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      透明導電玻璃的制作方法

      文檔序號:1847713閱讀:347來源:國知局
      專利名稱:透明導電玻璃的制作方法
      技術領域
      本發(fā)明涉及ー種透明導電膜玻璃,尤其是顯示屏用導電玻璃,具體地說是ー種具有高透光率的透明導電玻璃。
      背景技術
      透明導電玻璃,是以玻璃為基片,鍍以氧化物、金屬或氧化物復合膜,透明導電玻璃不僅具有導電性,同時具有透光性,具有廣泛的應用前景。目前,透明導電玻璃主要應用于平板顯示器。通常在玻璃的表面從內至外依次設有ニ氧化硅膜SiO2和氧化銦、錫ITO的三層式玻璃結構;導電性好,但是,存在透光率不高 的問題,其可見光平均透射率(含I. I mm厚玻璃基底)小于89%,使得在制造IXD液晶顯示器的時候,使得器間顯示時清晰度降低。

      發(fā)明內容
      本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術中存在的問題,提出一種導電性好、透光率高的透明導電玻璃。本發(fā)明的技術方案是
      ー種透明導電玻璃,在玻璃的表面從內至外依次設有第一ニ氧化硅膜SiO2、ニ氧化鈦膜TiO2、第二ニ氧化硅膜SiO2和氧化銦錫膜ΙΤ0。本發(fā)明的第一ニ氧化硅膜SiO2的厚度為20 nm— 35nm。本發(fā)明的ニ氧化鈦膜TiO2的厚度為150 nm— 250nm。本發(fā)明的第二ニ氧化硅膜SiO2的厚度為20 nm— 35nm。本發(fā)明的氧化銦錫膜ITO的厚度為2 nm— lOOnm。本發(fā)明的有益效果
      本發(fā)明由于采用了不同折射率的膜層,相互疊加,使得光線在通過膜層和玻璃以后,總的折射率降低,透射率増加。同時鍍制在多層膜層上的ITO膜導電性能増加,電阻值降低,采用這種膜系結構的玻璃制造出來的LCD液晶顯示器,器件透光率高,顯示的各個數(shù)值、圖像清晰、完美。本發(fā)明的采用五層式結構,導電性好、透光率高,可以使得透光率達到96%以上。


      圖I是本發(fā)明的結構示意圖。I、玻璃;2、第一ニ氧化硅膜SiO2 ;3、ニ氧化鈦膜TiO2 ;
      4、第二ニ氧化硅膜SiO2 ;5、氧化銦錫膜IT0。
      具體實施例方式下面結合附圖和實施例對本發(fā)明作進ー步的說明。如圖I所示,ー種透明導電玻璃,在玻璃(I)的表面從內至外依次設有第一ニ氧化硅膜SiO2 (2)、ニ氧化鈦膜TiO2 (3)、第二ニ氧化硅膜SiO2 (4)和氧化銦錫膜ITO (5)。本發(fā)明的第一ニ氧化硅膜SiO2 (2)的厚度為20 nm— 35nm。本發(fā)明的ニ氧化鈦膜TiO2 (3)的厚度為150 nm— 250nm。本發(fā)明的第二ニ氧化硅膜SiO2 (4)的厚度為20 nm— 35nm。本發(fā)明的氧化銦錫膜ITO (5)的厚度為2 nm 一 lOOnm。
      本發(fā)明的采用五層式結構,導電性好、透光率高,可以使得透光率達到96%以上。本發(fā)明未涉及部分均與現(xiàn)有技術相同或可采用現(xiàn)有技術加以實現(xiàn)。
      權利要求
      1.ー種透明導電玻璃,其特征是在玻璃(I)的表面從內至外依次設有第一ニ氧化硅膜SiO2 (2)、ニ氧化鈦膜TiO2 (3)、第二ニ氧化硅膜SiO2 (4)和氧化銦錫膜ITO (5)。
      2.根據(jù)權利要求I所述的透明導電玻璃,其特征是所述的第一ニ氧化硅膜SiO2(2)的厚度為 20 nm 一 35nm。
      3.根據(jù)權利要求I所述的透明導電玻璃,其特征是所述的ニ氧化鈦膜TiO2(3)的厚度為 150nm — 250nmo
      4.根據(jù)權利要求I所述的透明導電玻璃,其特征是所述的第二ニ氧化硅膜SiO2(4)的厚度為 20nm — 35nm。
      5.根據(jù)權利要求I所述的透明導電玻璃,其特征是所述的氧化銦錫膜ITO(5)的厚度為 2nm — IOOnm0
      全文摘要
      一種透明導電玻璃,在玻璃(1)的表面從內至外依次設有第一二氧化硅膜SiO2(2)、二氧化鈦膜TiO2(3)、第二二氧化硅膜SiO2(4)和氧化銦錫膜ITO(5)。本發(fā)明的采用五層式結構,導電性好、透光率高,可以使得透光率達到96%以上。
      文檔編號C03C17/34GK102674707SQ20111006083
      公開日2012年9月19日 申請日期2011年3月14日 優(yōu)先權日2011年3月14日
      發(fā)明者朱殿榮, 李俊 申請人:無錫康力電子有限公司
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