專利名稱：鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及氣體隔離裝置，特別是涉及一種鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置。
背景技術(shù)：
隨著我國(guó)電子封裝業(yè)的飛速發(fā)展，直接促進(jìn)著金屬一玻璃封裝技術(shù)的發(fā)展，作為 封裝形式之一的金屬一玻璃封裝，近年來已形成了一個(gè)龐大的技術(shù)產(chǎn)業(yè)。金屬一玻璃封裝 主要應(yīng)用于集成電路、繼電器、接插件、鋰電池、微波器件、傳感器、鉭電容器、壓縮機(jī)等產(chǎn)品 中，這些產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于人類活動(dòng)的各個(gè)領(lǐng)域，如航空、航天、兵器、船舶、汽車等工業(yè)以及 各類家用電器、各類通訊器材直至兒童玩具。因此金屬一玻璃封裝行業(yè)近年來得到了迅猛 發(fā)展，而金屬一玻璃封裝的關(guān)鍵工藝設(shè)備之一就是氣體保護(hù)燒結(jié)爐。根據(jù)金屬與玻璃封結(jié)的原理，金屬之所以能和玻璃封結(jié)到一起且具有較好的氣密 性，主要靠金屬氧化物與玻璃中的氧化物在高溫下牢牢的結(jié)合而成的。因此金屬在封結(jié)之 前其表面必須預(yù)先氧化，使其表面生成一層結(jié)合致密、牢固的氧化膜，而燒結(jié)過程中加入少 量氫氣主要是保護(hù)金屬零件，防止金屬零件在高溫下過氧化，但是由于氫氣在800°C左右對(duì) 金屬氧化物具有較強(qiáng)的還原作用，而玻璃與金屬氧化物牢固結(jié)合的溫度是980°C左右，如果 氫氣進(jìn)入高溫爐膛，就會(huì)使得在玻璃與金屬結(jié)合之前，氫氣就把金屬氧化物還原掉，直接影 響玻璃和金屬封結(jié)的質(zhì)量，影響產(chǎn)品的性能。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的就是為了克服鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣易流入高溫區(qū)爐膛內(nèi)還原金屬 氧化物的缺點(diǎn)，提供的一種鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置，包括高溫區(qū)爐膛、低溫區(qū)爐膛、冷卻區(qū)爐膛，在三個(gè)爐 膛端口處分別設(shè)有相應(yīng)的氮?dú)夤艿?、氮?dú)浠旌瞎艿琅c爐膛相通，所述的氮?dú)夤艿拦餐c一 個(gè)氣體分配器連接，其特征在于在氮?dú)浠旌瞎艿琅c爐膛連接處前端的高溫區(qū)爐膛四周設(shè) 有氣體通道，氣體通道內(nèi)的爐膛周邊上設(shè)有一組進(jìn)氣孔，氣體通道上設(shè)有進(jìn)氣口，進(jìn)氣口通 過相應(yīng)的氮?dú)夤艿琅c氣體分配器連接。在上述的主要技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，可以增加以下進(jìn)一步完善的技術(shù)方案在氣體通道上設(shè)有一對(duì)進(jìn)氣口，每個(gè)進(jìn)氣口通過相應(yīng)的連接管與氮?dú)夤艿肋B接。在每個(gè)氮?dú)夤艿郎弦来卧O(shè)有相應(yīng)的氣閥、流量計(jì)。所述的一組進(jìn)氣孔在高溫區(qū)爐膛周邊上均勻分布，均勻分布的進(jìn)氣孔可以是使氮 氣在高溫區(qū)爐膛內(nèi)形成一層封閉的氮?dú)饽?，阻隔了后部的氫氣向高溫區(qū)爐膛流動(dòng)。所述的一對(duì)的進(jìn)氣口設(shè)置在氣體通道的上下兩側(cè)。本實(shí)用新型的有益效果是可以通過本裝置在高溫區(qū)爐膛端口形成氮?dú)獗Ｗo(hù)幕，阻 止氫氣流入高溫區(qū)爐膛將金屬氧化物還原；提高了玻璃與金屬封結(jié)的質(zhì)量。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。


圖1為本實(shí)用新型的主視圖；圖2為本實(shí)用新型的主視圖的A-A剖視圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置，包括依次相連接的高溫區(qū)爐膛3、低溫區(qū)爐膛2和冷卻區(qū)爐膛1，另外還包括主氮?dú)夤艿?和氫氣管道11，在氫氣管道 11上依次設(shè)有相應(yīng)的氫氣壓力表10、氣閥6和流量計(jì)5，在主氮?dú)夤艿?上依次設(shè)有相應(yīng) 的氮?dú)鈮毫Ρ?、氣閥6和流量計(jì)5，主氮?dú)夤艿?與氣體分配器7連接，氣體分配器7與五 個(gè)分支氮?dú)夤艿?連接，在每個(gè)氮?dú)夤艿?上設(shè)有相應(yīng)的氣閥6和流量計(jì)5，其中兩個(gè)氮?dú)?管道4分別與高溫區(qū)爐膛3的進(jìn)口端和冷卻區(qū)爐膛1的出口端配合連接，第三個(gè)氮?dú)夤艿?4通過連接管分別與高溫區(qū)爐膛3的前端端口和后端端口配合連接，第四個(gè)氮?dú)夤艿?與 氫氣管道11共同與一個(gè)氮?dú)浠旌掀?2連接，氮?dú)浠旌掀?2通過氮?dú)浠旌瞎艿?3與低溫 區(qū)爐膛2的前端端口配合連接，如圖2所示，在氮?dú)浠旌瞎艿肋B接處前端對(duì)應(yīng)的高溫區(qū)爐膛 3的端口四周設(shè)有氣體通道14，氣體通道14在爐膛四周形成一個(gè)封閉的箱體，在氣體通道 14上下兩側(cè)上設(shè)有一對(duì)進(jìn)氣口 15，每個(gè)進(jìn)氣口通過相應(yīng)的連接管與第五個(gè)氮?dú)夤艿肋B接， 氣體通道14內(nèi)的爐膛四周邊上設(shè)有一組進(jìn)氣孔16，在高溫區(qū)爐膛3兩對(duì)稱長(zhǎng)邊上均勻分布 十一個(gè)進(jìn)氣孔16，在兩對(duì)稱短邊上均勻分布七個(gè)進(jìn)氣孔16，進(jìn)氣孔的數(shù)量可以根據(jù)爐膛的 大小增加或減少，氮?dú)馔ㄟ^進(jìn)氣口進(jìn)入氣體通道，再通過進(jìn)氣孔進(jìn)入爐膛形成氮?dú)饽?，阻?了后部的氫氣向高溫區(qū)爐膛流動(dòng)。
權(quán)利要求鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置，包括高溫區(qū)爐膛(3)、低溫區(qū)爐膛(2)、冷卻區(qū)爐膛(1)，在三個(gè)爐膛端口處分別設(shè)有相應(yīng)的氮?dú)夤艿?4)、氮?dú)浠旌瞎艿?13)與爐膛相通，所述的氮?dú)夤艿?4)共同與一個(gè)氣體分配器(7)連接，其特征在于在氮?dú)浠旌瞎艿琅c爐膛連接處前端的高溫區(qū)爐膛(3)四周設(shè)有氣體通道(14)，氣體通道(14)內(nèi)的爐膛四周邊上設(shè)有一組進(jìn)氣孔(16)，氣體通道(14)上設(shè)有進(jìn)氣口(15)，進(jìn)氣口(15)通過相應(yīng)的氮?dú)夤艿琅c氣體分配器(7)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置，其特征在于在氣體通道(14)上 設(shè)有一對(duì)進(jìn)氣口(15)，每個(gè)進(jìn)氣口(15)通過相應(yīng)的連接管與氮?dú)夤艿肋B接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置，其特征在于在每個(gè)氮?dú)夤?道(4)上依次設(shè)有相應(yīng)的氣閥、流量計(jì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置，其特征在于所述的進(jìn)氣孔(16) 在高溫區(qū)爐膛(3)周邊上均勻分布。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置，其特征在于所述的一對(duì)的進(jìn)氣 口(15)設(shè)置在氣體通道(14)的上下兩側(cè)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐氫氣隔離裝置，包括高溫區(qū)爐膛(3)、低溫區(qū)爐膛(2)、冷卻區(qū)爐膛(1)，在三個(gè)爐膛端口處分別設(shè)有相應(yīng)的氮?dú)夤艿?4)、氮?dú)浠旌瞎艿?13)與爐膛相通，所述的氮?dú)夤艿?4)共同與一個(gè)氣體分配器(7)連接，其特征在于在氮?dú)浠旌瞎艿琅c爐膛連接處前端的高溫區(qū)爐膛(3)四周設(shè)有氣體通道(14)，氣體通道(14)內(nèi)的爐膛周邊上設(shè)有一組進(jìn)氣孔(16)，氣體通道(14)上設(shè)有進(jìn)氣口(15)，進(jìn)氣口(15)通過相應(yīng)的氮?dú)夤艿琅c氣體分配器(7)連接。本實(shí)用新型的有益效果是可以通過本裝置在高溫區(qū)爐膛端口形成氮?dú)獗Ｗo(hù)幕，阻止氫氣流入高溫區(qū)爐膛將金屬氧化物還原；提高了玻璃與金屬封結(jié)的質(zhì)量。
文檔編號(hào)C03C27/02GK201772753SQ20102026306
公開日2011年3月23日 申請(qǐng)日期2010年7月15日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月15日
發(fā)明者李奎, 郭茂玉 申請(qǐng)人:蚌埠富源電子科技有限責(zé)任公司