專利名稱：提供有包括高折射指數(shù)層的具有熱性質的疊層的基材的制作方法
提供有包括高折射指數(shù)層的具有熱性質的疊層的基材本發(fā)明涉及透明基材，其特別地由硬無機材料(如玻璃)制成的透明基材，其中所述基材用包括可以作用于具有長波長的日光輻射和/或紅外輻射的金屬類型的功能層的薄層涂覆。本發(fā)明更特別地涉及這種基材用于制備隔熱和/或防曬的窗玻璃的用途。這些窗玻璃可以打算用于裝備建筑物和用于裝備車輛，特別地以達到降低空調(diào)負荷和/或防止由于在建筑物和車輛客艙中由于日益增加的玻璃表面而導致的過量加熱(被稱為“日光控制”窗玻璃)和/或降低消散在外部的能量的量(被稱為“低-E”或者“低-發(fā)射”窗玻
璃)ο這種窗玻璃還可集成到具有特定功能的窗玻璃中，如，例如加熱窗玻璃或者電致變色窗玻璃。一種已知用于提供基材這類性質的類型的多層疊層由在紅外線中和/或在日光輻射中具有反射性質的金屬功能層，尤其基于銀或者基于含銀金屬合金的金屬功能層組成。在這類疊層中，該功能層因此被設置在兩個減反射涂層之間，其每個減反射涂層包括多個層，該層每個由氮化物類型(尤其四氮化三硅或者氮化鋁)或者氧化物類型的介電材料制成。從光學觀點來看，這些圍繞金屬功能層的涂層的目的是使這種金屬功能層“ 減反射"。然而；阻隔涂層有時被插入在一個或者每個減反射涂層和金屬功能層之間；在基材方向上設置在功能層下方的阻隔涂層在任選的彎曲和/或淬火類型的高溫熱處理期間保護所述功能層，和在與基材相對側上設置在功能層上方的阻隔涂層保護這種層在沉積上部減反射涂層期間和在任選的彎曲和/或淬火類型的高溫熱處理期間不受可能的降解。例如從專利申請EP 678 484已知在基材和金屬功能層之間設置的高折射指數(shù)的介電層，例如由氧化鈮或者二氧化鈦制成的介電層可以使得金屬功能層“減反射”。為了進一步改善光學特性，一個解決方案在于在金屬功能層的每側使用高折射指數(shù)的介電層。然而，這些高指數(shù)材料不能以與較低指數(shù)材料一樣高的速度進行沉積，其一方面當連續(xù)進行沉積時產(chǎn)生制造工藝問題，在另一方面如果需要降低淀積涂層的機械裝置的效率(在每單位運行時間制備的被涂覆基材的數(shù)目方面)時，增加生產(chǎn)成本的問題。而且，用于通過反應濺射(例如使用所謂的“磁控管“方法)，尤其反應性磁控管濺射沉積這些材料的靶通常是比可以沉積較低指數(shù)材料的靶更昂貴的。因此當這種類型材料存在金屬功能層的每側上時，需要使高折射指數(shù)材料的量減到最少。這種解決方案而且必須可以獲得可接受的顏色，尤其反射顏色，特別地不在紅色中。本發(fā)明的一個目的是通過開發(fā)包括單個功能層的新型疊層成功克服現(xiàn)有技術的缺點，該疊層具有低的表面電阻(并因此低發(fā)射率)，高光透射和相對中性的顏色，特別地在多層一側(而且在相對側“基材側”上)的反射顏色，這些性質優(yōu)選地保持在限定的范圍內(nèi)，不管該疊層是否經(jīng)受一個或多個彎曲和/或淬火和/或退火類型的高溫熱處理。另一重要的目的是提供包括單個功能層的疊層，其具有低發(fā)射率同時具有在可見光中的低光反射，以及可接受的顏色，尤其反射顏色，特別地其不在紅色中。因此，本發(fā)明的一個主題為，在它的最寬范圍中，如權利要求1所述的玻璃基材。 這種基材在主要面上被提供有包括在紅外線和/或在日光輻射中具有反射性質的金屬功能層(尤其基于銀或者含銀金屬合金)，和兩個減反射涂層的薄層疊層，所述涂層每個包括至少兩個介電層，所述功能層被設置在兩個減反射涂層之間，其中一方面該功能層任選地被直接地沉積在下阻隔涂層(其被設置在下鄰減反射涂層和功能層之間)上方，和在另一方面該功能層被任選地直接地沉積在上阻隔涂層(其被設置在功能層和上鄰減反射涂層之間)下方。根據(jù)本發(fā)明
-每個減反射涂層包括至少一個與功能層接觸或者與功能層接近的高折射指數(shù)介電
層，
-位于下鄰減反射涂層中的高折射指數(shù)介電層的或者所有這些高折射指數(shù)介電層的總光學厚度占這種下鄰減反射涂層的總光學厚度的30-75%，和
-位于上鄰減反射涂層中的高折射指數(shù)介電層或者所有這些高折射指數(shù)介電層的總光學厚度占這種上鄰減反射涂層的總光學厚度的10-60%。術語“涂層，，在本發(fā)明的意義上應該理解為在涂層內(nèi)可以具有單個層或者多個不同材料層。術語“高折射指數(shù)介電層“在本發(fā)明意義上理解為其組成材料在550 nm波長測量的折射指數(shù)等于或者大于2. 2，甚至等于或者大于2. 3的層。這種在該波長測量的指數(shù)通常從用于在薄層疊層領域的通常材料的文獻已知。術語“接觸”在本發(fā)明意義中理解為沒有層被插入在高折射指數(shù)層和金屬功能層之間。在這種情況下，因此不存在阻隔涂層。術語“接近“在本發(fā)明意義上理解為至少一個層被插入在該高折射指數(shù)層和金屬功能層之間，而該插入在高折射指數(shù)層和金屬功能層之間的層(或者所有的層)的物理厚度不超過10 nm。術語“光學厚度“在本發(fā)明意義上被理解為通常表示該層的物理(或者實際)厚度乘以通常其在550 nm測量的折射指數(shù)的乘積。術語“總光學厚度“在本發(fā)明意義中被理解為通常表示所討論的層的所有光學厚度的總和，該每個光學厚度如上面解釋地為該層的物理(或者實際)厚度乘以其通常在550 nm測量的折射指數(shù)的乘積。因此，下鄰減反射涂層的總光學厚度由這種設置在基材和金屬功能層之間或者在基材和下阻隔涂層(如果其存在)之間的涂層的介電層的所有光學厚度的總和構成。同樣地，上鄰減反射涂層的總光學厚度由這種設置在與基材相對側的金屬功能層上面的或者在上阻隔涂層(如果其存在)上面的涂層的介電層的所有光學厚度的總和構成。實際上，根據(jù)本發(fā)明，在下鄰或者上鄰減反射涂層內(nèi)，如果它是唯一高折射指數(shù)介電層，該高折射指數(shù)介電層的光學厚度，或者如果多個高折射指數(shù)介電層存在時，所有的高CN 102421720 A
說明書
3/11 頁 折射指數(shù)介電層的光學厚度的總和
-對于下鄰減反射涂層為該下鄰減反射涂層的總光學厚度的30-75%，包括端點值，甚至35-55%，包括端點值；和
-對于上鄰減反射涂層為該上鄰減反射涂層的總光學厚度的10-60%，包括端點值，甚至15-35%，包括端點值。因此根據(jù)本發(fā)明重要的是，高折射指數(shù)材料與金屬功能層接觸或者接近于金屬功能層(在該層的每側上)，和這種高折射指數(shù)材料為足夠量的(因此該百分比范圍的起點值)然而不是過高量的(因此該百分比范圍的末端值)。然而，已經(jīng)觀察到，一方面在上鄰減反射涂層中的和在下鄰減反射涂層中的高折射指數(shù)材料的最小厚度(分別地為10%和30%，甚至分別地15%和35%)之間，和在另一方面在上鄰減反射涂層中的高折射指數(shù)材料的和在下鄰減反射涂層中的高折射指數(shù)材料的最大厚度(分別地為60%和75%，甚至分別地35%和55%)之間存在一定不平衡。由于根據(jù)本發(fā)明的這種高折射指數(shù)材料的分布，因此可能限制高折射指數(shù)層的厚度。這些層在下鄰涂層中可以具有至少5 nm、甚至至少8 nm的物理厚度并且可以具有最多 25 nm、甚至最多20 nm、甚至最多16 nm、甚至最多14 nm的物理厚度，所有這些最小值可以與這些最大值組合。特別地，一方面位于下鄰減反射涂層中的高折射指數(shù)介電層或者所有的高折射指數(shù)介電層的總光學厚度因此可以為15-65 nm，包括端點值，甚至18-50 nm，包括端點值，在另一方面位于上鄰減反射涂層中的高折射指數(shù)介電層或者所有的高折射指數(shù)介電層的總光學厚度因此可以為8-60 nm，包括端點值，甚至12-35 nm，包括端點值，對于下鄰減反射涂層的這些范圍可以與對于上鄰減反射涂層的這些范圍組合。而且，令人驚訝地證實，高折射指數(shù)介電層的高折射指數(shù)材料優(yōu)選地主要在與金屬功能層下鄰的介電涂層中以使得高折射指數(shù)介電層或者所有的高折射指數(shù)介電層(它們位于下鄰減反射涂層中)的總光學厚度與高折射指數(shù)介電層或者所有的高折射指數(shù)介電層(它們位于上鄰減反射涂層中)的總光學厚度的比率為1.1-5(包括端點值)，甚至
1.2-4 (包括端點值)，甚至1. 3-3. 8 (包括端點值)。在下面被定義為R的這種比率特別地可以等于1.4或者1.5。每個高折射指數(shù)介電層的組成材料優(yōu)選地選自二氧化鈦、氧化鈮或者四氮化三硅(其用鋯摻雜，任選地還用Al摻雜)。通過冷反應性磁控管濺射沉積的薄層形式的二氧化鈦TiO2根據(jù)該層的結晶度 (其與沉積條件，如，例如冷沉積或者熱沉積有關)在550 nm具有2. 35-2. 5的指數(shù)，一對于指數(shù)的例子，參看刊登于雜志Applied Surface Science 175-176 Q001)第276-280 頁中名為“Spectroellipsometric characterization of materials for multilayer coatings"文獻。為薄層形式的氧化鈮Nb2O5 根據(jù)名為〃Characterization of sputtered and annealed niobium oxide films using spectroscopic ellipsometry, Rutherford backscattering spectrometry and X-ray diffraction〃的文獻在 550 nm 可以具有
2.25-2. 40的折射指數(shù)，該文獻刊登于雜志Thin Solid Film, 516 (2008)第8096-8100頁中。
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還可以參看專利申請EP 1 656 328 A2，其公開了用于減反射涂層的Si3N4Ji 層的制備并且在第12頁給出了根據(jù)ττ含量的Si3N4 = Zr的指數(shù)(和在第3頁的TW2和Nb2O5 的指數(shù))。根據(jù)本發(fā)明的高指數(shù)層可以不是嚴格地化學計量的，它們在氧化物情況下在氧方面可以是亞化學計量的或者超化學計量的和/或在氮化物情況下在氮方面可以是亞化學計量的或者超化學計量的。此外，為了獲得可接受的在高光透射、反射中性色和相對高的選擇性(即窗玻璃在可見光中的光透射IY與窗玻璃的太陽因子FS的比率，使得S= TLvis/FS)之間折衷，下鄰減反射涂層的光學厚度(nm)與上鄰減反射涂層的光學厚度(nm)的比率E優(yōu)選地使得 0. 4 < E < 0. 9或0. 5 < E < 0. 8。在一個特別的實施方案中，所述下鄰減反射涂層和所述上鄰減反射涂層每個包括至少一個基于四氮化三硅的介電層，其任選地用至少一種其它元素(如鋁)摻雜。在一個特別的實施方案中，該下鄰減反射涂層的最后層(最遠離基材的層)是基于任選地用至少一種其它元素(如鋁)摻雜的氧化物的潤濕層(couche de mouillage)，尤其基于氧化鋅的潤濕層。在一個特別的實施方案中，該下鄰減反射涂層包括至少一個基于氮化物，尤其基于四氮化三硅和/或氮化鋁的介電層和至少一個由混合氧化物制成的非結晶光滑層 (couche de lissage)，所述光滑層與結晶的上鄰潤濕層接觸。優(yōu)選地，該下阻隔涂層和/或上阻隔涂層包括基于鎳或者鈦的薄層，其具有物理厚度 e，使得 0. 2nm ^ e ^ 1. 8nm。在一種特別形式中，至少一個鎳基薄層，尤其上阻隔涂層的鎳基薄層包括鉻，優(yōu)選地包括按質量計80%Ni和20%Cr。在另一種特別的形式中，至少一個鎳基薄層，尤其上阻隔涂層的鎳基薄層包括鈦， 優(yōu)選地包括按質量計50%Ni和50%Ti。而且，下阻隔涂層和/或上阻隔涂層可以包括至少一個以金屬形式存在的鎳基薄層(如果提供有薄層疊層的基材在沉積該疊層之后還沒經(jīng)受彎曲和/或淬火熱處理)，這種層至少部分地被氧化(如果提供有薄層疊層的基材在沉積該疊層之后已經(jīng)受過至少一種彎曲和/或淬火熱處理)。下阻隔涂層的鎳基薄層和/或上阻隔涂層的鎳基薄層，當它們存在時，優(yōu)選地與功能層直接接觸。該上鄰減反射涂層的最后層(最遠離基材的層)優(yōu)選地基于氧化物，優(yōu)選地以亞化學計量進行沉積，尤其基于氧化鈦(TiOx)或者基于混合氧化鋅錫(SnaiOx),任選地用最多10質量％量的另一種元素摻雜。該疊層因此可以包括最后層(英文為“overcoat”)，即保護層。這種保護層優(yōu)選地具有0. 5-10 nm的物理厚度。根據(jù)本發(fā)明的窗玻璃至少包括帶有根據(jù)本發(fā)明的疊層的基材，其任選地與至少一個其它基材結合。每個基底可以是明亮的或者著色的。至少一個基材可以特別地用主體著色玻璃制成。著色類型將根據(jù)對于窗玻璃希望的光透射水平和/或比色外觀(一旦完成它的制備時)選擇。
根據(jù)本發(fā)明的窗玻璃片可以具有層壓結構，特別地使至少兩個玻璃類型的剛性基底與至少一個熱塑性聚合物片結合的層壓結構，以便具有以下類型的結構玻璃/薄層疊層/ 一個或多個片/玻璃。該聚合物特別地可以基于聚乙烯醇縮丁醛PVB、乙烯基醋酸乙烯酯EVA、聚對苯二甲酸乙二醇酯PET、聚氯乙烯PVC。而且，該窗玻璃可以具有以下類型的結構玻璃/薄層疊層/ 一個或多個聚合物片。根據(jù)本發(fā)明的窗玻璃能夠經(jīng)受熱處理而不損壞薄層疊層。任選地，它們因此進行彎曲和/或淬火。窗玻璃由于單個基材構成，可以進行彎曲和/或淬火，該基材提供有疊層。這時其是被稱為“單片“的窗玻璃。如果它們進行彎曲，尤其為了構成車輛窗戶，該薄層疊層優(yōu)選地位于至少部分非平面的面上。該窗玻璃還可以是多層玻璃窗，特別地雙層窗玻璃，至少該攜帶疊層的基材可以進行彎曲和/或淬火。在多重窗玻璃構造中該疊層優(yōu)選地被設置以面對中間充氣腔的一側。在層壓結構中，該疊層可以與該聚合物片接觸。該窗玻璃還可以是由三個由充氣腔成對分開的玻璃板組成的三層窗玻璃。在三重窗玻璃結構中，當認為日光的入射方向以面的編號遞增次序穿過所述面時，攜帶該疊層的基材可以是在面2和/或面5上。當窗玻璃是單片或者雙層窗玻璃，三層窗玻璃或者層壓窗玻璃類型的多層窗玻璃時，至少該攜帶疊層的基材可以由彎曲或者淬火玻璃制成，這種基材可以在沉積該疊層之前或之后可以進行彎曲或者淬火。當這種窗玻璃以雙層窗玻璃進行安裝時，優(yōu)選地其具有選擇性S > 1.3，甚至 S彡1. 4，或S彡1. 5甚至S>1. 5。本發(fā)明還涉及根據(jù)本發(fā)明的基材用于生產(chǎn)雙層窗玻璃的用途，該雙層窗玻璃具有選擇性S彡1. 3，甚至S>1. 4，或S彡1. 5甚至S>1. 5。根據(jù)本發(fā)明的基材特別地可以用于生產(chǎn)加熱性窗玻璃或者電致變色窗玻璃或者照明裝置或者顯示設備或者光伏電池的透明電極。有利地，本發(fā)明因此可以制備包括單功能層的薄層疊層，其在多層窗玻璃(尤其雙層窗玻璃)構造中具有高選擇性(s ^ 1. 35)，低發(fā)射率(ε N < 3%)和吸引人的美學外觀(TLvis彡70%, RLvis彡25%，反射中性色)。根據(jù)本發(fā)明的單功能層疊層制造成本比具有相似特征的雙功能層疊層更低。本發(fā)明的細節(jié)和有利特征由以下通過本文附

圖1圖示的和通過圖2圖示的以下非限制性實施例顯露出來，附圖1圖示包括沉積在基材10上的根據(jù)本發(fā)明的單一功能層的疊層12，其中該功能層被提供有下阻隔涂層和上阻隔涂層，并且該疊層此外提供有任選的保護涂層，圖2圖示由兩個玻璃板構成的雙層窗玻璃(DGU) 1的制備，每個玻璃板構成基材10、 30，并通過中間充氣腔15進行分隔。玻璃板之一，離該建筑物內(nèi)部最遠的板(當考慮通過從左向右指向該圖的雙邊箭頭圖示的進入該建筑物的日光入射方向時)構成基材10，其在它的朝向中間充氣腔的內(nèi)表面9上涂敷有由單功能層疊層12組成的絕緣涂層(該單功能層疊層因此在雙層窗玻璃的稱為“面3"的內(nèi)部面上)；基材10的外部面11不用任何薄層疊層涂覆。
其它玻璃板，基材30，在它朝向中間充氣腔的內(nèi)表面31上不用絕緣涂層涂敷該最遠離該建筑物外部的板(當考慮日光的入射方向時)；它的外表面四(被稱為“面1")可以例如用自消潔涂層涂覆。在這些附圖中，沒有嚴格地遵循不同層的厚度之間的比例以便更容易觀察它們。而且，在以下所有實施例中薄層疊層12被沉積在由明亮的鈉鈣玻璃制成的具有4 mm厚度的基材10上(來自Saint-Gobain的PLANILUX)。此外，對于這些實施例，在向該基材施加熱處理的任何情況下，其為在約620°C的溫度進行約8分鐘的退火操作，然后冷卻至室溫(約20°C)以便模擬彎曲或者淬火熱處理。對于以下所有實施例，在組裝為雙層窗玻璃形式的情況下，如在圖2中圖示地，薄層疊層被設置在面3 (即，當考慮進入該建筑物中的日光的入射方向時，在最遠離該建筑物外部的板上，在它朝向充氣腔的面)上，，其具有以下構造4-16 (90%Ar)-4，即由兩個4 mm 透明玻璃板(其每個構成通過包含90%氬氣和10%空氣的厚16 mm的中間充氣腔15分隔的基材10、30)構成，該整個裝配件通過框架結構保持在一起。圖1圖示了沉積在透明玻璃基材10上的單功能層疊層的結構，其中單一功能層40 被設置在兩個減反射涂層(即在基材10方向上位于功能層40下方的下鄰減反射涂層20 和在與基材10相對側上位于功能層40上面的上鄰減反射涂層60)之間。這兩個減反射涂層20、60每個包含至少一個介電層21、22、M、26 ；62、64、66、68、 69。任選地，一方面功能層40可以被沉積在設置于下鄰減反射涂層20和功能層40之間的下阻隔涂層30上方，和在另一方面功能層40可以被直接地沉積在設置于功能層40和上鄰減反射涂層60之間的上阻隔涂層50下方。在圖1上觀察到下減反射涂層20包括四個減反射涂層21、22、M和沈，上減反射涂層60包括四個減反射涂層62、64、66、68和該減反射涂層60以任選的保護層69，特別地基于氧化物(尤其亞化學計量氧)的保護層終止。根據(jù)本發(fā)明，每個減反射涂層20、60包括至少一個與功能層40接近或者接觸設置的高折射指數(shù)介電層對、64，和一方面，該位于下鄰減反射涂層20中的高折射指數(shù)介電層 24或者所有的高折射指數(shù)介電層的總光學厚度％占下鄰減反射涂層20的總光學厚度％。 的30-75%，另一方面，該位于上鄰減反射涂層60中的高折射指數(shù)介電層64和所有的高折射指數(shù)介電層的總光學厚度％占該上鄰減反射涂層60的總光學厚度e6(l的10-60%。而且，每個減反射涂層20、60優(yōu)選地包括至少一個與功能層40接近或者接觸設置的高折射指數(shù)介電層對、64，和一方面，該位于下鄰減反射涂層20中的高折射指數(shù)介電層 24或者所有的高折射指數(shù)介電層的總光學厚度％占下鄰減反射涂層20的總光學厚度％。 的35-55%，另一方面，該位于上鄰減反射涂層60中的高折射指數(shù)介電層64或所有的高折射指數(shù)介電層的總光學厚度％占該上鄰減反射涂層60的總光學厚度e6(l的15-55%。此外，優(yōu)選地該下鄰減反射涂層20的以納米表示的光學厚度與該上鄰減反射涂層60的以納米表示的光學厚度e6(l的比E優(yōu)選地使得
0. 4 ≤ E ≤ 0. 9，或 0. 5 ≤ E ≤ 0. 8。首先進行了數(shù)值模擬(下面給出的根據(jù)本發(fā)明的實施例1-3和不根據(jù)本發(fā)明的對比例9-13)，然后實際上沉積兩個薄層疊層實施例1和對比例11。
權利要求
1.透明基材(10)，其在主要面上被提供有包括在紅外線和/或在日光輻射中具有反射性質的金屬功能層(40)，尤其基于銀或者含銀金屬合金的金屬功能層，和兩個減反射涂層00，60)的薄層疊層，所述涂層每個包括至少兩個介電層02，24，26; 62，64，66， 68)，所述功能層00)被設置在兩個減反射涂層00，60)之間，其中一方面該功能層GO) 任選地被直接地沉積在下阻隔涂層(30)上方，該下阻隔涂層(30)被設置在下鄰減反射涂層O0)和功能層00)之間，和另一方面該功能層GO)被任選地直接地沉積在上阻隔涂層 (50)下方，該上阻隔涂層(50)被設置在功能層GO)和上鄰減反射涂層(60)之間，特征在于每個減反射涂層00，60)包括至少一個與功能層G0)接觸或者接近設置的高折射指數(shù)介電層04，64)，和特征還在于，一方面位于下鄰減反射涂層O0)中的高折射指數(shù)介電層 (24)的或者所有高折射指數(shù)介電層的總光學厚度％占這種下鄰減反射涂層OO)的總光學厚度的30-75%，和另一方面位于上鄰減反射涂層(60)中的高折射指數(shù)介電層(64)或者所有高折射指數(shù)介電層的總光學厚度％占這種上鄰減反射涂層(60)的總光學厚度e6(1的10-60%ο
2.根據(jù)權利要求1的基材(10)，特征在于高折射指數(shù)介電層04，64)的高折射指數(shù)材料主要在與金屬功能層G0)下鄰的介電涂層O0)中，以使得位于下鄰減反射涂層O0)中的高折射指數(shù)介電層04)或者所有的高折射指數(shù)介電層的總光學厚度％與位于上鄰減反射涂層(60)中的高折射指數(shù)介電層(64)或者所有的高折射指數(shù)介電層的總光學厚度％的比率R=e2/e6為1. 1-5，包括端點值，甚至1. 2_4，包括端點值。
3.根據(jù)權利要求1或2的基材(10)，特征在于每個高折射指數(shù)介電層04，64)的組成材料選自二氧化鈦、氧化鈮、用鋯摻雜的四氮化三硅，其任選地還用Al摻雜。
4.根據(jù)權利要求1-3任一項的基材(10)，特征在于下鄰減反射涂層OO)以nm計的光學厚度與上鄰減反射涂層(60)以nm計的光學厚度的比率E使得0. 4彡E彡0. 9 或0. 5彡E彡0. 8。
5.根據(jù)權利要求1-4任一項的基材(10)，特征在于所述下鄰減反射涂層O0)和上鄰減反射涂層(60)每個包括至少一個基于四氮化三硅的介電層02，66)，其任選地用至少一種其它元素，如鋁摻雜。
6.根據(jù)權利要求1-5任一項的基材(10)，特征在于該下鄰減反射涂層OO)的最后層， 最遠離基材的層，是基于任選地用至少一種其它元素，如鋁摻雜的氧化物的，尤其基于氧化鋅的潤濕層06)。
7.根據(jù)權利要求1-6任一項的基材(10)，特征在于該下鄰減反射涂層OO)包括至少一個基于氮化物，尤其基于四氮化三硅和/或氮化鋁的介電層0 和至少一個由混合氧化物制成的非結晶光滑層(M)，其中所述光滑層04)與結晶的上鄰潤濕層06)接觸。
8.根據(jù)權利要求1-7任一項的基材(10)，特征在于該上鄰減反射涂層(60)的最后層， 最遠離基材的層，基于氧化物，優(yōu)選地以亞化學計量進行沉積，尤其基于氧化鈦(TiOx)或者基于混合氧化鋅錫(SnaiOx)。
9.包括至少一個根據(jù)權利要求1-8任一項的基材(10)的窗玻璃(1)，該基材(10)任選地與至少一個其它基材結合。
10.根據(jù)權利要求9的窗玻璃(1)，其以單片或雙層窗玻璃或三層窗玻璃或層壓窗玻璃類型的多層窗玻璃形式安裝，特征在于至少一個帶有疊層的基材進行彎曲和/或淬火。
11.以雙層窗玻璃形式安裝的根據(jù)權利要求9或10的窗玻璃(1)，特征在于其具有選擇性S彡1.3，甚至S>1.4，或S彡1.5。
12.根據(jù)權利要求1-8任一項的基材的用途，其用于生產(chǎn)加熱性窗玻璃或者電致變色窗玻璃或者照明裝置或者顯示設備或者光伏電池的透明電極。
全文摘要
本發(fā)明涉及玻璃基材(10)，其在主要面上被提供有包括在紅外線和/或在日光輻射中具有反射性質的金屬功能層(40)，尤其基于銀或者含銀金屬合金的金屬功能層，和兩個減反射涂層(20,60)的薄層疊層，所述減反射涂層每個包括至少兩個介電層(22,24,26;62,64,66)，所述功能層(40)被設置在兩個減反射涂層(20,60)之間，特征在于每個減反射涂層(20,60)包含至少一個與功能層(40)接觸或接近設置的高折射指數(shù)介電層(24,64)，即離功能層(40)10nm以下。
文檔編號C03C17/36GK102421720SQ201080020382
公開日2012年4月18日 申請日期2010年3月8日 優(yōu)先權日2009年3月9日
發(fā)明者熱拉爾丹 H., 雷蒙 V. 申請人:法國圣戈班玻璃廠