專利名稱：濕壓磁瓦磁場(chǎng)成型下凸模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及永磁鐵氧體異方濕壓磁瓦磁場(chǎng)成型模具，具體涉及濕壓磁瓦磁場(chǎng)成 型下凸模。
背景技術(shù)：
目前，濕壓模具下凸模工作面為在強(qiáng)導(dǎo)磁材料上鑲嵌或堆焊(氬弧焊)弱導(dǎo)磁材料 的復(fù)合結(jié)構(gòu)，而弱導(dǎo)磁材料則以強(qiáng)導(dǎo)磁材料基體的弧面為基面鑲嵌或堆焊，這種結(jié)構(gòu)在 磁瓦生產(chǎn)中有如下缺陷磁瓦在成型壓制時(shí)，壓坯(生坯)的軸向端面與弧面的交界處 成型磁場(chǎng)較大，壓坯經(jīng)燒結(jié)其軸向端面和倒角面容易產(chǎn)生開裂、分層等不良缺陷，特別
是下凸模帶較大倒角(1-3mm)，其壓坯經(jīng)燒結(jié)后開裂、分層更為嚴(yán)重。 發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有下凸模成型后的磁瓦壓坯經(jīng)燒結(jié)后開裂問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種新 型濕壓磁瓦磁場(chǎng)成型下凸模。
具體的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方案如下濕壓磁瓦磁場(chǎng)成型下凸模包括基體和工作面，基體頂部上凸的弧面為工作面，工作
面上設(shè)有弱導(dǎo)磁材料層；
所述基體上凸弧面軸向兩側(cè)分別設(shè)有內(nèi)凹槽，所述工作面的弱導(dǎo)磁材料層兩側(cè)分別 延伸至基體兩側(cè)的內(nèi)凹槽中。
本實(shí)用新型工作面的鑲嵌或堆焊的弱導(dǎo)磁材料層兩側(cè)分別延伸至基體兩側(cè)的內(nèi)凹 槽中，改善了下凸模基體軸端面與弧面交界處(壓坯倒角面)的成型磁場(chǎng)，進(jìn)而使下凸 模工作面周邊的磁通氣隙分布更為合理，提高成型磁場(chǎng)分布的合理性，從而解決壓坯， 特別是下凸模帶較大倒角的壓坯的軸向端面以及軸向端面與弧面交界處因應(yīng)力不均，燒 結(jié)后分層和開裂等技術(shù)問(wèn)題，提高磁瓦成品的合格率，降低生產(chǎn)成本。


圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖，
圖2為圖1的A-A剖視圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖，通過(guò)實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一歩地說(shuō)明。
參見(jiàn)圖1和圖2，濕壓磁瓦磁場(chǎng)成型下凸模包括基體1和工作面，基體頂部上凸的
弧面為工作面，工作面上鑲嵌或堆焊有弱導(dǎo)磁材料層2;
基體上凸弧面軸向兩側(cè)分別設(shè)有內(nèi)凹槽，鑲嵌或堆焊的弱導(dǎo)磁材料層2兩側(cè)分別延 伸至基體兩側(cè)的內(nèi)凹槽中。
權(quán)利要求1、濕壓磁瓦磁場(chǎng)成型下凸模，包括基體和工作面，基體頂部上凸的弧面為工作面，工作面上設(shè)有弱導(dǎo)磁材料層，其特征在于所述基體上凸弧面軸向兩側(cè)分別設(shè)有內(nèi)凹槽，所述工作面的弱導(dǎo)磁材料層兩側(cè)分別延伸至基體兩側(cè)的內(nèi)凹槽中。
專利摘要本實(shí)用新型涉及永磁鐵氧體異方濕壓磁瓦磁場(chǎng)成型模具，具體涉及濕壓磁瓦磁場(chǎng)成型下凸模。解決了現(xiàn)有下凸模成型后的磁瓦壓坯經(jīng)燒結(jié)后開裂問(wèn)題。本實(shí)用新型包括基體和工作面，基體頂部上凸的弧面為工作面，工作面上設(shè)有弱導(dǎo)磁材料層；基體上凸弧面軸向兩側(cè)分別設(shè)有內(nèi)凹槽，所述工作面的弱導(dǎo)磁材料層兩側(cè)分別延伸至基體兩側(cè)的內(nèi)凹槽中。改善了下凸模基體軸端面與弧面交界處(壓坯倒角面)的成型磁場(chǎng)，進(jìn)而使下凸模工作面周邊的磁通氣隙分布更為合理，提高成型磁場(chǎng)分布的合理性，從而解決壓坯，特別是下凸模帶較大倒角的壓坯的軸向端面以及軸向端面與弧面交界處因應(yīng)力不均，燒結(jié)后分層和開裂等技術(shù)問(wèn)題，提高磁瓦成品的合格率，降低生產(chǎn)成本。
文檔編號(hào)B28B3/00GK201329610SQ200920142650
公開日2009年10月21日 申請(qǐng)日期2009年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月9日
發(fā)明者志 劉, 唐寶剛, 姚志勝, 王先靈, 胡治中 申請(qǐng)人:安徽龍磁科技股份有限公司