專利名稱：一種表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及建筑陶瓷領(lǐng)域，尤其涉及一種表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝。
技術(shù)背景
陶瓷裝飾磚的圖案實(shí)現(xiàn)方法主要有三種一是絲網(wǎng)印花技術(shù)；二是輥筒印花技 術(shù)；三是噴墨印花技術(shù)。絲網(wǎng)印花技術(shù)把設(shè)計好的圖案轉(zhuǎn)化為布有厚度均勻感光膠的網(wǎng)布 上的縷空網(wǎng)點(diǎn)，用基礎(chǔ)釉和色料調(diào)好的花釉通過網(wǎng)板在磚面上形成相應(yīng)的圖案。輥筒印花 技術(shù)，把設(shè)計好的圖案通過激光雕刻到空白的膠輥上，用輥筒印油和色料調(diào)制好的花釉布 在膠輥上，膠輥在磚面走過的同時把花釉印在磚面上得到相應(yīng)的圖案。噴墨印花技術(shù)是將 設(shè)計好的圖案轉(zhuǎn)化為數(shù)字信息，通過噴墨打印機(jī)打印到陶瓷磚表面上。
用絲網(wǎng)印花技術(shù)在對表面凹凸瓷磚產(chǎn)品進(jìn)行圖案表現(xiàn)時，只能在產(chǎn)品凸起表面表 現(xiàn)出圖案，凹陷表面無法印出圖案；噴墨印花設(shè)備比較昂貴，且其產(chǎn)品的表面平整度較差； 普通膠輥印花技術(shù)在對表面凹凸瓷磚產(chǎn)品進(jìn)行圖案表現(xiàn)時，容易造成某些位置無法表現(xiàn)， 且膠輥壽命大大縮短。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是彌補(bǔ)已有技術(shù)的不足，目的在于提供一種表面凹凸 瓷磚的生產(chǎn)工藝，生產(chǎn)的表面凹凸瓷磚在凹凸不平的表面都可以有比較好的印花視覺效 果，立體感較強(qiáng)。
為解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案是，一種表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，包括 如下步驟
(1)制備坯料、面釉及花釉；
(2)坯料在模具磚內(nèi)成型形成坯磚，模具磚設(shè)有凹凸不平的紋路，凹凸不平的紋路 的深度在1. Omm-2. 5mm的范圍內(nèi)，坯料成型的壓力為3300Mpa/cm2-3700Mpa/cm2 ；
(3)成型后的坯磚燒結(jié)干燥，燒結(jié)溫度為1170°C -1200°C ；
(4)干坯淋釉，釉漿的流動性為30S/100M1-40S/100M1，波動為0S-5S，釉漿比重為 170g/cm2-190g/cm2，釉量為 0. 01g/cm2_0. 08g/cm2 ；
(5)軟輥印花釉，花釉中色料與水的比重為1. 37-1. 45，軟輥的轉(zhuǎn)速與送磚皮帶的 轉(zhuǎn)速相匹配，設(shè)置為30m/min-40m/min ；
(6)入窯燒成，燒成溫度為1090°C -IllO0C ；
(7)磨邊。
優(yōu)選地，步驟(2)中凹凸不平的紋路的深度在1. 5mm-2. Omm的范圍內(nèi)，坯料成型的 壓力為 3400Mpa/cm2-3600Mpa/cm2。
優(yōu)選地，步驟O)中模具磚表面膠的硬度控制在97度-99度。
優(yōu)選地，步驟O)中模具磚的尺寸控制在坯磚收縮4. 0% -5. 5%。
優(yōu)選地，步驟(3)中燒結(jié)溫度為1180°C -1190°C。
優(yōu)選地，步驟(4)中釉漿的流動性為32S/100M1-38S/100M1，波動為0S-2S，釉漿比 重為 180g/cm2-185g/cm2，釉量為 0. 02g/cm2-0. 06g/cm2。
優(yōu)選地，步驟(4)中，坯磚淋釉前必須先噴水打濕，噴水量為0. 005g/cm2-0. Olg/2cm 。
優(yōu)選地，步驟(5)中軟輥的高度為8mm-10mm。
優(yōu)選地，步驟(6)中燒成溫度為1100°C -1105°C。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，生產(chǎn)的表面凹凸瓷磚 在凹凸不平的表面都可以有比較好的印花視覺效果，立體感較強(qiáng)。
具體實(shí)施方式
為了本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠更好地理解本發(fā)明所提供的技術(shù)方案，下面結(jié)合具體 實(shí)施例進(jìn)行闡述。
本發(fā)明提供的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，包括如下步驟
(1)制備坯料、面釉及花釉。
(2)在普通瓷磚中，大多是以平面加印花來達(dá)到美化效果，而本專利的模具磚設(shè)有 凹凸不平的紋路，坯料在模具磚內(nèi)成型形成坯磚，通過坯磚表面凹凸效果加上印花裝飾凸 顯立體效果，使產(chǎn)品自然逼真，本專利的表面紋路是以不規(guī)則凹凸的紋路效果來表現(xiàn)產(chǎn)品 自然風(fēng)格。凹凸不平的紋路的深度在1. 5mm-2. Omm的范圍內(nèi)，紋路如果過深，則淋釉和印花 無法控制，如果太淺則無法顯現(xiàn)其凹凸紋路的效果。模具磚表面膠的硬度控制在97度-99 度，硬度過低則表面出現(xiàn)麻面，硬度過高則會產(chǎn)生粘模缺陷而大致產(chǎn)品降級。坯料成型的壓 力為3400Mpa/Cm2-3600Mpa/Cm2，壓力過低則產(chǎn)品強(qiáng)度不夠，壓力過高則半成品會產(chǎn)生裂紋 現(xiàn)象。由于產(chǎn)品是以平均分塊模和表面凹凸模來突出其特性，而產(chǎn)品尺寸受工藝參數(shù)影響 而有所變化，所以模具磚的尺寸控制在坯磚收縮4.5% -5.0%為宜，這樣則能保證后工序 控制，如印花、磨邊等，不受影響。
(3)成型后的坯磚燒結(jié)干燥。燒結(jié)是陶瓷產(chǎn)品的關(guān)鍵工藝，產(chǎn)品要考慮平整度、尺 寸，以及含水率等一系列物理性能，所以燒結(jié)溫度為1180°C -1190°C為宜，這樣才能保證產(chǎn) 品的各項(xiàng)指標(biāo)不受影響。
(4)干坯淋釉。在表面凹凸瓷磚這一產(chǎn)品類型中，表面均要施一層類似玻璃 的釉層來裝飾產(chǎn)品。而本專利是要在產(chǎn)品表面凹凸不平上淋釉，則比一般的平面產(chǎn)品 困難得多，參數(shù)控制不好則產(chǎn)生針孔、釉泡等缺陷而使產(chǎn)品降級。因此，釉漿的流動性 為 32S/100M1-38S/100M1,波動為 0S-2S，釉漿比重為 180g/cm2_185g/cm2，釉量為 0. 02g/ cm2-0. 06g/cm2。坯磚淋釉前必須先噴水打濕，噴水量為0. 007g/cm2。
(5)絲網(wǎng)印花釉。軟輥印花釉，花釉中色料與水的比重為1. 37-1. 45，軟輥的轉(zhuǎn)速 與送磚皮帶的轉(zhuǎn)速相匹配，設(shè)置為30m/min-40m/min。為了獲得清晰度和效果較好的印花， 軟輥的高度為8mm-10mm。
(6)入窯燒成。
(7)磨邊。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，生產(chǎn)的表面凹凸瓷磚 在凹凸不平的表面都可以有比較好的印花視覺效果，立體感較強(qiáng)。
對所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。 對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的 一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明 將不會被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一 致的最寬的范圍。
權(quán)利要求
1.一種表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，其特征在于，包括如下步驟(1)制備坯料、面釉及花釉；(2)坯料在模具磚內(nèi)成型形成坯磚，模具磚設(shè)有凹凸不平的紋路，凹凸不平的紋路的深 度在1. Omm-2. 5mm的范圍內(nèi)，坯料成型的壓力為3300Mpa/cm2-3700Mpa/cm2 ；(3)成型后的坯磚燒結(jié)干燥，燒結(jié)溫度為1170°C-1200°C ；(4)干坯淋釉，釉漿的流動性為30S/100M1-40S/100M1,波動為0S-5S，釉漿比重為 170g/cm2-190g/cm2，釉量為 0. 01g/cm2_0. 08g/cm2 ；(5)軟輥印花釉，花釉中色料與水的比重為1.37-1.45，軟輥的轉(zhuǎn)速與送磚皮帶的轉(zhuǎn)速 相匹配，設(shè)置為30m/min-40m/min ；(6)入窯燒成，燒成溫度為1090°C-IllO0C ；(7)磨邊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，其特征在于，步驟( 中凹凸不平 的紋路的深度在1. 5mm-2. Omm的范圍內(nèi)，坯料成型的壓力為3400Mpa/cm2-3600Mpa/cm2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，其特征在于，步驟( 中模具磚表 面膠的硬度控制在97度-99度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，其特征在于，步驟( 中模具磚的 尺寸控制在坯磚收縮4. 0 % -5. 5 %。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，其特征在于，步驟C3)中燒結(jié)溫度 為 11800C -1190"C。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，其特征在于，步驟中釉漿的 流動性為32S/100M1-38S/100M1,波動為0S-2S，釉漿比重為180g/cm2_185g/cm2，釉量為 0. 02g/cm2-0. 06g/cm2。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，其特征在于，步驟中，坯磚淋 釉前必須先噴水打濕，噴水量為0. 005g/cm2-0. 01g/cm2。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，其特征在于，步驟( 中軟輥的高 度為 8mm-10mmo
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，其特征在于，步驟(6)中燒成溫度 為 IlOO0C -1105°c。
全文摘要
本發(fā)明公開一種表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，包括如下步驟(1)制備坯料、面釉及花釉；(2)坯料在模具磚內(nèi)成型形成坯磚，模具磚設(shè)有凹凸不平的紋路，凹凸不平的紋路的深度在1.0mm-2.5mm的范圍內(nèi)，坯料成型的壓力為3300MPa/cm2-3700MPa/cm2；(3)成型后的坯磚燒結(jié)干燥，燒結(jié)溫度為1170℃-1200℃；(4)干坯淋釉，釉漿的流動性為30S/100M1-40S/100M1，波動為0S-5S，釉漿比重為170g/cm2-190g/cm2，釉量為0.01g/cm2-0.08g/cm2；(5)軟輥印花釉，花釉中色料與水的比重為1.37-1.45，軟輥的轉(zhuǎn)速與送磚皮帶的轉(zhuǎn)速相匹配，設(shè)置為30m/min-40m/min；(6)入窯燒成，燒成溫度為1090℃-1110℃；(7)磨邊。本發(fā)明提供的表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，生產(chǎn)的表面凹凸瓷磚在凹凸不平的表面都可以有比較好的印花視覺效果，立體感較強(qiáng)。
文檔編號B28B11/08GK102029643SQ20101052123
公開日2011年4月27日 申請日期2010年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月26日
發(fā)明者鐘小安 申請人:霍鐮泉