專利名稱：標(biāo)記涂覆的眼科基材的方法和設(shè)備的制作方法
標(biāo)記涂覆的眼科基材的方法和設(shè)備
背景技術(shù)：
1.發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及眼科基材或毛坯透鏡(blank lenses)的標(biāo)記，其為了鑒別廠家、來源、 特性或最終鏡片的校準(zhǔn)。此類標(biāo)記也被稱為"花押(monogramming)“。更具體地說，本發(fā)明涉及在涂層眼科鏡片上做標(biāo)記的方法，具體地說，在具有一個以上更具有導(dǎo)電層的涂層眼科基材或空白鏡片上做標(biāo)記的方法，所述導(dǎo)電層諸如用來賦予抗靜電的性能。2.現(xiàn)有技術(shù)的描述?，F(xiàn)有技術(shù)中有多種給鏡片做標(biāo)記的方法。一些包括了選擇性地除去和/或覆蓋鏡片材料，即通過機械雕刻和化學(xué)蝕刻以及通過激光手段，尤其是受激準(zhǔn)分子激光器 (excimer laser)。這種標(biāo)記一般在有或者沒有特殊光照的條件下能被肉眼看到，因此眼鏡佩戴者對其表示反感。其它種類的標(biāo)記一般看不見，但是鏡片有霧時可以看到，實際上，可以通過對鏡片哈氣產(chǎn)生薄冷凝層來看到標(biāo)記。這種方法主要是改變鏡片的表面特征。有些已知的涂層具有較高的表面能量，如抗反射涂層。其它，諸如外涂層，其用作抗模糊或者抗污垢涂層來避免油脂或者油污和污點聚集在低表面能量的鏡片上。該抗反射和外涂層通常通過在電子束或電子光束(e-beam)蒸發(fā)器中的真空沉積來施加，其又名盒子施涂器(box coater)?？狗瓷渫繉拥母鲗邮枪鈱W(xué)層，其通過下列技術(shù)之一在真空下進行沉積i)蒸發(fā)，優(yōu)選離子輔助的沉積或IAD蒸發(fā)，ii)離子束濺射，iii)磁控濺射，和iv)等離子輔助的蒸氣化學(xué)沉積。 一般，將高或低表面能量的材料進行選擇性的物理或化學(xué)改性，并去除，以得到希望形狀的標(biāo)記或者標(biāo)志。霧化暴露出成為淺色小液滴的表面能量低的部分，而表面能量高的部分為深色的較大液滴或冷凝液膜。美國專利號6，281，468屬于本申請申請人，其內(nèi)容在此全文引入作為參考，其公開了在低表面能的鏡片表面提供高表面能標(biāo)記的方法，其通過霧化而可見。表面激勵方法使用了表面激勵源，并優(yōu)選是電暈放電源，其指的是，將掩模施涂到要標(biāo)記的鏡片表面，該掩模定義了相應(yīng)所需標(biāo)記區(qū)域，并插入到表面激勵源和要標(biāo)記的鏡片表面之間，電暈放電提高了要標(biāo)記表面的表面能，使得通過霧化或煙霧能讓得到的標(biāo)記可見。一般地，要標(biāo)記的面層外涂層或透鏡毛坯或基材的表面具有低的表面能，諸如由疏水和/或疏油的抗模糊外涂層所定義的，諸如本申請申請人的CRIZAL 外涂層。低表面能外涂層，例如，在鏡片的正凸面來提供。透鏡毛坯本體材料可以是任何合適的有機玻璃，例如硬質(zhì)樹脂，尤其是聚碳酸酯或烯丙基二乙二醇碳酸酯，諸如雙烯丙基二乙二醇碳酸酯的共聚物，其以商標(biāo)CR39 出售，來自PPG公司，以及無機玻璃。一般地，抗沖擊涂層 (或抗沖擊底漆)和高表面能硬涂層被連續(xù)施涂，來保護主體材料不受沖擊、磨蝕或劃痕的影響，正如本身已知的。高表面能抗反射或抗反射涂層被施涂到硬涂層上，正如本身已知的。電暈放電導(dǎo)致了電子雪崩(electron avalanching)。得到的高能量電荷能夠斷裂分子鍵，例如疏水性外涂層的分子鍵，來增加材料的表面能，或者選擇性地貫穿掩模中的切口來碎裂涂層，在該情況下，其暴露了底下的較高表面能的涂層或者主體材料。該掩?？梢允侨嵝云聊坏囊徊糠?，例如，Mylar 薄膜，其對表面激勵電荷是無法穿透的，并具有相應(yīng)于想要標(biāo)記的切口或者切口們。當(dāng)鏡片被壓在拉緊夾持的屏幕上時，屏幕的掩模部分與透鏡毛坯表面緊密配合，尤其是要標(biāo)記的凸面。備選地，掩?？砂ㄓ湍谀?，其印在要標(biāo)記的透鏡毛坯表面上。掩模對表面激勵電荷是無法穿透的。在處理后，在鏡片上的油墨掩模被除去，例如用合適的溶劑。當(dāng)優(yōu)選電暈放電源的同時，也可考慮其它公開的激勵源，諸如紫外線輻射源，輝光放電源(glow discharge)或低溫等離子體源。此類方法已經(jīng)在工業(yè)上應(yīng)用，并取得了良好結(jié)果。透鏡毛坯裁邊通常在磨床上進行。在夾具的夾頭之間，將鏡片軸向進行夾持。在透鏡毛坯的凸面和夾頭之間放置一個雙面粘合片，并將彈性墊片插入到凸面夾頭和透鏡毛坯的凹面之間。在裁邊過程中，如果透鏡毛坯在夾具中并未適當(dāng)?shù)貖A持在夾頭之間，切向切割力會使得透鏡毛坯相對于夾頭軸線產(chǎn)生中心偏離，從而導(dǎo)致不正確裁邊的鏡片的廢棄。疏水和/或疏油的抗模糊或防污涂層，一般地，氟硅烷型涂層，具有如此有效，使得那些在雙面粘合片和鏡片凸面之間的界面的粘合被損害，導(dǎo)致了鏡片的中心偏離，尤其當(dāng)裁邊需要高轉(zhuǎn)矩的聚碳酸酯鏡片時，并導(dǎo)致未正確裁邊的鏡片的廢棄。美國專利申請2006/0051501屬于本申請人的申請，其在此引入作為參考，公開了以臨時保護層形式的粘附表面，其施涂到抗模糊外涂層上，來賦予透鏡毛坯外表面以高表面能來允許透鏡毛坯的裁邊不會有任何中心偏離問題。該臨時保護層優(yōu)選是礦物層，更特別地是如下物質(zhì)的層，金屬氟化物，金屬氟化物混合物，金屬氧化物或金屬氧化物的混合物，例如氟化鎂(MgF2),氟化鑭(LaF3),氟化鋁(AlF3)或氟化鈰(CeF3)，氧化鋁和氧化鐠的混合物。此類保護層可以由任何常規(guī)方法來進行沉積，優(yōu)選由盒子施涂器中的真空沉積來進行，正如對于疏水和/或疏油的抗反射涂層和抗模糊涂層。此類保護層通常為約5nm和10微米之間厚，當(dāng)通過蒸氣沉積時，優(yōu)選從5到200nm 厚。此類臨時層太厚，以至于不允許通過臨時層來進行外涂層的電暈放電處理。根據(jù)U. S.專利公開2006/0051501公開的方法，臨時保護涂層被制成低于約5nm 厚度，優(yōu)選2到4nm厚度，更優(yōu)選低于2nm厚度，所以透鏡毛坯的電暈放電處理能夠在臨時保護層施涂后進行，臨時保護層涂覆在外涂層上，而不需要從盒子施涂器中移出透鏡毛坯來進行電暈放電處理然后再將其送回盒子施涂器。此類臨時保護層可以在鏡片裁邊后被除去，其通過用合適布料進行干燥擦拭，或者通過酸性溶液或超聲波。已知的是，眼鏡片用的眼科基材和透鏡毛坯具有沾染靜電荷的傾向，特別是當(dāng)用合適布料或者類似物的摩擦進行擦拭或者清潔并干燥時。當(dāng)眼科鏡片帶有靜電荷時，其具有傾向來吸引和吸附小顆粒，例如灰塵顆粒，其依附到鏡片上，只要鏡片保持有靜電荷。已知的是，在PCT申請W001/55752和PCT申請W02008/001011中，提供了抗靜電的涂層來散逸靜電荷，后者屬于本申請申請人，其內(nèi)容在此引入作為參考。正如在這些PCT申請中公開的，眼科鏡片被賦予了抗靜電性能，或者通過在抗反射層堆疊中引入至少一個導(dǎo)電層來引入抗靜電性。導(dǎo)電層可以位于任何位置，只要其不會影響抗反射特性。該導(dǎo)電層充分地薄，以免影響抗反射涂層的透明度，并且一般介于0. 1和150nm之間，或優(yōu)選在0. 1和50nm之間，取決于導(dǎo)電層的性能。導(dǎo)電層優(yōu)選是既導(dǎo)電又高度透明，無論在哪種情況下，該厚度變化優(yōu)選在0. 1和30nm之間，或者優(yōu)選在1和20nm，或更優(yōu)選在1 和IOnm之間。該導(dǎo)電性材料優(yōu)選是金屬氧化物從銦中挑選出來，錫和氧化鋅和它們的混合物。優(yōu)選氧化錫和銦氧化錫(In2O3 ;Sn)，其是錫摻雜的氧化銦。根據(jù)優(yōu)選的實施方案，導(dǎo)電性光學(xué)透明的層是銦摻雜的氧化錫，也稱為ΙΤ0。導(dǎo)電層一般促進了鏡片的抗反射性能，并包含抗反射涂層的高折射指數(shù)層。情況就是這樣，當(dāng)使用了高度透明的導(dǎo)電層或ITO層。備選地，導(dǎo)電層可以是非常薄的貴金屬層，一般地小于lnm，并且優(yōu)選小于0. 5nm。在優(yōu)選的實施方案中，抗反射涂層包括多個電介質(zhì)層和一種或多種導(dǎo)電層，其給予了鍍膜鏡片以抗靜電性能。根據(jù)優(yōu)選的實施方案，提供一種帶有抗反射涂層的眼科透鏡毛坯或者基材，其為礦物或有機玻璃，諸如聚碳酸酯或雙烯丙基二乙二醇碳酸酯的共聚物，所述抗反射涂層包括厚度等于或大于75nm的SW2底層；一般具有10到40nm，優(yōu)選15到35nm厚度的第一高指數(shù)層^O2 ；—般具有40到150nm，優(yōu)選50到120nm厚度的第二高指數(shù)層TW2 ；以及一般具有10到30nm，優(yōu)選10到25nm厚度的第三高指數(shù)層^O2 ；和導(dǎo)電層，優(yōu)選第四高指數(shù)導(dǎo)電性ITO層，其一般具有0. 1到30歷，優(yōu)選1到20nm的厚度，SiO2Al2O3的第二低指數(shù)層， 其具有40到150nm，優(yōu)選50到IOOnm的厚度。在另一優(yōu)選實施方案中，抗反射堆疊中包括 Si02/Zr02/IT0 的導(dǎo)電層。在特別優(yōu)選的實施方案中，本體基材具有抗反射涂層，其包括如下順序的沉積具有大于或等于120nm厚度的SW2底層，具有20到30nm厚度的^O2高指數(shù)層，20-30nm厚度的低指數(shù)SiO2Al2O3層，75到105nm厚度的高指數(shù)TW2層，10-20nm厚度的^O2高指數(shù)層，2到20nm厚度的高指數(shù)導(dǎo)電性ITO層，以及60-90nm厚度的低指數(shù)SiO2Al2O3層。同時，在眼科基材或透鏡毛坯的主體進行層的沉積之前，在真空中，用能量種，例如離子束，的離子轟擊來處理眼科基材，更經(jīng)常被稱為離子預(yù)清潔或者IPC(ion pre-cleaning)。此類離子預(yù)清潔保證了基材表面得到最佳清潔。底層和抗反射涂層的各層優(yōu)選在真空中，通過上述列舉的技術(shù)之一進行沉積。導(dǎo)電層可以由任何合適的技術(shù)進行沉積，例如真空下蒸發(fā)，優(yōu)選離子輔助的沉積或磁控濺射或離子束沉積。正如所指出的那樣，底涂層可以是直接沉積在基材材料上，但是在某些應(yīng)用場合， 優(yōu)選將基材的主要表面按順序涂上抗磨蝕和/或抗劃痕層、抗沖擊主要層，或者抗沖擊主要層和抗磨蝕和/或抗劃痕層?？箾_擊主要層和抗磨蝕或抗劃痕層一般通過本領(lǐng)域公知的浸漬涂敷或旋涂技術(shù)進行施涂(參見Wiysical film formation, C. Jeffrey Brinker 禾口 George W. Scherer, The Physics and Chemistry of Sol-Gel Processing. Academic Press,788-789 和 795-797 頁)。也可使用其它普通的層或涂層。底層和抗反射光優(yōu)選沉積在抗磨蝕和/或抗劃痕涂層上?？鼓ノg和/或抗劃痕層可以任何在眼科鏡片領(lǐng)域通常用作抗磨蝕和/或抗劃痕涂層的層。磨蝕和/或抗劃痕涂層是硬質(zhì)涂層，優(yōu)選是聚(甲基)丙烯酸酯或硅烷型硬質(zhì)涂層。
該抗磨蝕和/或抗劃痕硬涂層優(yōu)選由如下組合物制備，所述組合物含有至少一種 alcosilane和/或alcosilane水解產(chǎn)物，例如其由氫氯酸溶液的水解提供。在推薦的涂層之中，是歐洲專利申請No. 0614957，美國專利號4，211，823和 5，015，523中公開的環(huán)氧基硅烷水解產(chǎn)物。其它優(yōu)選的抗磨蝕和/或抗劃痕組合物優(yōu)選是，本申請人的法國專利申請 2702486公開的那個。所述眼科鏡片優(yōu)選在反射光涂層頂部形成的涂層，其適合來改性鏡片的表面性能，并具體地說是疏水和/或疏油的抗模糊或防污外涂層，其一般通過物理蒸汽沉積(PVD) 在抗反射涂層上進行沉積，一般具有小于或等于IOnm的厚度，優(yōu)選從1到lOnm，更優(yōu)選在1 禾口 5nm之間。一般地，該外涂層是氟化硅烷或者氟化硅氮烷類型。它們可以通過優(yōu)選每分子包含至少兩個水可溶性基團的氟化硅烷或氟化硅氮烷前體來進行沉積。氟化硅烷前體優(yōu)選含有氟化聚醚，并優(yōu)選氟化聚醚基團。此類氟化硅烷是公知的，尤其在美國專利5，081，192， 5，763，061，6，183，872，5，739，639，5，922，787，6，337，235，6，277，485，和歐洲專利申請 0933377中公開?！愕?，所述鏡片將具有涂覆后的基材，所述基材按順序涂覆有抗沖擊主要層，抗磨蝕和/或抗劃痕層或硬質(zhì)涂層，底層，抗反射涂層和疏水和/或疏油抗模糊或防污涂層。沉積工藝過程可包括如下步驟，將眼科基材或透鏡毛坯放入硬質(zhì)-涂漆機來進行加工，通過本領(lǐng)域熟知的浸漬涂敷或旋涂來施涂抗沖擊主要層和抗磨蝕和/或抗劃痕層， 或者硬質(zhì)涂層。其后，將眼科基材放入真空沉積室或盒內(nèi)，將盒抽真空到約2X10_5毫巴的壓力，在該壓力下離子預(yù)清潔透鏡毛坯，并沉積上SiA或任選的SiO2AI2O3的低指數(shù)底層， 和抗反射涂層，其包括沉積上^o2的第一高指數(shù)層，例如以0. 3nm/s的速率，沉積上SW2或 SiO2Al2O3的第一低指數(shù)層，例如以0. 7nm/s的速率，在1 X 10_4毫巴壓力下，通過氧離子輔助來沉積上TW2的第二高指數(shù)層，以0. 3到0. 5nm/s的速率，沉積上^O2第三高指數(shù)層，例如以0. 3nm/s的速率，通過相應(yīng)的氧離子輔助，在2. 5A和120V條件下，沉積上ITO導(dǎo)電性高指數(shù)層，例如以0. 3到0. 5nm/s的速率，沉積上SW2或SiO2Al2O3的第二低指數(shù)層，例如以 lnm/s的速率，并沉積上抗模糊或防污外涂層，并且在將涂覆鏡片或其它涂覆基材或透鏡毛坯從盒子中移出之前，將盒子進行通風(fēng)。在美國專利號6，281, 468和美國專利公開2006/0051501中公開的方法和裝置已經(jīng)用于標(biāo)記具有各種硬質(zhì)涂層、抗反射涂層和外涂層的眼科鏡片和其它光學(xué)制品，并已取得成功。當(dāng)涂層包括了導(dǎo)電層，諸如在導(dǎo)電層用于給予鏡片改進的抗靜電性能的情況下，使用此類方法和裝置就出現(xiàn)了問題。發(fā)明_既述本申請人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，當(dāng)電暈放電用于選擇性地從具有導(dǎo)電層的透鏡毛坯中除去抗模糊或防污外涂層或其它低能量涂層時，導(dǎo)電層對電暈放電相互作用，并因此干擾電暈放電的"刻蝕"效果，導(dǎo)致對鏡片的不令人滿意的標(biāo)記。本發(fā)明的一目的是，提供選擇性去除鏡片外表面的方法和裝置，以界定通過霧化或下霧而變得可見的標(biāo)記，該標(biāo)記可以用于具有一個或多個導(dǎo)電層例如用于改進的抗靜電性能的那些層的眼科基材或透鏡毛坯。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面提供了標(biāo)記眼科透鏡或其它光學(xué)制品的方法，其包括如下步驟-提供眼科基材或透鏡毛坯，其是具有相對光學(xué)表面的合適的有機或無機玻璃；-沉積多個層以界定在相對的光學(xué)表面中一個或兩個上的具有抗沖擊、抗劃痕、抗反射和/或抗模糊性能的涂層，所述層中至少一個是導(dǎo)電層；-提供掩模，該掩模界定與涂覆的眼科基材的表面之一的所需標(biāo)記互補的構(gòu)型，并將該掩模緊鄰所述眼科基材表面布置；和-提供離子體源并從所述離子體源將離子束引導(dǎo)至所述眼科基材的經(jīng)掩蔽表面以除去經(jīng)過所述掩模曝光的涂層中的最外一個層的至少一部分，從而在所述基材表面涂層上產(chǎn)生通過霧化而變得可見的所需標(biāo)記。沉積步驟可包括沉積多個高指數(shù)和低指數(shù)層，來界定抗反射涂層，其中導(dǎo)電層占一個或多個高指數(shù)層，并具有抗靜電性能。界定抗反射涂層的一個或多個高指數(shù)層的導(dǎo)電層是銦氧化錫(ITO)層。沉積步驟可包括沉積界定抗反射涂層的多個高指數(shù)和低指數(shù)層，其中高指數(shù)層全部都是導(dǎo)電層，并賦予眼科基材以抗靜電性能。 抗反射涂層可以由離子輔助的沉積來進行沉積。在涂層沉積之前，該眼科基材可以在真空室內(nèi)進行離子預(yù)清潔(IPC)，在真空盒內(nèi)，通過離子輔助的沉積將包括一個或者多個導(dǎo)電層的至少一些涂層沉積在離子預(yù)清潔的眼科基材上。待標(biāo)記的表面可以是涂覆的眼科基材的凸面，并且離子體源裝在真空室內(nèi)，面對圓盤傳送帶支撐體，來附隨著曝光多個安裝在該圓盤傳送帶支撐體上的經(jīng)涂覆眼科基材。該掩模可以是相對剛性的琴鍵式透鏡透明模板，其由離子束不穿透材料制造，其具有一個或多個對應(yīng)于所需標(biāo)記的切口來將經(jīng)涂覆的眼科基材的相應(yīng)部分暴露到離子束中，所述模板具有與待標(biāo)記的經(jīng)涂覆眼科基材凸面的基礎(chǔ)曲率相匹配的背面曲率。所有具有相同背面曲率的多個眼科基材可以接受相應(yīng)的剛性琴鍵式透鏡模板，所述模板具有一個或多個對應(yīng)于所需標(biāo)記的切口，并具有與經(jīng)涂覆的眼科基材的凸面的基礎(chǔ)曲率相匹配的背面曲率，所述經(jīng)涂覆的眼科基材待用來自離子體源的離子束處理。待標(biāo)記的多個眼科基材可以被成對安裝在圓盤傳送帶支撐體的開口中，或者用對應(yīng)的琴鍵式模板來夾持在一起，所述模板的凹面與待在該模板中的切口位置處標(biāo)記的眼科基材凸面呈緊密重疊關(guān)系，使得全部多個眼科基材均可用離子體源附隨著進行處理。掩?？梢詡溥x地是激光-蝕刻的"柔軟(soft)“或柔韌(flexible)聚碳酸酯模板，其具有一個或多個對應(yīng)于所需標(biāo)記的切口，使得模板背側(cè)面可以校準(zhǔn)，并與待標(biāo)記的具有給定范圍的不同的基礎(chǔ)曲率的眼科基材凸面緊密接觸。備選地，掩?？梢杂山饘俨瞥?，在其中具有一個或多個切口并包裹在眼科基材 (例如，具有定制構(gòu)型的種類)的凸面上，以用離子體源的離子束進行處理。該掩模還可以由塑料膜制成，該塑料膜被施加到眼科基材凸面并適用于保護眼科基材被掩蓋部分不受離子束照射，諸如可得自DuPont的Kapton 聚酰亞胺膜，尤其是Kapton CR聚酰亞胺膜。離子體源放電工作參數(shù)對應(yīng)于用于光學(xué)制品的離子預(yù)清潔(IPC)的離子體源的工作參數(shù)。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，本發(fā)明提供了一種標(biāo)記透鏡毛坯或其它眼科基材的裝置，其包括真空盒、裝在真空盒中的離子體源，所述離子體源可操作用來在涂覆之前預(yù)清潔眼科基材，掩模，其具有一個或多個對應(yīng)于待在經(jīng)涂覆眼科基材上產(chǎn)生的所需標(biāo)記，所述一個或多個切口適合于與待用所述掩模的切口部分標(biāo)記的經(jīng)涂覆眼科制品的表面緊鄰布置， 所述掩模的切口部分與所述待標(biāo)記的眼科基材的經(jīng)涂覆表面呈緊密重疊關(guān)系，用于將具有掩模的眼科基材裝在真空盒內(nèi)的支撐體，所述真空盒面對離子體源的離子放電，離子體源， 其提供一個或多個脈沖以穿過所述掩模上中的切口來除去眼科基材最外面涂層的至少一部分，而產(chǎn)生通過霧化而變得可見的所需標(biāo)記。該方法可以進一步包括除了上述涂層之外還沉積臨時性保護層用于提高眼科表面的表面能以便于裁邊。在該情況下，在用離子束轟擊之前，選擇性地除去所述臨時性保護膜的合適區(qū)域，使得離子束穿過掩模中的切口到達最外面涂層，以改性最外面涂層的表面能。該臨時性保護層的選擇性去除可通過自動的或者人工控制的旋轉(zhuǎn)刷涂或拋光，或者甚至通過超聲波的手段來進行。本發(fā)明的這些以及其它特征優(yōu)點將通過本發(fā)明的實施方案的下列描述來進行說明，這些實施方案將以對照附圖的實施例給出。


圖1是具有通過霧化而可見的標(biāo)記的眼科基材或透鏡毛坯的前視圖；圖2顯示了眼科基材的側(cè)視的放大和分解圖，來說明在待用離子體源標(biāo)記的眼科基材的凸面上各種涂層的實例；圖3是用固定環(huán)夾持在一起的眼科基材和界定掩模的模板的透視圖；圖4是眼科基材與模板彼此軸向間隔的透視圖；圖5是圓頂圓盤傳送帶支撐體的透視圖，其帶有各自接納夾持在一起的基材和掩模模板的開口；圖6是具有印制的切口并包裹在經(jīng)涂覆透鏡毛坯凸面上的箔掩模的實施方案的前視圖；圖7是圖6實施方案的剖視圖；圖8是裝有離子體源來"蝕刻"或標(biāo)記根據(jù)本發(fā)明的具有一個或多個導(dǎo)電層的經(jīng)涂覆眼科基材的真空室或真空盒的示意圖；和圖9是離子槍，尤其是末端Hall (end-Hall)離子槍的操作的示意圖示，其用來對根據(jù)本發(fā)明的經(jīng)涂覆眼科基材進行"蝕刻"或者標(biāo)記。本發(fā)明實施方案的詳細(xì)說明圖1和2顯示了涂層眼科或透鏡毛坯10，其由有機玻璃制成，諸如聚碳酸酯或雙烯丙基二乙二醇碳酸酯的共聚物，例如可從本申請人處購得的ORMA 透鏡毛坯，或者由無機玻璃制成，所述毛坯具有至少一種涂層20，在實際上，其為多個層，諸如由實施例所顯示的，具體地說，一個抗沖擊層或者硬質(zhì)涂層21，一個抗劃痕或抗刮痕，和/或抗磨蝕涂層 22A，和一個SW2底涂層22B，一個抗反射涂層23，其包含例如六個層，包括高指數(shù)層23. 1H， 23. 2H，23. 3H，23. 4H和低指數(shù)層23. 11，23. 21和一個抗模糊或防污頂涂層24。涂層的一個或多個是由導(dǎo)電性材料制成。在當(dāng)前實施方案中，一個或多個抗反射涂層的抗反射層是由導(dǎo)電性材料制成，尤其是抗反射層23的一個或多個高指數(shù)層23. 1H，23. 2H，23. 3H，23. 4H。 正如實施例所顯示的，抗反射涂層按順序從底層開始，包括下列高和低的涂層，第一高指數(shù)層23. 1H，第一低指數(shù)層23. 11，第二高指數(shù)層23. 2H，第三高指數(shù)層23. 3H，第四高指數(shù)層 23. 4H和第二低指數(shù)層23. 2L，第四高指數(shù)層2. 34H是一個導(dǎo)電層。所述高和低的層的組成和厚度的實例如上所述。導(dǎo)電層優(yōu)選是由銦摻雜的氧化錫(ITO)來制成，正如本領(lǐng)域所公知的，或者備選地，由貴金屬來制成。此類導(dǎo)電層的厚度，當(dāng)用ITO制成時，為約Inm到約 20nmo在涂覆眼科毛坯之前，優(yōu)選將其在真空盒或者真空室內(nèi)進行離子預(yù)清潔(IPC)，使用末端Hall離子槍，來確保表面或者要涂覆的表面得到最佳清潔，使得涂層可以在最佳條件下沉積?？箾_擊層或硬質(zhì)涂層21，抗劃痕或抗刮痕，和/或抗磨蝕涂層22A可以通過浸漬涂敷或旋涂進行施涂。通過任意本領(lǐng)域已知的常規(guī)沉積來將任選的底層和抗反射涂層沉積在眼科基材的一面或者兩面上。備選地，在轉(zhuǎn)印片上制備所述涂層的堆疊，然后轉(zhuǎn)移到眼科基材的一個表面上，如美國專利號6，562，466所公開的，其在此引入作為參考。除了確定為永久施涂在眼科基材上的涂層之外，可使用臨時保護層25來確保在鏡片和夾具或夾頭之間的依附，以便于在基材根據(jù)給定眼鏡框架的裁邊過程中，防止基材相對于夾具軸心的中心偏離，正如美國專利公開2006/0051501所公開的。該保護層具有合適的厚度，來確保對正底下的涂層的保護，在該情況下為頂部涂層對。應(yīng)指出，此類臨時保護層25是任選的，并在如下情況時是可以去除的，最外面涂層，例如頂部涂層24，與夾具的保持墊片的粘附足夠強來防止基材不可接受的中心偏離或者基材相對于夾具的角度運動。為了在眼科基材10的至少一個表面11，12上，在實踐中為凸面12，定義標(biāo)記，提供了離子束不可穿透的掩模30，其包括一個或者多個對應(yīng)于想要標(biāo)記的合適切口 33，所述切口可被離子槍產(chǎn)生的離子束穿透。基于該目的的掩模在美國專利號6，281, 468和美國專利公開2006/0051501中公開，并且可用于標(biāo)記本發(fā)明的眼科毛坯，但是優(yōu)選其它類型的掩模。具體地，在此公開的掩模可以獨立地進行定位并固定在各自的眼科基材上，并在用離子束"蝕刻"后除去。根據(jù)一個實施方案，該掩模30包括基本上剛性的琴鍵式透鏡模板31，其優(yōu)選由透明硬樹脂諸如PMMA制成，并具有凹面或背面32，其曲率基本上與待標(biāo)記的眼科基材10的正凸面12的基礎(chǔ)曲率相同?；牡幕A(chǔ)曲面是其標(biāo)稱球面。此類模板31可具有約2mm的厚度，來確保其相對剛度，并適合于大量制造，其中模板凹面對應(yīng)于一系列具有各種不同背面或凹面光學(xué)表面的眼科毛坯的凸面的共同基礎(chǔ)曲率。一種此類模板將被用于單視野鏡片 (single vision lenses)。但是需要另一模板來進一步添力口鏡片(progression addition lens, PAL)基材，其具有相同凸面基礎(chǔ)曲率，但是引入了給定的進一步添加。模板31相對于涂層透鏡毛坯10進行定位，模板的背凹面位32基本上與眼科基材的凸面12相配合，并通過切口或者C環(huán)40保持在所述位置。此類C環(huán)由適用于離子束環(huán)境的彈性材料制成，尤其是不銹鋼，其具有圓柱形壁41和從圓柱形壁一個邊緣內(nèi)部延展的第一邊或法蘭(flange) 42，以及從圓柱形壁41的相反邊緣向外延展的第二邊43。在其剩余位置，C環(huán)自由端45并不僅僅是圓周間隔，同時也軸向間隔。該C環(huán)具有形狀記憶，這允許其沿著在位于彼此上部的模板和涂層鏡片周邊"夾持(clamp)“自身。為了一起整齊剪
10切透鏡毛坯和模板，該環(huán)具有小于模板和透鏡毛坯直徑的直徑(一般地65mm)。模板31和毛坯被放入到被有彈性地擴大到較大直徑的C-環(huán)中，當(dāng)放開C-環(huán)時，其整齊地沿著模板和透鏡毛坯周邊來進行夾持，保持它們軸校準(zhǔn)，并且模板的切口部分定位在待標(biāo)記的凸面12 的位置上。透明的模板便利了模板切口相對于透鏡毛坯的良好定位。此類模板具有很長的使用壽命。由于模板32的凹面與基材10的凸面12的曲率匹配，以及在模板切口部分位置上的這些表面之間的緊密接觸，從而有可能避免任何最終標(biāo)記的"模糊"，否則其會升起，如果模板凹面比基材凸面的曲率更大。根據(jù)備選實施方案，該掩模包括具有降低厚度的高度柔韌的凹凸模板，約0.5mm 到1mm，由更柔韌的透明材料制成，諸如聚碳酸酯，并且可變形來允許模板的凹面基本上與具有一系列不同凸面基礎(chǔ)曲率的眼科毛坯的基本上配合良好。因此，具有不同但相似的凹面曲率或基礎(chǔ)曲線的相對少量模板可以適應(yīng)于相對大量的具有不同凸面基礎(chǔ)曲線或曲率的透鏡毛坯。此類模板將適用于Rx實驗室，其具有相對小的生產(chǎn)量。最后，模板和眼科毛坯可以被安裝在如上所述的C-環(huán)上，來相對定位，并用于后續(xù)固定在支持上，諸如圓盤傳送帶，以便用離子體源的離子束進行處理。在單視野眼科基材用的模板情況中，所述柔韌模板31的凹面32的曲率半徑被選擇為至少等于，或優(yōu)選大于要使用的基材凸面12的曲率半徑，使得切口部分位于中心區(qū)域但是輕微偏離模板的相應(yīng)表面的幾何中心，模板基本上與各基材相對凸面處于匹配接觸中，由此防止蝕刻的標(biāo)記發(fā)生"模糊"，其是由于通過模板和基材相對表面之間的間隔的離子束的光路擴散而引起的。此類模板將具有很長的使用壽命，雖然在安裝到要處理的透鏡毛坯上時，其要受到彎曲。在進一步添加鏡片的模板的情況中，模板的凹面曲率半徑將決定于緊密匹配的進一步添加的透鏡毛坯的凸面曲率半徑，在重疊表面之間應(yīng)具有最小可能的縫隙以避免蝕刻的標(biāo)記發(fā)生〃模糊〃。根據(jù)另一實施方案，如圖6所示，掩模包括由金屬箔制成的掩模35，諸如錫紙，其當(dāng)然是離子束不可穿透的。其切口部分33可通過印制或沖壓而生產(chǎn)。相對于眼科毛坯的凸面12，將掩模放在中心，包裹上凸面和周邊，并折到毛坯凹面11下，來確保用離子束處理時，箔掩模切口部分相對于毛坯的位置。此類箔掩模35適合與傳統(tǒng)鏡片，諸如那些具有特定瞳孔間距的那些，諸如那些在本申請人的PRECAL商品名下出售的，其標(biāo)準(zhǔn)化模板的成批生產(chǎn)費用是不能證明的。如果在離子束處理后，小心地將其從第一透鏡毛坯上取下，此類箔掩模是可以再度使用的。為了同時用離子體源處理多個眼科基材10，各眼科基材和其相關(guān)的掩?；蚰０逵?C環(huán)40夾持在一起，被放入普通圓盤傳送帶50的切口 51中，其中各C環(huán)被放入與相應(yīng)切口邊緣的嚙合中，并通過C環(huán)自由端部分45與圓盤傳送帶切口的彈性嚙合來固定就位。此類圓盤傳送帶支持一般允許10個或者更多基材，在實際中，多于250個基材，用離子束同時進行蝕刻。不管使用的掩?；蚰０宓念愋?，如果鏡片裝備有臨時保護層，其對準(zhǔn)了掩?；蚰０迳系那锌诘牟糠謱⑦x擇性地機械移除，例如穿過切口，使用自動或者人工控制的旋轉(zhuǎn)刷涂或拋光設(shè)備。備選地，該臨時保護層可以通過超聲波除去。
“用離子體源的"蝕刻"可以在普通高真空蒸發(fā)設(shè)備中進行，或者在帶有離子槍的"盒子施涂器"中進行，其通常用于在沉積之前的眼科基材的離子預(yù)清潔，以及用于離子輔助的涂層沉積，諸如眼科基材上的抗反射光或AR涂層。由Leybold制造的Balzers BAK 760 High Capacity HighVacuum Evaporation System大容量高真空蒸發(fā)系統(tǒng)，或者由 Satisloh AG 制造的 MC_380Multiple Process Cleaning and Coating System，其裝備有離子槍，特別是末端Hall離子體源，諸如Commonwealth Mark II離子槍，均適合用于標(biāo)記或者"蝕刻"具有一個或多個導(dǎo)電層的眼科基材的外涂層。圖8用示意圖說明了高真空蒸發(fā)單元或盒子施涂器60，其適合用于離子預(yù)清潔， 或者甚至眼科基材的涂層或者涂層的沉積，這里用于通過離子槍對具有一個或多個導(dǎo)電層的眼科基材的外涂層進行"蝕刻"。單元60包括一個盒或室61，其裝有與室內(nèi)部相通的普通泵單元65，來對室內(nèi)進行抽取減壓，到約2X10_5到5X10_5毫巴。通過進氣口 66對真空室供應(yīng)中性氣體，所述進氣口 66與位于離子槍70下方的氣體分配器67相通。電磁鐵75裝在真空室下部，位于氣體分配器67下方，環(huán)形極片77被裝在貼近真空室邊墻62處，并從那里向內(nèi)擴展，使得磁場在離子槍內(nèi)部產(chǎn)生，參考磁場線76 一般在電磁鐵75和環(huán)形極片77之間擴展，所述電磁鐵75 備選地可以是永磁鐵。離子槍70包括環(huán)形陽極80，其分布在氣體分配器67的正上方，由于環(huán)形極片77 支持的陰極81相對于離子槍軸線垂直擴展。陰極81可以是，例如絲狀的，如圖所示，或者非絲陰極，即，空心陰極電子源。末端Hall離子體源如下進行操作。將真空室抽真空到高真空例如3X 10_5毫巴。 陰極81產(chǎn)生電子，通過其負(fù)電荷㈠進行確認(rèn)。電子被吸引到陽極80上，如與負(fù)電荷相關(guān)的箭頭所示。在電磁鐵75和環(huán)形極77之間的磁場阻止了電子到達陽極80。電子被"束縛"在磁場線76中。中性氣體原子通過它們的中性電荷(0)進行識別，在實踐中氬原子，通過氣體分配器67均勻地排出，并向上通過其中的孔流入環(huán)形陽極80的內(nèi)部孔穴中，其中它們與捕獲的電子相撞擊，由此將中性氣體原子離子化為帶正電荷的氬離子，由其正電荷⑴進行識別，通過將一個或者多個電子從氬原子中發(fā)射出來來形成工作離子。將工作離子加速，從陽極80對著目標(biāo)發(fā)射，所述目標(biāo)包括固定在繞軸旋轉(zhuǎn)的圓盤傳送帶50上的多個模板30和基材10的凸面，如圖所示。另外，由電子槍生產(chǎn)的中和電子，通過自旋電子屏柵(rotating electron shutter) 78，被導(dǎo)引到一側(cè)，進入離子束(未顯示)來平衡離子的正電荷。備選地，中和電子可以由陰極81產(chǎn)生。這生產(chǎn)了更一致的離子束，避免了在目標(biāo)處積累電荷。在離子化的工作氣體的短脈沖或脈沖轟擊目標(biāo)，足夠來穿過掩模模板或者其它掩模來除去外涂層的暴露部分之后，將真空室通風(fēng)，并將圓盤傳送帶取出真空室，從中取下帶有夾具的模板和基材。其后，基材可以根據(jù)特定的眼鏡框架進行裁邊，成為要裝配的形狀。注意，離子束能量用陽極電壓進行控制。光束離子能是大約60%的陽極電壓，并且200V放電電壓對應(yīng)于120V射束離子能。對于氣流，離子電流或電子束電流控制是大約 20%的陽極電流，因此5A放電電流氣體給出大約IA的離子電流。在包括至少一個導(dǎo)電性涂層的涂層眼科基材上進行的離子束"蝕刻"操作用離子槍來進行，諸如，如上所述的Balzers BAK 760 HighVacuum Evaporation System 大容量高真空蒸發(fā)系統(tǒng)，禾口MC-380Capacity High Multiple Process Cleaning and Coating System。Balzers BAK 760系統(tǒng)，進行離子預(yù)清潔(IPC)的參數(shù)為，使用氬氣，起始真空 3. OX 10_5毫巴，陽極電位電壓100V,陽極電流1. 00A,中和電流0. 13A，持續(xù)5到10秒鐘。 Satisloh MC-380系統(tǒng)，進行離子預(yù)清潔(IPC)的參數(shù)為，使用氬氣，以及如下條件起始真空3. OX IO"5毫巴，陽極電位100V,陽極電流1. 00A,中性電流0. 080A，持續(xù)15到20秒鐘。得到的離子槍蝕刻的基材在正常內(nèi)部照明狀態(tài)下進行檢查，蝕刻部分是不可見的。與基材凸面其它部分的平滑度相比，用手指尖無法感覺到標(biāo)記的粗糙度。當(dāng)基材凸面被霧化或煙霧時，例如通過呵氣，通過蝕刻部分表面深色的凝結(jié)物與環(huán)繞蝕刻部分的淺色小液滴的對比，可以看到該所需標(biāo)記。導(dǎo)電層的存在并未影響到離子束的轟擊來生產(chǎn)所需標(biāo)記。霧化或煙霧標(biāo)記的銳利度，與工業(yè)上對無任何導(dǎo)電層的眼科基材的電暈放電實現(xiàn)的銳利度相比，具有相同質(zhì)量。此類離子體源霧化標(biāo)記的基材可以在普通邊緣研磨機中進行裁邊。當(dāng)涂層透鏡毛坯具有如上所述厚度為約5nm和約50nm之間的保護層時，因為離子束相比于用于標(biāo)記的已知電暈放電，是一個較小激勵的源，保護層必須在覆蓋在要用離子束"蝕刻"眼科基材部分的區(qū)域上，部分地或者完全地去除(或者避免保護層的沉積，或者在沉積后除去保護層)，以便生產(chǎn)想要的通過霧化或者煙霧可見的標(biāo)記。因為通過刷或拋光除去的臨時保護層的表面積，相對于臨時保護層的整個表面積，僅是部分，所以透鏡毛坯與夾頭之間的依附的降低不會損害在裁邊時臨時保護層的有效性。本發(fā)明已經(jīng)描述了用離子槍進行的蝕刻，特別是用末端Hall離子槍，其是一個無柵(gridless)離子體源?？墒褂昧硪环N離子體源，尤其是柵板離子體源，具體地說是柵板直流電離子體源(gridded dc ion sources),諸如得自 Kaufman&Robinson, Inc. Fort Collins, Colorado.的 KRI 柵板直流離子體源，或者得自 Veeco Instruments，Plainview， N. Y.的柵板直流離子體源中的一種。柵板直流離子體源可以是熱燈絲型，或離子可通過rf釋放口來產(chǎn)生，其不需要電子發(fā)射陰極。排放室維持正極水平上，其通過光束供應(yīng)，并且離子穿過在屏和加速器格柵上的孔來被加速?？墒褂酶鞣N柵板構(gòu)型，雙柵構(gòu)型是最普遍的。柵板離子體源在背景壓力，約 0. 5毫托或更少，的條件下操作。所述離子體源的離子電流容量低于末端Hall離子體源。低溫等離子體也可用作離子體源?？刹捎蒙虡I(yè)的等離子蝕刻器或者等離子清潔器，特別是 Diener Electronic-North America, Reading, Penn 生產(chǎn)的 Femto 低壓等離子系統(tǒng)。本申請的各實施方案已經(jīng)通過實施例進行了描述。應(yīng)明了的是，本發(fā)明允許各種變換和改進，而不會背離權(quán)利要求的實質(zhì)和保護范圍，諸如在眼科基材一個或者兩個表面上的涂層和涂層們的數(shù)目、配方和厚度，底層主體材料、用于眼科基材涂層施涂的沉積或者轉(zhuǎn)移方法，界定暴露在離子束中的外涂層部分的掩模的結(jié)構(gòu)和構(gòu)型。
權(quán)利要求
1.標(biāo)記眼科基材或其它眼科制品的方法，其包括如下步驟-提供眼科基材，其是具有相對光學(xué)表面的合適的有機或無機玻璃；-沉積多個層以界定在相對的光學(xué)表面中一個或兩個上的具有抗沖擊、抗劃痕、抗反射和/或抗模糊性能的涂層，所述層中至少一個是導(dǎo)電層；-提供掩模，該掩模界定與涂覆的眼科基材的表面之一的所需標(biāo)記互補的構(gòu)型，并將該掩模緊鄰所述眼科基材表面布置；和-提供離子體源并從所述離子體源將離子束引導(dǎo)至所述眼科基材的經(jīng)掩蔽表面以除去經(jīng)過所述掩模曝光的涂層中的最外一個層的至少一部分，從而在所述基材表面涂層上產(chǎn)生通過霧化而變得可見的所需標(biāo)記。
2.權(quán)利要求1的方法，其特征在于，沉積步驟包括沉積多個的高指數(shù)和低指數(shù)層以界定抗反射涂層，并且其特征在于，導(dǎo)電層包括所述抗反射涂層的一個或多個高指數(shù)層。
3.權(quán)利要求1或2的方法，其特征在于，導(dǎo)電層具有抗靜電性能。
4.前述任一項權(quán)利要求的方法，其特征在于，具有多個賦予抗靜電性能的間隔的導(dǎo)電層。
5.權(quán)利要求2的方法，其特征在于，一個或多個高指數(shù)層由銦摻雜的氧化錫制成。
6.前述任一項權(quán)利要求的方法，其特征在于，具有界定所述抗反射涂層的高指數(shù)層的多個導(dǎo)電層。
7.權(quán)利要求2的方法，其特征在于，抗反射涂層是通過離子輔助沉積進行沉積的。
8.前述任一項權(quán)利要求的方法，其進一步包括在沉積多個涂層的步驟之前，將眼科基材在真空室內(nèi)進行離子預(yù)清潔(IPC)。
9.權(quán)利要求8的方法，其特征在于，將包括一個或者多個導(dǎo)電層的至少一些涂層在真空外殼內(nèi)通過離子輔助沉積沉積到所述預(yù)清潔過的眼科基材上。
10.前述任一項權(quán)利要求的方法，其特征在于，離子體源產(chǎn)生持續(xù)約5到30秒的帶電離子的脈沖，以消除所述最外涂層的所選擇部分。
11.權(quán)利要求1-10任一項的方法，其特征在于，離子體源產(chǎn)生持續(xù)約5到10秒的帶電離子的脈沖，以消除所述最外涂層的所選擇部分。
12.權(quán)利要求1-10任一項的方法，其特征在于，離子體源產(chǎn)生持續(xù)約15到20秒的帶電離子的脈沖，以消除所述最外涂層的所選擇部分。
13.前述任一項權(quán)利要求的方法，其進一步包括除了上述多個涂層之外還沉積臨時性保護層，所述保護層是從與所述掩模中的切口對齊的區(qū)域部分地或完全消除，以改變經(jīng)過所述保護層和掩模曝光的部分的表面能并從而產(chǎn)生通過霧化而變得可見的所需標(biāo)記。
14.前述任一項權(quán)利要求的方法，其特征在于，掩模包括具有相對凸面和凹面的較剛性的模板，凹面具有與基材凸面基本上相同的基礎(chǔ)曲線，使得包括界定了標(biāo)記的切口的掩模凹面部分與基材凸面部分匹配接觸。
15.權(quán)利要求14的方法，其特征在于，其中所述模板和基材通過彈性環(huán)保持在就彼此來說適當(dāng)?shù)奈恢谩?br> 16.權(quán)利要求14的方法，其特征在于，所述環(huán)適應(yīng)于安裝，并在用離子束處理期間將模板和基材對保持在可旋轉(zhuǎn)支撐體的孔中，該可旋轉(zhuǎn)支撐體安裝在外殼內(nèi)。
17.權(quán)利要求1-13任一項的方法，其特征在于，所述掩模包括具有相對凸面和凹面的較柔韌的模板，所述凹面所具有的基礎(chǔ)曲線與具有一定范圍基礎(chǔ)曲線的多個眼科基材的凸面的基礎(chǔ)曲線具有相同或更低的曲率，使得包括界定標(biāo)記的切口的掩模的凹面部分與基材凸面部分呈緊密重疊關(guān)系。
18.權(quán)利要求17的方法，其特征在于，其中所述模板和基材通過彈性環(huán)保持在就彼此來說適當(dāng)?shù)奈恢谩?br> 19.權(quán)利要求17或18的方法，其特征在于，所述環(huán)適應(yīng)于安裝，并在用離子束處理期間將模板和基材對保持在可旋轉(zhuǎn)支撐體的孔中，該可旋轉(zhuǎn)支撐體安裝在外殼內(nèi)。
20.權(quán)利要求1-13任一項的方法，其特征在于，所述眼科基材具有特定構(gòu)型的凸面，所述掩模包括其中印制有一個或者多個切口的金屬箔，并且所述掩模包裹在眼科基材的凸面上。
21.權(quán)利要求1-13任一項的方法，其特征在于，所述眼科基材具有特定構(gòu)型的凸面，所述掩模包括其中印制有一個或者多個切口的塑料膜，并且所述掩模施加在眼科基材的凸面上。
22.前述任一項權(quán)利要求的方法，其特征在于，離子體源選自由如下所組成的組離子槍、柵板直流電離子體源和低溫等離子體源。
23.權(quán)利要求1-21任一項的方法，其特征在于，離子體源包括離子槍。
24.權(quán)利要求23的方法，其特征在于，離子槍包括末端Hall離子槍。
25.前述任一項權(quán)利要求的方法，其特征在于，離子體源的操作條件與在眼科基材上沉積涂層之前對眼科基材進行離子預(yù)清潔的操作條件基本上相同。
26.—種標(biāo)記涂覆的眼科基材或毛坯的裝置，其包括真空室、裝在真空室中并且產(chǎn)生離子束的離子體源，所述離子體源可操作用來在沉積涂層之前預(yù)清潔眼科基材或毛坯，掩模， 該掩模具有一個或多個對應(yīng)于待用離子束蝕刻的所需標(biāo)記的切口，所述所需標(biāo)記在眼科基材或透鏡毛坯的外涂層中當(dāng)霧化或下霧時變得可見，所述掩模經(jīng)配置使得掩模切口定位在經(jīng)涂覆的眼科基材或毛坯上，所述掩模切口與所述經(jīng)涂覆的眼科基材或毛坯的待標(biāo)記的表面部分呈緊密重疊關(guān)系，用于將具有掩模的眼科基材或毛坯安裝在真空室內(nèi)的支撐體，所述真空室面對離子體源的離子放電，和離子體源，該離子源提供離子束以穿過所述掩模上中的切口來除去眼科基材或透鏡毛坯最外面涂層的一部分，而產(chǎn)生通過霧化而變得可見的所需標(biāo)記。
27.權(quán)利要求沈的裝置，其特征在于，所述離子體源包括離子槍。
全文摘要
標(biāo)記眼科基材或其它眼科制品的方法，其包括如下步驟提供眼科基材，其是具有相對光學(xué)表面的合適的有機或無機玻璃；沉積多個層以界定在相對的光學(xué)表面中一個或兩個上的具有抗沖擊、抗劃痕、抗反射和/或抗模糊性能的涂層，所述層中至少一個是導(dǎo)電層；提供掩模，該掩模界定與涂覆的眼科基材的表面之一的所需標(biāo)記互補的構(gòu)型，并將該掩模緊鄰所述眼科基材表面布置；和提供離子體源并從所述離子體源將離子束引導(dǎo)至所述眼科基材的經(jīng)掩蔽表面以除去經(jīng)過所述掩模曝光的涂層中的最外一個層的至少一部分，從而在所述基材表面涂層上產(chǎn)生通過霧化而變得可見的所需標(biāo)記。
文檔編號C03C17/34GK102197004SQ200980142844
公開日2011年9月21日 申請日期2009年10月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月28日
發(fā)明者W·伊格頓 申請人:埃西勒國際通用光學(xué)公司