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      一種陶瓷地腳線磚的制作方法

      文檔序號:1973102閱讀:287來源:國知局
      專利名稱:一種陶瓷地腳線磚的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及一種地腳線磚,尤其涉及一種陶瓷地腳線磚。
      背景技術(shù)
      傳統(tǒng)的地腳線磚多使用陶瓷地磚廢料生產(chǎn)而成,因其成本低廉、節(jié)約能源、且環(huán)保 性能高而得已廣泛的使用。但是其表面多有缺陷且無圖案并不能彰顯現(xiàn)代人的審美觀念以 及裝飾風(fēng)格的統(tǒng)一。還有一些增加圖案的地腳線磚使用裝飾紙直接用膠水粘貼在底磚上再 在其上進行保護工藝,但是其耐候性不高,受熱時間長或滲濕后容易損壞。
      發(fā)明內(nèi)容本實用新型公開了一種陶瓷地腳線磚,目的是提供一種耐高溫、滲濕、耐候性好、 且美觀時尚的陶瓷地腳線以改進現(xiàn)有技術(shù)的不足,并有很高的商業(yè)價值。為實現(xiàn)上述目的,本實用新型的技術(shù)解決方案是一種陶瓷地腳線磚,包括陶瓷底 磚、防脫涂料、裝飾層以及保護層,其特征在于防脫涂料涂覆于陶瓷底磚上,防脫涂料上設(shè) 置有裝飾層,并在裝飾層上設(shè)置有保護層。所述的防脫涂料是由一種耐水性、耐候性好且附著力強的水性彩瓦漆。所述的裝飾層是由印花機使用金蔥粉印制的圖案或由印花機使用顏料印制的圖案。所述的保護層是由UV漆經(jīng)過UV工藝所形成的。本實用新型的有益效果是由于采用了耐水性、耐候性以及附著力強的水性彩瓦 漆作為防脫涂料,增加了裝飾層與陶瓷底磚的附著力,且通過UV保護層與彩瓦漆的結(jié)合增 加了陶瓷地腳線磚的耐候性及其壽命,圖案可根據(jù)需要印制,達到美觀大方個性的目的。生 產(chǎn)技術(shù)簡單,成本低廉,具有很高的商業(yè)價值。

      附圖是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;圖中1-陶瓷底磚,2-防脫涂料,3-裝飾層,4-保護層。
      具體實施方式
      以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
      做進一步詳細說明。參見附圖,本實用新型包括陶瓷底磚1、防脫涂料2、裝飾層3以及保護層4,其特征 在于防脫涂料2涂覆于陶瓷底磚1上,防脫涂料2上設(shè)置有裝飾層3,并在裝飾層3上設(shè)置 有保護層4。所述的防脫涂料2是由一種耐水性、耐候性好且附著力強的水性彩瓦漆。所述的裝飾層3是由印花機使用金蔥粉印制的圖案或由印花機使用顏料印制的圖案。[0015]所述的保護層4是由UV漆經(jīng)過UV工藝所形成的。實施例1 將陶瓷底磚1進行初步的打磨以及切邊處理后,清洗其表面,待其干透 后在表面涂覆一層耐水性、耐候性且附著力強的水性彩瓦漆的防脫涂料2,待其干后在其上 使用金蔥粉進行裝飾處理形成裝飾層3,完成圖案裝飾處理后在裝飾層3上使用UV工藝進 行表面的保護形成保護層4。實施例2 將陶瓷底磚1進行初步的打磨以及切邊處理后,清洗其表面,待其干透 后在表面涂覆一層耐水性、耐候性且附著力強的水性彩瓦漆的防脫涂料2,待防脫涂料2干 后在其上用印花機使用顏料印制圖案形成裝飾層3,完成圖案印制后在裝飾層3上使用UV 工藝進行表面的保護形成保護層4。
      權(quán)利要求一種陶瓷地腳線磚,包括陶瓷底磚(1)、防脫涂料(2)、裝飾層(3)以及保護層(4),其特征在于防脫涂料(2)涂覆于陶瓷底磚(1)上,防脫涂料(2)上設(shè)置有裝飾層(3),并在裝飾層(3)上設(shè)置有保護層(4)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷地腳線磚,其特征在于所述的防脫涂料(2)是由一種 耐水性、耐候性好且附著力強的水性彩瓦漆。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷地腳線磚,其特征在于所述的裝飾層(3)是由印花機 使用金蔥粉印制的圖案。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷地腳線磚,其特征在于所述的裝飾層(3)是由印花機 使用顏料印制的圖案。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷地腳線磚,其特征在于所述的保護層(4)是由UV漆經(jīng) 過UV工藝所形成的。
      專利摘要本實用新型公開了一種地腳線磚,目的在于提供一種陶瓷地腳線磚。本實用新型所述陶瓷地腳線磚,包括陶瓷底磚、防脫涂料、裝飾層以及保護層,其特征在于防脫涂料涂覆于陶瓷底磚上,防脫涂料上設(shè)置有裝飾層,并在裝飾層上設(shè)置有保護層。本實用新型主要用于地腳線生產(chǎn)廠家生產(chǎn)陶瓷地腳線用。
      文檔編號E04F19/04GK201687183SQ201020185888
      公開日2010年12月29日 申請日期2010年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月30日
      發(fā)明者朱開剛 申請人:朱開剛
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