專利名稱：霧化直線式可控施釉裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種陶瓷磚坯施釉裝置，具體地說是一種霧化直線式可控施釉裝 置，屬于陶瓷磚生產(chǎn)用機械制造技術領域。
二背景技術：
在墻地陶瓷磚生產(chǎn)過程中，我們目前所使用的陶瓷磚坯施釉裝置大多為鐘罩式淋 釉器，它是將盛放于柱形儲釉桶中的釉漿通過重力自然流到鐘罩式的上面，然后分布于鐘 罩上的釉漿再自然向下流淌，墻地磚素坯通過鐘罩下面時釉漿澆淋到其表面而實現(xiàn)施釉， 釉漿的大小和施釉的薄厚程度由柱形儲釉桶和鐘罩面之間的閥門進行控制。目前，市場上所使用的這種結構的鐘罩式淋釉器在陶瓷磚的生產(chǎn)過程中施釉薄厚 不容易掌握，容易產(chǎn)生釉面波紋，釉膜不穩(wěn)定，釉量的大小和薄厚程度不容易控制，尤其對 大規(guī)格陶瓷磚坯容易產(chǎn)生缺陷，邊沿和中部施釉厚度容易產(chǎn)生差異，從而影響陶瓷磚的生 產(chǎn)質(zhì)量。
三
實用新型內(nèi)容本實用新型的目的就是為了克服現(xiàn)有鐘罩式淋釉器在結構設計上存在的施釉多 少和施釉的薄厚程度不容易控制，陶瓷磚磚坯邊沿和中部施釉厚度容易產(chǎn)生差異，使陶瓷 磚的生產(chǎn)質(zhì)量不能普遍得到提高，陶瓷磚的低等品和廢品率比較高，從而提出一種新的技 術方案。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型可通過以下方案來實現(xiàn)一種霧化直線式可控施釉裝置，它是由施釉裝置和貯供釉漿裝置兩部分通過輸釉 管和穩(wěn)壓罐相管連接構成，施釉裝置是在機架上固定設有一外罩，外罩內(nèi)設有供漿管，供漿 管兩端固定在機架上，供漿管一端通過輸漿管和穩(wěn)壓罐與貯供釉漿裝置相管連接，供漿管 另一端設有減壓裝置，在外罩內(nèi)的供漿管上垂直設有霧化噴頭；在外罩內(nèi)靠近霧化噴頭處 固定設有環(huán)狀淋漿器，環(huán)狀淋漿器的兩端固定在機架上，所述的環(huán)狀淋漿器的形狀是圓形 桶狀結構，在其側(cè)面軸向設有矩形開口 ；在環(huán)狀淋漿器兩端下面的機架上固定設有擋板，在 擋板下端的機架上固定設有回漿槽，回漿槽通過回漿管和震動篩與釉漿桶相管連接；在環(huán) 狀淋漿器一端的機架上設有調(diào)節(jié)器和調(diào)節(jié)手柄。環(huán)狀淋漿器截面形狀是C形結構，其兩端設有堵頭，在調(diào)節(jié)器上設有鎖緊手柄；減 壓裝置是在三通管上裝有蓄能器和壓力表；固定在機架上的供漿管上均勻垂直設有四個霧 化噴頭。本實用新型所具有的優(yōu)點是機械結構簡單，制造成本低廉，使用時自動化程度 高，施釉的多少和施釉的薄厚可進行人為調(diào)節(jié)控制，而且施釉的薄厚非常均勻，特別適合大 規(guī)格陶瓷磚坯的施釉。為了克服鐘罩式淋釉器的不足，本實用新型設計了霧化直線式可控 施釉裝置，它的優(yōu)點是可產(chǎn)生穩(wěn)定均勻的釉膜，施釉厚度不但可以調(diào)整，施釉量調(diào)節(jié)范圍 廣，適應不同粘度的釉漿，而且不容易產(chǎn)生波紋，釉面平滑，可適用于不同規(guī)格和尺寸的陶瓷磚坯。四
附圖1是本實用新型一種實施例結構示意圖；附圖2是本實用新型附圖1中施釉裝置的A向上部分結構剖視示意圖；附圖3是本實用新型附圖1中施釉裝置的B向結構剖視示意圖。五具體實施方式
現(xiàn)結合附圖以具體實施例對本實用新型做進一步詳細說明一種霧化直線式可控施釉裝置，它是由施釉裝置和貯供釉漿裝置兩部分通過輸釉 管和穩(wěn)壓罐相管連接構成，貯供釉漿裝置中的釉漿桶2上部設有攪拌抽漿泵1。施釉裝置 是在機架5上固定設有一外罩19，外罩19內(nèi)設有供漿管16，供漿管16的兩端固定在機架 5上，供漿管16 —端通過輸漿管和穩(wěn)壓罐3、4與貯供漿裝置中的釉漿桶2相管連接，供漿 管16另一端設有減壓裝置，減壓裝置是在三通管8上裝有蓄能器9和壓力表10，當供漿管 16內(nèi)的壓力過高時，通過減壓裝置進行泄放減壓，設置減壓裝置為了保證施釉裝置工作時 機械和人身安全。在外罩19內(nèi)的供漿管16上垂直設有四個霧化噴頭17。在外罩19內(nèi)靠 近霧化噴頭17處固定設有環(huán)狀淋漿器15，環(huán)狀淋漿器15的兩端固定在機架5上，所述的環(huán) 狀淋漿器15的截面形狀是C形結構，其兩端設有堵頭，在其側(cè)面軸向設有矩形開口，由于環(huán) 狀淋漿器15的矩形開口向水平面傾斜，可使釉漿料從開口處自然流下，流在了做均速直線 運動的陶瓷磚坯上，達到了施釉的作用。在環(huán)狀淋漿器15 —端的機架5上設有調(diào)節(jié)器18 和調(diào)節(jié)手柄11，用于調(diào)節(jié)環(huán)狀淋漿器15的開口與水平面的角度，并通過鎖緊手柄12進行固 定。在環(huán)狀淋漿器15兩端下面的機架5上固定設有擋板7，在擋板7下端的機架5上 固定設有回漿槽6，讓漿料順著擋板7流進回漿槽6中，回漿槽6通過回漿管13和震動篩 14與釉漿桶2相管連接，對于流出陶瓷磚坯的釉漿料進行回收再利用。工作原理施釉裝置被安裝在機架5上，通過供漿管16向霧化噴頭17提供釉漿料，霧化噴 頭17的壓力由穩(wěn)壓罐3、4提供。霧化噴頭17將釉漿噴到環(huán)狀淋漿器15上，釉漿料通過環(huán) 狀淋漿器15的開口處均勻溢出淋下，對通過淋漿器下面的陶瓷磚坯進行施釉，多余的釉漿 料通過由擋板7、回漿槽6、回漿管13、振動篩14組成的回收系統(tǒng)回到釉漿桶2中。施釉量 通過調(diào)節(jié)手柄11、調(diào)節(jié)器18和鎖緊手柄12調(diào)整供釉量的大小。霧化噴頭17通常在3 4kg/cm2壓力下噴釉，并且可在0 20kg/cm2范圍內(nèi)任意 調(diào)節(jié)，以滿足最佳施釉量要求。
與現(xiàn)有施釉裝置相比霧化直線式可控施釉裝置，噴釉量易于控制，釉膜 非常均勻，通過本裝置生產(chǎn)出的陶瓷磚釉面厚薄均勻，成品率高，而且還特別適用于大規(guī)格 陶瓷磚坯施釉。
權利要求霧化直線式可控施釉裝置，它是由施釉裝置和貯供釉漿裝置兩部分通過輸釉管和穩(wěn)壓罐相管連接構成，其特征是施釉裝置是在機架(5)上固定設有一外罩(19)，外罩(19)內(nèi)設有供漿管(16)，供漿管(16)兩端固定在機架(5)上，供漿管(16)一端通過輸漿管和穩(wěn)壓罐(3、4)與貯供釉漿裝置相管連接，供漿管(16)的另一端設有減壓裝置，在外罩(19)內(nèi)的供漿管(16)上垂直設有霧化噴頭(17)；在外罩(19)內(nèi)靠近霧化噴頭(17)處固定設有環(huán)狀淋漿器(15)，環(huán)狀淋漿器(15)的兩端固定在機架(5)上，所述的環(huán)狀淋漿器(15)的形狀是圓形桶狀結構，在其側(cè)面軸向設有矩形開口；在環(huán)狀淋漿器(15)兩端下面的機架(5)上固定設有擋板(7)，在擋板(7)下端的機架(5)上固定設有回漿槽(6)，回漿槽(6)通過回漿管(13)和震動篩(14)與釉漿桶(2)相管連接；在環(huán)狀淋漿器(15)一端的機架(5)上設有調(diào)節(jié)器(18)和調(diào)節(jié)手柄(11)。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種霧化直線式可控施釉裝置，其特征是環(huán)狀淋漿器(15) 截面形狀是C形結構，其兩端設有堵頭，在調(diào)節(jié)器(18)上設有鎖緊手柄(12)；減壓裝置是 在三通管(8)上裝有蓄能器(9)和壓力表(10)；固定在機架(5)上的供漿管(16)上均勻 垂直設有四個霧化噴頭(17)。
專利摘要本實用新型涉及一種霧化直線式可控施釉裝置，屬于陶瓷磚生產(chǎn)用機械制造技術領域。其主要技術特點是在施釉裝置的機架上設有供漿管和環(huán)狀淋漿器，在供漿管上垂直設有霧化噴頭，所述的環(huán)狀淋漿器的形狀是圓筒形結構，在其側(cè)面軸向設有矩形開口；在環(huán)狀淋漿器兩端下面的機架上依次固定設有調(diào)節(jié)裝置、擋板和回漿槽，供漿管的一端通過輸釉管和穩(wěn)壓罐與釉漿桶相管連接，另一端設有減壓裝置。本實用新型機械結構簡單，制造成本低廉，自動化程度高，施釉的大小和施釉的薄厚可人為控制，而且施釉的薄厚非常均勻，可適用于不同粘度的釉漿，而且使用后陶瓷磚不會產(chǎn)生波紋，釉面非常平滑。
文檔編號C04B41/86GK201694963SQ200920033508
公開日2011年1月5日 申請日期2009年6月12日 優(yōu)先權日2009年6月12日
發(fā)明者喬天琴, 康建喜, 朱展鵬, 李新伍, 王榮杰 申請人:咸陽陶瓷研究設計院