專利名稱：透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及導(dǎo)電玻璃制作系統(tǒng)，更具體地說(shuō)，涉及一種薄透明導(dǎo)電膜 玻璃制作系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
透明導(dǎo)電膜玻璃被大量應(yīng)用于平板顯示器件及新型觸摸屏器件中。目前， 平板顯示行業(yè)對(duì)顯示器件的整體要求不斷提高。在繼續(xù)注重顯示性能的同時(shí)不 斷向輕便時(shí)尚的方向發(fā)展。更輕、更薄成為顯示行業(yè)技術(shù)發(fā)展的新熱點(diǎn)。在此 前提下，作為平板顯示器件中一個(gè)重要組件的氧化銦錫透明導(dǎo)電膜玻璃，其整 體制作的輕薄化即顯得尤為重要。同時(shí)，作為一種便捷輸入方式，電阻式觸摸 屏的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。電阻式觸摸屏是由 一對(duì)相距幾十微米的透明導(dǎo)電膜及其 透明載體構(gòu)成，這種透明載體可以是平板玻璃或高分子薄膜基板。當(dāng)筆尖或手 指等硬物觸摸觸摸屏幕時(shí)，兩層導(dǎo)電層在觸摸點(diǎn)位置就有了接觸，同時(shí)發(fā)出相 應(yīng)的電信號(hào)。電阻式觸摸屏從結(jié)構(gòu)上可劃分為薄膜/薄膜、薄膜/玻璃、玻璃/ 玻璃幾大類型。其中玻璃/玻璃型電阻式觸摸屏以其優(yōu)良的穩(wěn)定性被廣泛應(yīng)用 于車載、軍用等顯示領(lǐng)域。為了保證玻璃/玻璃型觸摸屏的外側(cè)玻璃結(jié)構(gòu)能夠 被外界觸摸體輕松地按壓變形而發(fā)送電信號(hào)，外側(cè)透明導(dǎo)電膜玻璃基板必須足
夠薄。目前， 一般采用的是厚度小于0.3毫米的超薄玻璃，業(yè)內(nèi)普遍應(yīng)用的是 0.21毫米的超薄玻璃。
綜上所述，當(dāng)前無(wú)論是平板顯示器件還是電阻式觸摸屏器件，都對(duì)作為其 重要組件的透明導(dǎo)電膜玻璃基板有了新的輕薄性需求。超薄透明導(dǎo)電膜玻璃的 傳統(tǒng)的制作系統(tǒng)中，先制作0.21毫米厚度的平板玻璃基板，然后在上述玻璃 基板表面鍍透明導(dǎo)電膜。然而該系統(tǒng)存在嚴(yán)重的缺點(diǎn)，首先厚度小于0.3毫米 素玻璃制造難度極高，其次厚度小于0.3毫米素玻璃真空鍍膜難度極高，在目前廣泛使用的真空鍍膜機(jī)上鍍膜時(shí)如此薄的玻璃破損率很高。特殊的專用鍍膜 機(jī)采用臥式方法在傳送膠輥的間隙對(duì)薄玻璃下表面鍍膜，玻璃傳送帶及膠輥設(shè) 計(jì)復(fù)雜，工藝及溫度要求苛刻，利用率低，生產(chǎn)效率低，不易大規(guī)模生產(chǎn)，從 而鍍膜費(fèi)用也大大高于0.4毫米或以上的玻璃。因此，現(xiàn)有厚度小于0.3毫米 的透明導(dǎo)電膜玻璃生產(chǎn)成本十分昂貴。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中薄透明導(dǎo)電膜玻璃生 產(chǎn)成本高昂的缺陷，提供一種低成本、高成品率的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)。
本實(shí)用新型這樣解決上述技術(shù)問(wèn)題，構(gòu)造一種透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)， 包括用于對(duì)進(jìn)入的厚素玻璃的一面鍍以透明導(dǎo)電膜的鍍膜裝置；對(duì)鍍透明導(dǎo) 電膜玻璃的鍍膜面進(jìn)行化學(xué)蝕刻保護(hù)的蝕刻保護(hù)裝置；用于對(duì)蝕刻保護(hù)裝置 饋送來(lái)的玻璃的另一面進(jìn)行蝕刻減薄的蝕刻減薄裝置，以及用于去除經(jīng)過(guò)蝕刻 減薄的玻璃的保護(hù)層的保護(hù)層去除裝置。
在本實(shí)用新型所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中，所述蝕刻保護(hù)裝置(12)
為真空吸盤保護(hù)裝置。
在本實(shí)用新型所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中，所述真空吸盤保護(hù)裝
置包括密封并全面覆蓋平板玻璃導(dǎo)電膜面并將平板玻璃吸附住的真空吸盤；在
真空吸盤內(nèi)部設(shè)有密閉的抽氣孔道以及與所述抽氣孔道相通的真空緩沖腔體， 通過(guò)抽氣孔道與真空緩沖腔體形成的密閉腔室，在與外接真空泵源斷開情況下 維持真空吸盤與平板玻璃之間的真空度在整個(gè)減薄蝕刻流程中吸附住平板玻 璃。
在本實(shí)用新型所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中，還包括設(shè)置在真空吸盤 底部的傳輸輥和設(shè)置在真空吸盤頂部的導(dǎo)向滑輪。
在本實(shí)用新型所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中，送入所述鍍膜裝置中的
厚素玻璃是0.4毫米至1.1毫米厚度的玻璃。
在本實(shí)用新型所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中，經(jīng)過(guò)所述蝕刻減薄裝置 的透明導(dǎo)電膜玻璃是減薄至0.10毫米至0.25毫米厚度的玻璃。在本實(shí)用新型所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中，所述厚素玻璃是鈉鈣玻 璃或硼硅玻璃。
在本實(shí)用新型所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中，還包括對(duì)鍍膜裝置、蝕 刻保護(hù)裝置、蝕刻減薄裝置以及保護(hù)層去除裝置進(jìn)行控制的中央處理裝置。
實(shí)施本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，由于將鍍膜前置，以及鍍 膜后直接減薄，因此具有以下有益效果
(1) 傳統(tǒng)超薄素玻璃(0.25毫米以下)加工工藝復(fù)雜，價(jià)格昂貴，本實(shí) 用新型采用價(jià)格較低的厚玻璃(0.4毫米以上)作為基礎(chǔ)進(jìn)行鍍膜加工，再減 薄到0.25毫米以下，降低了原料成本；
(2) 玻璃基板先鍍膜加工再進(jìn)行化學(xué)蝕刻，因此鍍膜基板厚度可以達(dá)到 0.4毫米以上，可以避免鍍膜中玻璃破損，提高產(chǎn)品良率；
(3) 可直接采用目前廣泛使用的平板顯示器用透明導(dǎo)電膜玻璃真空鍍膜
生產(chǎn)線或其設(shè)備，設(shè)備無(wú)須新的投資，或投資較少，也具有技術(shù)可靠、良品率 高，因而生產(chǎn)成本低。


下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，附圖中 圖1是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)的方框圖； 圖2是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中真空吸盤保護(hù)裝置的結(jié)構(gòu) 示意圖3是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中噴淋蝕刻裝置的減薄示意
圖4為本實(shí)用新型待減薄透明導(dǎo)電膜玻璃的剖面示意圖； 圖5是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)的工作過(guò)程示意圖。 附圖標(biāo)記統(tǒng)一說(shuō)明如下
l一平板玻璃 2—透明導(dǎo)電膜 3—化學(xué)防蝕刻保護(hù)層4一玻璃基板減薄部分 21—真空吸盤 22—傳輸輥23—導(dǎo)向滑輪 24—平板玻璃
25—閥門 26—抽氣孔道具體實(shí)施方式
圖1是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)的方框圖。如圖1所示，本系 統(tǒng)包括用于對(duì)進(jìn)入的厚素玻璃的一面鍍以透明導(dǎo)電膜的鍍膜裝置11;對(duì)鍍 透明導(dǎo)電膜玻璃的鍍膜面進(jìn)行化學(xué)蝕刻保護(hù)的蝕刻保護(hù)裝置12;用于對(duì)蝕刻 保護(hù)裝置饋送來(lái)的玻璃的另一面進(jìn)行蝕刻減薄的蝕刻減薄裝置13，以及用于 去除經(jīng)過(guò)蝕刻減薄的玻璃的保護(hù)層的保護(hù)層去除裝置14，此外，還包括協(xié)調(diào) 控制上述各裝置運(yùn)作的中央控制裝置10。
在圖示實(shí)施例中厚素玻璃進(jìn)入到鍍膜裝置11中，在一面上鍍以透明導(dǎo)電 膜；鍍膜后的玻璃隨后進(jìn)入蝕刻保護(hù)裝置11中對(duì)其鍍膜面進(jìn)行蝕刻保護(hù)，經(jīng) 保護(hù)的玻璃隨后進(jìn)入到蝕刻減薄裝置12，在該裝置中對(duì)該片玻璃的非鍍膜面 進(jìn)行蝕刻減??；最后蝕刻減薄裝置將減薄后的玻璃饋送至保護(hù)層去除裝置14 以去除其鍍膜面的蝕刻保護(hù)層，最終制得所需薄透明導(dǎo)電玻璃。 在本實(shí)用新型的具體實(shí)施例中，所述蝕刻保護(hù)裝置12可以采用真空吸盤保護(hù) 裝置，其具體結(jié)構(gòu)如圖2和圖3所示，包括真空吸盤21、傳輸輥22、導(dǎo)向 滑輪23、閥門25以及抽氣孔道26。除了在真空吸盤21內(nèi)部設(shè)有密閉的抽氣 孔道26，還設(shè)有與所述抽氣孔道26相通的真空緩沖腔體27，通過(guò)抽氣孔道 26與真空緩沖腔體27形成的密閉腔室，在與外接真空泵源斷開情況下維持真 空吸盤21與平板玻璃24之間的真空度在整個(gè)減薄蝕刻流程中吸附住平板玻璃 24。這樣，平板玻璃24可通過(guò)真空吸盤21進(jìn)行吸附，同時(shí)該真空吸盤21能 夠密封地全面覆蓋平板玻璃的鍍膜面，通過(guò)該密封面吸附住平板玻璃，實(shí)現(xiàn)對(duì) 鍍膜面的保護(hù)。
具體吸附流程如下將平板玻璃鍍膜面貼附于真空吸盤21上，隨即開啟 閥門25并通過(guò)抽氣孔道26將真空吸盤21內(nèi)的空氣抽出，直至接近真空狀態(tài); 關(guān)閉閥門25并切斷真空泵，通過(guò)真空吸盤21將平板玻璃24固定在傳送裝置 上進(jìn)入噴淋蝕刻裝置進(jìn)行減?。黄渲?，所述傳送裝置通過(guò)設(shè)置于真空吸盤保護(hù)
7裝置上方以及下方的導(dǎo)向滑輪23和傳輸輥22使得平板玻璃能夠在噴淋蝕刻裝
置內(nèi)進(jìn)行移動(dòng)。
減薄結(jié)束后，玻璃被送入與該真空吸盤保護(hù)裝置相對(duì)應(yīng)的保護(hù)層去除裝置 中，將閥門開啟，恢復(fù)真空吸盤內(nèi)的正常氣壓，即可將平板玻璃卸下，從而完 成該保護(hù)層的去除操作。
圖3是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)中噴淋蝕刻裝置的減薄示意 圖。如圖3所示，平板玻璃32位于真空吸盤保護(hù)裝置31上接受噴淋設(shè)備30 對(duì)其進(jìn)行的噴淋減薄操作。本實(shí)用新型的噴淋蝕刻裝置，在實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電膜玻 璃鍍膜面密閉固定的同時(shí)，可借助真空吸盤底部的傳輸輥22和頂部的導(dǎo)向滑 輪23在特定傳送裝置上穩(wěn)定傳輸，此方法使得透明導(dǎo)電膜玻璃的減薄面在運(yùn) 動(dòng)過(guò)程中與噴淋蝕刻裝置噴射出的化學(xué)藥液均勻接觸，通過(guò)藥液的沖刷作用及 時(shí)清除掉玻璃表面化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生的反應(yīng)產(chǎn)物，避免產(chǎn)物的附著和堆積，從而提 高了透明導(dǎo)電膜玻璃減薄面的表觀質(zhì)量和厚度均勻性。
圖4為本實(shí)用新型待減薄透明導(dǎo)電膜玻璃的剖面示意圖。如圖所示，平板 玻璃1上鍍有透明導(dǎo)電膜2，該平板玻璃需要進(jìn)行減薄的部分如圖中4所示， 為了保護(hù)鍍膜面免受蝕刻液侵蝕，故需要對(duì)透明導(dǎo)電膜2進(jìn)行保護(hù)，即為圖中 所示化學(xué)防蝕刻保護(hù)層3。在具體實(shí)施方式
中，該化學(xué)防蝕刻保護(hù)層3是在蝕 刻保護(hù)裝置中鍍上的保護(hù)膜，也可以為對(duì)透明導(dǎo)電膜2進(jìn)行固定并保護(hù)的真空 吸盤保護(hù)裝置。
圖5是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)的工作過(guò)程示意圖。如圖5 所示，在框501中，采用厚度大于0.3毫米的厚素玻璃在鍍膜裝置中進(jìn)行透明 導(dǎo)電薄膜鍍膜，鍍膜方式可采用真空磁控濺射方法；在框502中，在蝕刻保護(hù) 裝置中對(duì)制得的透明導(dǎo)電膜玻璃的鍍膜面進(jìn)行化學(xué)蝕刻保護(hù)，保護(hù)方式可以是 很多種，在框503中，在蝕刻減薄裝置中對(duì)透明導(dǎo)電膜玻璃的非鍍膜面進(jìn)行化 學(xué)蝕刻減薄；在框504中，通過(guò)保護(hù)層去除裝置去除保護(hù)層，對(duì)透明導(dǎo)電膜玻 璃進(jìn)行清洗后便可制得厚度小于0.3毫米的超薄透明導(dǎo)電膜玻璃。
上面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行了描述，但本實(shí)用新型并不局限 于上述的具體實(shí)施方式
，上述具體實(shí)施方式
僅僅是示意性的，而非限制性的，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本實(shí)用新型的啟示下，在不脫離本實(shí)用新型宗旨和權(quán) 利要求所保護(hù)的范圍情況下，還可做出很多形式，這些均屬于本實(shí)用新型的保 護(hù)范圍。
權(quán)利要求1、一種透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，其特征在于，包括用于對(duì)進(jìn)入的厚素玻璃的一面鍍以透明導(dǎo)電膜的鍍膜裝置(11)；對(duì)鍍透明導(dǎo)電膜玻璃的鍍膜面進(jìn)行化學(xué)蝕刻保護(hù)的蝕刻保護(hù)裝置(12)；用于對(duì)蝕刻保護(hù)裝置饋送來(lái)的玻璃的另一面進(jìn)行蝕刻減薄的蝕刻減薄裝置(13)，以及用于去除經(jīng)過(guò)蝕刻減薄的玻璃的保護(hù)層的保護(hù)層去除裝置(14)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，其特征在于，所述 蝕刻保護(hù)裝置(12)為真空吸盤保護(hù)裝置。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，其特征在于，所述 真空吸盤保護(hù)裝置包括密封并全面覆蓋平板玻璃(24)導(dǎo)電膜面并將平板玻璃(24)吸附住的真空吸盤(21);在真空吸盤(21)內(nèi)部設(shè)有密閉的抽氣孔道 (26)以及與所述抽氣孔道(26)相通的真空緩沖腔體(27)，通過(guò)抽氣孔道 (26)與真空緩沖腔體(27)形成的密閉腔室，在與外接真空泵源斷開情況下維持真空吸盤(21)與平板玻璃(24)之間的真空度在整個(gè)減薄蝕刻流程中吸附住平板玻璃(24)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，其特征在于，還包 括設(shè)置在真空吸盤(21)底部的傳輸輥22和設(shè)置在真空吸盤(21)頂部的導(dǎo) 向滑輪23。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1-4中任何一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，其特 征在于，送入所述鍍膜裝置(11)中的厚素玻璃是0.4毫米至1.1毫米厚度的 玻璃。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1-4中任何一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，其特 征在于，經(jīng)過(guò)所述蝕刻減薄裝置(13)的透明導(dǎo)電膜玻璃是減薄至0.10毫米 至0.25毫米厚度的玻璃。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，其特征 在于，所述厚素玻璃是鈉鈣玻璃或硼硅玻璃。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，其特征在于，還包括對(duì)鍍膜裝置(11)、蝕刻保護(hù)裝置(12)、蝕刻減薄裝置(13)以及保護(hù)層去除裝置(14)進(jìn)行控制的中央處理裝置(10)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及透明導(dǎo)電膜玻璃制作系統(tǒng)，包括用于對(duì)進(jìn)入的厚素玻璃的一面鍍以透明導(dǎo)電膜的鍍膜裝置；對(duì)鍍透明導(dǎo)電膜玻璃的鍍膜面進(jìn)行化學(xué)蝕刻保護(hù)的蝕刻保護(hù)裝置；用于對(duì)蝕刻保護(hù)裝置饋送來(lái)的玻璃的另一面進(jìn)行蝕刻減薄的蝕刻減薄裝置，以及用于去除經(jīng)過(guò)蝕刻減薄的玻璃的保護(hù)層的保護(hù)層去除裝置。利用本實(shí)用新型提供的制作系統(tǒng)，可以采用目前廣泛使用的平板顯示器用透明導(dǎo)電膜玻璃真空鍍膜生產(chǎn)線，并以價(jià)格較低的厚度大于0.4毫米的普通素玻璃作為制造超薄透明導(dǎo)電膜玻璃的原料，具有工藝簡(jiǎn)單、設(shè)備便宜、技術(shù)可靠、玻璃不易破裂、良品率高及運(yùn)行成本低的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C03C17/00GK201362648SQ200920129450
公開日2009年12月16日 申請(qǐng)日期2009年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月16日
發(fā)明者劉志斌, 莉 張, 弼 金 申請(qǐng)人:中國(guó)南玻集團(tuán)股份有限公司