓源時(shí)，吸附本體20適可通過第一區(qū)沈1、第二區(qū) 沈2、第三區(qū)沈3、第四區(qū)沈4、第五區(qū)265及第六區(qū)266與基板相互穩(wěn)固。如此設(shè)置的優(yōu)點(diǎn)在 于，當(dāng)上述第一區(qū)沈1、第二區(qū)沈2、第三區(qū)沈3、第四區(qū)沈4、第五區(qū)265及第六區(qū)沈6中有 任一區(qū)域，因?yàn)闅鈮嚎刂崎y發(fā)生故障抑或因其它因素?zé)o法與基板密封而使低壓外泄，造成 無(wú)法吸附基板時(shí)，其它區(qū)域依舊可通過正常運(yùn)作的該些氣壓控制閥維持吸附基板的動(dòng)作， 而不至于失去吸附力道，進(jìn)而造成基板掉落及損壞基板。同時(shí)，該些孔洞M的設(shè)置也具有 分散吸附力道，避免吸附應(yīng)力集中而對(duì)基板造成傷害的功效。此外，吸附本體20的平面22 更形成有多個(gè)溝槽觀，設(shè)置于第一區(qū)沈1、第二區(qū)沈2、第三區(qū)沈3、第四區(qū)沈4、第五區(qū)265 及第六區(qū)洸6間。吸附裝置10可還包含一緩沖裝置40及一支撐結(jié)構(gòu)50，緩沖裝置40是設(shè)置于支撐 結(jié)構(gòu)50及吸附本體20間。支撐結(jié)構(gòu)50更連接其它機(jī)械化設(shè)備，以進(jìn)行翻轉(zhuǎn)及運(yùn)輸基板等 制造。通過緩沖裝置40吸收于吸附本體20與基板瞬間觸碰時(shí)所產(chǎn)生的一沖擊力，避免對(duì) 基板造成傷害，提高生產(chǎn)良率。本發(fā)明的吸附裝置10可廣泛應(yīng)用于一液晶屏幕單元母板切割制造中。例如于一 應(yīng)用中，吸附裝置10是設(shè)置于一基板翻轉(zhuǎn)裝置的一翻轉(zhuǎn)部，并且當(dāng)吸附裝置10吸附并穩(wěn)固 基板時(shí)，翻轉(zhuǎn)部適可帶動(dòng)吸附裝置10連同基板翻轉(zhuǎn)。于另一應(yīng)用中，吸附裝置10是設(shè)置于 一基板運(yùn)輸裝置，并且當(dāng)吸附裝置10吸附并穩(wěn)固基板時(shí)，基板運(yùn)輸裝置適以帶動(dòng)吸附裝置 10連同基板，由一第一位置移動(dòng)至一第二位置。綜上所述，本發(fā)明的吸附裝置10是透過氣壓控制裝置30依控制氣動(dòng)連接低氣壓 源與該些孔洞對(duì)，使吸附本體20的接觸區(qū)域沈適可吸附并穩(wěn)固基板。由于氣壓控制裝置 20的該些氣壓控制閥是獨(dú)立控制各該群組內(nèi)的孔洞24，因此即便有任一區(qū)域或任一氣壓 控制閥無(wú)法正常運(yùn)作以吸附基板，亦不影響其它氣壓控制閥或區(qū)域的正常運(yùn)作，從而大幅 增加吸附裝置10穩(wěn)固基板的可靠性，避免對(duì)基板產(chǎn)生傷害。再者，平均分布于平面22的分 布范圍沈內(nèi)的該些孔洞對(duì)，亦具有平均分散吸附力道，避免吸附應(yīng)力過于集中而導(dǎo)致?lián)p傷 基板的功能，進(jìn)而提高基板的生產(chǎn)良率。上述的實(shí)施例僅用來(lái)例舉本發(fā)明的實(shí)施態(tài)樣，以及闡釋本發(fā)明的技術(shù)特征，并非 用來(lái)限制本發(fā)明的保護(hù)范疇。任何熟悉此技術(shù)者可輕易完成的改變或均等性的安排均屬于 本發(fā)明所主張的范圍，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)根據(jù)權(quán)利要求所界定的內(nèi)容為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種吸附裝置，其特征在于，用以吸附一基板，并且適以連接一低氣壓源，該吸附裝 置包含一吸附本體，包含一平面及多個(gè)孔洞，其中該平面具有一分布范圍，并適以與該基板接 觸，并且該些孔洞是形成于該平面上并實(shí)質(zhì)上平均分布于該平面的該分布范圍內(nèi)；以及一氣壓控制裝置，適以依控制氣動(dòng)連接該低氣壓源與該些孔洞，使與該平面接觸的該 基板與該吸附本體相互穩(wěn)固。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，該吸附本體的該些孔洞是區(qū)分為多 個(gè)群組，該氣壓控制裝置相應(yīng)地包含多個(gè)氣壓控制閥，該些氣壓控制閥是分別氣動(dòng)連接該 些群組，并且各該氣壓控制閥適以獨(dú)立控制各該群組內(nèi)的該些孔洞與該低氣壓源氣動(dòng)連 接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的吸附裝置，其特征在于，該些孔洞是區(qū)分為一第一群組、一第 二群組、一第三群組、一第四群組及一第五群組，并且該些氣壓控制閥是為五氣壓控制閥， 分別相應(yīng)氣動(dòng)連接該些群組。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸附裝置，其特征在于，該平面的該分布范圍是區(qū)分為一第 一區(qū)、一第二區(qū)、一第三區(qū)、一第四區(qū)、一第五區(qū)及一第六區(qū)，該第二區(qū)、該第三區(qū)及該第四 區(qū)是依序向外環(huán)繞該第一區(qū)設(shè)置，該第五區(qū)及該第六區(qū)是分別設(shè)置于該第四區(qū)的二相對(duì) 側(cè)，該第一群組、該第二群組、該第三群組及該第四群組是分別實(shí)質(zhì)上平均分布于該第一區(qū) 內(nèi)、該第二區(qū)內(nèi)、該第三區(qū)內(nèi)及該第四區(qū)內(nèi)，并且該第五群組是實(shí)質(zhì)上平均分布于該第五區(qū) 及該第六區(qū)內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的吸附裝置，其特征在于，還包含一緩沖裝置及一支撐結(jié)構(gòu)，并 且該緩沖裝置是設(shè)置于該支撐結(jié)構(gòu)與該吸附本體間，以吸收該吸附本體與該基板瞬間觸碰 時(shí)所產(chǎn)生的一沖擊力。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的吸附裝置，其特征在于，該吸附本體的該平面還形成有多個(gè) 溝槽，設(shè)置于該第一區(qū)、該第二區(qū)、該第三區(qū)、該第四區(qū)、該第五區(qū)及該第六區(qū)之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的吸附裝置，其特征在于，該些氣壓控制閥各為一電磁閥。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，該吸附裝置是設(shè)置于一基板翻轉(zhuǎn)裝 置的一翻轉(zhuǎn)部，并且該翻轉(zhuǎn)部適可帶動(dòng)該吸附裝置，連同與該吸附裝置吸附并穩(wěn)固的該基 板翻轉(zhuǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，該吸附裝置是設(shè)置于一基板運(yùn)輸裝 置，并且該基板運(yùn)輸裝置適以帶動(dòng)該吸附裝置，連同與該吸附裝置吸附并穩(wěn)固的該基板，由 一第一位置移動(dòng)至一第二位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，該低壓源為一真空幫浦。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，該基板為一液晶顯示器的一玻璃基板。
全文摘要
本發(fā)明是關(guān)于一種吸附裝置，連接一低氣壓源，并用以吸附一基板。吸附裝置包含一吸附本體及一氣壓控制裝置。吸附本體包含一平面及多個(gè)孔洞，其中平面具有一分布范圍，并適以與基板接觸。該些孔洞是形成于平面上并實(shí)質(zhì)上平均分布于平面的分布范圍內(nèi)。氣壓控制裝置依控制氣動(dòng)連接低氣壓源與該些孔洞。當(dāng)基板與平面接觸并且氣壓控制裝置氣動(dòng)連接該些孔洞與低氣壓源時(shí)，基板與吸附本體相互穩(wěn)固。
文檔編號(hào)C03B33/03GK102050566SQ20091022442
公開日2011年5月11日 申請(qǐng)日期2009年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月30日
發(fā)明者孫立璇, 曾世明, 陳瑞璽 申請(qǐng)人:孫月衛(wèi)