專利名稱：用于浮法玻璃的退火設(shè)備和退火方法
技術(shù)領(lǐng)域：
示例性實施方案涉及用于浮法玻璃的退火設(shè)備和退火方法，更具體地，涉及連續(xù)地對由浮法工藝(floating process)產(chǎn)生的玻璃帶進行退火的、用于浮法玻璃的退火設(shè)備和退火方法，其中改進了退火窯(Iehr)的窯輥的密封結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
通常，浮法玻璃制造系統(tǒng)將玻璃熔液連續(xù)地供應(yīng)到儲存在浮槽(float bath)中的金屬熔液(例如，錫熔液)上，形成具有一致寬度和厚度的條形(或帶形)玻璃帶，同時支撐玻璃熔液以浮在金屬熔液上，以及將玻璃帶拉向緊鄰浮槽的出口的退火窯，從而生產(chǎn)玻璃板。在此，金屬熔液可以例如為錫熔液或錫合金熔液，具有比玻璃熔液更大的比重。金屬熔液被容納在充滿還原性氫氣(H2)和/或氮氣(N2)的浮室中。另外，容納金屬熔液的浮槽在長度方向上是細長的，并且包括專門的防火材料。玻璃熔液從浮槽的上游側(cè)移動到下游側(cè)，并在金屬液的表面上成形為玻璃帶。然后，在設(shè)置于浮槽的下游側(cè)的分離位置點(下文稱為“離去點”)，通過安裝到浮渣箱(dross box)的提升輥將玻璃帶從金屬熔液向上提起，并且將提起的玻璃帶通過浮渣箱朝向退火窯傳送，以進行下一步驟。同時，具有預(yù)定寬度的連續(xù)玻璃帶被切割成具有預(yù)定大小的多塊板(被稱為“玻璃板”)。含有揮發(fā)性錫并被容納在浮槽中的氣體由于浮槽中的正壓力流向浮槽的下游側(cè)， 即流向浮渣箱。流向上述浮渣箱的氣體在錫熔液的表面或玻璃的表面產(chǎn)生缺陷，所述氣體在凝結(jié)后被帶至浮渣箱附近以及浮槽下游側(cè)的低溫區(qū)域(通常，在780°C或780°C以下產(chǎn)生浮渣)。另外，即使將浮槽的內(nèi)部保持正壓力，上述含有錫的氣體也可以流向浮槽的下游側(cè)穿過浮渣箱。在此過程中，包含在外界空氣中的氧氣可以與浮槽中的揮發(fā)性錫在相對低溫區(qū)域發(fā)生反應(yīng)；如果在此狀態(tài)下氣體凝結(jié)，則基于錫的浮動雜質(zhì)可以產(chǎn)生在錫的表面。在這種情況下，當(dāng)帶狀玻璃被提升輥提起并且被拉出浮槽時，附著到錫熔液的表面的基于錫的浮動雜質(zhì)與玻璃帶的底面一起被移動和拉走。這種基于錫的浮動雜質(zhì)可能污染浮渣箱以及污染在退火過程中使用的輥的表面。另外，如果玻璃移動穿過浮槽或者被退火，則基于錫的浮動雜質(zhì)可以是在底面形成雜質(zhì)的潛在因素。因此，基于錫的浮動雜質(zhì)可損害退火工作的安全性，并且損害過程穩(wěn)定性以及玻璃產(chǎn)品的質(zhì)量。另外，在傳統(tǒng)的浮法玻璃制造設(shè)備中，亞硫酸氣體被供入退火窯中。亞硫酸氣體降低玻璃帶的底部和窯輥之間的摩擦，從而防止玻璃產(chǎn)品產(chǎn)生缺陷。然而，由于窯輥和安裝有窯輥的退火窯的殼體之間的空間非常大，亞硫酸氣體可能泄漏到工作場地并危害人體。

發(fā)明內(nèi)容
示例性實施方案用來解決現(xiàn)有技術(shù)的問題，因此這些示例性實施方案旨在提供用于浮法玻璃的退火設(shè)備和退火方法，其中改進了退火窯的窯殼的密封結(jié)構(gòu)。一方面，示例性實施方案提供一種用于浮法玻璃的退火設(shè)備，該退火設(shè)備連續(xù)地對在浮槽中成形的玻璃帶進行退火，該退火設(shè)備包括窯殼，具有用于所述玻璃帶的入口和出口 ；多個窯輥，沿所述窯殼的寬度方向旋轉(zhuǎn)地安裝至所述窯殼；以及迷宮式(labyrinth) 密封件，分別安裝在所述窯輥和所述窯殼的側(cè)壁之間，以防止供入所述窯殼的亞硫酸氣體排出。所述退火設(shè)備還可以包括安裝至所述迷宮式密封件的收集嘴，所述收集嘴收集通過所述迷宮式密封件排出的亞硫酸氣體。另一方面，示例性實施方案提供一種用于浮法玻璃的退火方法，該退火方法在安裝有窯輥的窯殼中連續(xù)地對在浮槽中成形的玻璃帶進行退火，該退火方法包括將亞硫酸氣體供入所述窯殼以降低所述玻璃帶的底部和窯輥之間的摩擦，并減少出現(xiàn)在玻璃帶的表面的缺陷；以及通過安裝在所述窯輥的外圓周的迷宮式密封件來密封所述窯殼和所述窯輥之間的間隙，以使得供入所述窯殼的亞硫酸氣體不從所述間隙排出。所述退火方法還包括收集由所述迷宮式密封件密封的亞硫酸氣體。根據(jù)示例性實施方案的用于浮法玻璃的退火設(shè)備和退火方法在窯輥和殼體之間使用迷宮式密封件，以構(gòu)建用于收集泄漏氣體的結(jié)構(gòu)，以使得窯殼中的亞硫酸氣體基本不泄漏到工作場地，從而降低所用亞硫酸氣體的絕對量并防止環(huán)境污染。


從參照附圖對實施方案進行的以下描述中會明白本發(fā)明的其他目的和方面，在附圖中圖1是示意性地示出根據(jù)示例性實施方案的一種用于浮法玻璃的退火設(shè)備的側(cè)視圖；以及圖2是示意性地示出圖1中用于浮法玻璃的退火設(shè)備的剖視圖。
具體實施例方式在下文中，將參照附圖詳細描述根據(jù)示例性實施方案的用于浮法玻璃的退火設(shè)備和退火方法。在進行描述之前，應(yīng)理解，本說明書和附帶的權(quán)利要求書中所用的術(shù)語不應(yīng)理解為限制于通用含義和字典中的含義，而應(yīng)在允許發(fā)明人恰當(dāng)?shù)貫樾g(shù)語限定最好的解釋的原則基礎(chǔ)上，基于與本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容相對應(yīng)的含義和概念進行解釋。因此，本文中進行的描述僅是優(yōu)選實施例，僅起到說明目的，并不旨在限制本發(fā)明的范圍。因此，應(yīng)理解，在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以對本發(fā)明進行其他等同和改進。圖1是示意性地示出根據(jù)示例性實施方案的一種用于浮法玻璃的退火設(shè)備的側(cè)視圖；以及圖2示意性地示出圖1中用于浮法玻璃的退火設(shè)備的剖視圖。參見圖1和2，根據(jù)本實施方案的用于浮法玻璃的退火設(shè)備100包括窯殼130，該窯殼緊鄰浮渣箱(dross box) 120安裝，該浮渣箱用于拉出由浮槽(float kith) 110成形的玻璃帶G。多個窯輥132安裝至窯殼130。浮槽110儲存金屬熔液M，諸如錫熔液、錫合金液或類似物。金屬熔液M從浮槽110 的上游側(cè)(圖中左部)供應(yīng)并移動到下游側(cè)(圖中右部)。在該過程中，使玻璃帶成形。另外，金屬熔液M從浮槽110的上游側(cè)(由于浮槽110中的溫度梯度，上游側(cè)保持在相對高的溫度)浮動到下游側(cè)，并且也從浮槽110的中心浮動到其兩側(cè)。玻璃熔液G從上游側(cè)移動到下游側(cè)。在此之后，在離去點T0，朝浮室的頂部拉動玻璃熔液G遠離金屬熔液M的槽表面，并同時將玻璃熔液拉向浮渣箱120，以進行下一過程。浮槽110包括氮氣和氧氣的混合氣體。該混合氣體保持在比大氣壓力稍高的壓力。金屬熔液M和帶狀玻璃熔液G通過電加熱器(未示出)保持在約800°C至1300°C。玻璃熔液G是非堿性玻璃、鈉鈣玻璃或類似物。在浮槽110中產(chǎn)生金屬熔液M流動的原理或結(jié)構(gòu)、以及放置玻璃熔液G、使玻璃熔液G成形為帶狀、移動或排放玻璃熔液G的方法在現(xiàn)有技術(shù)中已公知為“浮法工藝(floating process)”，在此對它們不進行詳細描述。浮渣箱120緊鄰浮槽110的下游端布置。在浮渣箱120中布置有三個提升 (lift-out)輥122。提升輥122在下游側(cè)的分離位置處將玻璃熔液G從金屬熔液提起，以使得玻璃熔液G被供應(yīng)到布置在浮渣箱120的出口處的窯殼130，其中所述玻璃液G從浮槽 110的上游側(cè)供應(yīng)、在金屬熔液M的表面上移動并向浮槽110的下游側(cè)移動。提升輥122分別通過電機(未示出)以預(yù)定速度旋轉(zhuǎn)并相互間隔，處于不同的水平位置，以使得玻璃熔液 G可以容易拉出。窯殼130將在浮槽110中成形的玻璃帶G退火，所述玻璃帶G從浮槽110連續(xù)供應(yīng)。窯殼130具有入口 131和出口 133，穿過該入口 131供應(yīng)玻璃帶G，穿過該出口 133排出退火的玻璃帶G。窯殼130的內(nèi)部是密封的。多個窯輥132安裝在窯殼130的寬度方向上。另外，通過亞硫酸氣體供應(yīng)構(gòu)件140將亞硫酸氣體填充在窯殼130中，所述亞硫酸氣體供應(yīng)構(gòu)件140可以是管道型或軟管型。每個窯輥132的旋轉(zhuǎn)軸136被形成為穿過窯殼130 的側(cè)壁134，以使得旋轉(zhuǎn)軸136的兩端可以旋轉(zhuǎn)，同時被軸承135支撐在框架(未示出)上。 在此，窯輥132可以通過諸如電機的驅(qū)動源(未示出)而進行旋轉(zhuǎn)。迷宮式密封件150安裝在窯殼130的側(cè)壁134和窯輥132的旋轉(zhuǎn)軸136之間。迷宮式密封件150防止供入窯殼130的亞硫酸氣體從窯殼130排出。迷宮式密封件150以精巧復(fù)雜的圖案提供流體移動路徑，以防止流體直接泄漏。在該實施方案中，迷宮式通道 152(具有不均勻結(jié)構(gòu)并且平行于窯輥132的旋轉(zhuǎn)軸136布置)用作迷宮式密封件150。迷宮式密封件150具有緊鄰窯殼130的側(cè)壁134的第一表面154，以及可以安裝到第一表面 154的第一 0型環(huán)155。迷宮式密封件150還具有第二表面156和第二 0型環(huán)157，該第二表面156面向窯輥132的旋轉(zhuǎn)軸136，該第二 0型環(huán)157可以安裝到第二表面156。同時， 窯殼130是指用在普通浮法工藝中使用的“退火窯”，除非另有所指。在改進的實施方案中，形成在迷宮式密封件150中的通道152可以采用穿過密封件主體151而形成的任意通道，并且對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說顯而易見的是，可以使用本領(lǐng)域中已知或可能知道的任意迷宮式通道結(jié)構(gòu)。在根據(jù)該示例性實施方案的用于浮法玻璃的退火設(shè)備100中，迷宮式密封件150 還包括收集嘴160 ；通過迫使亞硫酸氣體泄漏的更慢或者借助于迷宮式密封件150的通道 152阻止泄漏，該收集嘴160用于收集可能通過窯殼130的側(cè)壁134的開口泄漏的亞硫酸氣
5體，以使得所收集的亞硫酸氣體被儲存在單獨的容器(未示出)中。收集嘴160可以與塞子(stopper)(未示出)一起安裝，所述塞子與迷宮式密封件150的通道152連通，并且選擇性地開啟或關(guān)閉；或者收集嘴160可以通過單獨路徑(未示出)與所述容器連接。雖然在圖2中僅是出窯殼130的一側(cè)，但是對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說顯而易見的是，迷宮式密封件150安裝在窯輥132的兩端。因此，迷宮式密封件150具有連接通道153，該連接通道穿過密封件主體151將收集嘴160與通道152連通。下文會描述根據(jù)示例性實施方案的用于浮法玻璃的退火方法。首先，將在浮槽110中成形的浮法玻璃帶G移動到窯殼130，窯輥132安裝到該窯殼。在該過程中，通過亞硫酸氣體供應(yīng)構(gòu)件140來供應(yīng)亞硫酸氣體，該亞硫酸氣體供應(yīng)構(gòu)件安裝至窯殼130的下部。亞硫酸氣體降低浮法玻璃帶G的底部和窯輥132之間的摩擦，并減少在浮法玻璃帶G的表面上產(chǎn)生的缺陷。然后，供入窯殼130的亞硫酸氣體可以通過窯輥132和窯殼130的側(cè)壁134之間的間隙排出。然而，安裝在窯輥132的外圓周表面的迷宮式密封件150將該間隙密封并且防止亞硫酸氣體自由排出。另外，由迷宮式密封件150密封且通過密封件主體151的通道152泄漏的亞硫酸氣體可以通過收集嘴160收集，并且被送到一容器(未示出)。根據(jù)一改進的實施方案，迷宮式密封件150也可以安裝在提升輥122(其安裝至浮渣箱120)和浮渣箱的外壁之間，如對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說顯而易見的。本發(fā)明已得到詳細描述。然而，應(yīng)理解，上面的詳細描述以及具體實施例，雖然代表本發(fā)明的優(yōu)選實施方案，但僅作為舉例的方式給出，這是因為通過上述詳細描述，在本發(fā)明的范圍內(nèi)進行各種改變和改進對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是顯而易見的。
權(quán)利要求
1.一種用于浮法玻璃的退火設(shè)備，該退火設(shè)備連續(xù)地對在浮槽中成形的玻璃帶進行退火，該退火設(shè)備包括窯殼，具有用于所述玻璃帶的入口和出口；多個窯輥，沿所述窯殼的寬度方向旋轉(zhuǎn)地安裝至所述窯殼；以及迷宮式密封件，分別安裝在所述窯輥和所述窯殼的側(cè)壁之間，以防止供入所述窯殼的亞硫酸氣體排出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于浮法玻璃的退火設(shè)備，還包括安裝至所述迷宮式密封件的收集嘴，所述收集嘴收集通過所述迷宮式密封件排出的亞硫酸氣體。
3.一種用于浮法玻璃的退火方法，該退火方法在安裝有窯輥的窯殼中連續(xù)地對在浮槽中成形的玻璃帶進行退火，該退火方法包括將亞硫酸氣體供入所述窯殼以降低所述玻璃帶的底部和窯輥之間的摩擦，并減少出現(xiàn)在玻璃帶的表面的缺陷；以及通過安裝在所述窯輥的外圓周的迷宮式密封件來密封所述窯殼和所述窯輥之間的間隙，以使得供入所述窯殼的亞硫酸氣體不從所述間隙排出。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于浮法玻璃的退火方法，還包括收集由所述迷宮式密封件密封的亞硫酸氣體。
5.一種根據(jù)權(quán)利要求3或4所述方法制造的浮法玻璃。
全文摘要
一種用于浮法玻璃的退火設(shè)備，其連續(xù)地對在浮槽中成形的玻璃帶進行退火。該退火設(shè)備包括窯殼，具有用于所述玻璃帶的入口和出口；多個窯輥，沿所述窯殼的寬度方向旋轉(zhuǎn)地安裝至所述窯殼；以及迷宮式密封件，分別安裝在所述窯輥和所述窯殼的側(cè)壁之間，以防止供入所述窯殼的亞硫酸氣體排出。
文檔編號C03B25/00GK102260038SQ20111014534
公開日2011年11月30日 申請日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月31日
發(fā)明者樸熙俊, 申東信, 羅相業(yè), 金于賢, 金吉鎬, 金洋漢, 韓鎮(zhèn) 申請人:株式會社Lg化學(xué)