專利名稱：將陶瓷靶應(yīng)用于磁控濺射鍍膜玻璃的生產(chǎn)工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜玻璃的生產(chǎn)工藝，特別地涉及一種將陶瓷靶應(yīng)用于磁控濺射鍍膜玻璃的生產(chǎn)工藝。
背景技術(shù)：
以往生產(chǎn)鍍膜玻璃采用的都是金屬靶材及非金屬靶靶材，現(xiàn)有的技術(shù)采用金屬靶及非金屬靶進行濺射，并在鍍膜時要同時沖入反應(yīng)氣體及工作氣體?，F(xiàn)有的技術(shù)要將金屬靶、非金屬靶濺射成化合物時，必須同時充入反應(yīng)氣體和工作氣體兩種氣體，容易導(dǎo)致不好控制兩種氣體比例的弊端。濺射效率低下，調(diào)節(jié)工藝復(fù)雜繁瑣，不易操作。成本高，耗能大， 特別是需要投入大量人力。制造時的穩(wěn)定性差，成品玻璃均勻性差，光澤度不好，膜層不夠牢固。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種生產(chǎn)LOW-E低輻射鍍膜玻璃的一種陶瓷靶技術(shù)，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的弊端。本發(fā)明所述的鍍膜玻璃的生產(chǎn)工藝的創(chuàng)新點在于(1)使用陶瓷靶。(2)把陶瓷靶鍍膜室抽真空至1. 1 X 10-4pa以下，充入工作氣體Ar，使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0. 3pa左右，向濺射源送電，靶材開始濺射，送入玻璃，將靶材原子或其它化合物沉積到玻璃表面。在實際生產(chǎn)運用時，可以根據(jù)鍍膜玻璃的具體工藝，選擇不同的靶材與陶瓷靶相配合進行鍍膜，生產(chǎn)出不同工藝的鍍膜玻璃。采取這種工藝的好處在于1、提高濺射效率，約為使用普通反映濺射的2 3倍。2、不需要充入反應(yīng)氣體和工作氣體兩種氣體，不必再擔(dān)心不好控制兩種氣體比例。3、調(diào)節(jié)工藝簡單，易操作。4、成本底，節(jié)能，特別是節(jié)省人力資本。5、制造時的穩(wěn)定性好、成品玻璃的均勻性及光澤度好、膜層更加牢固。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)本發(fā)明公開的內(nèi)容和所掌握的本領(lǐng)域技術(shù)對本發(fā)明的內(nèi)容作出替換或變型，但是這些替換或變型都不應(yīng)視為脫離本發(fā)明構(gòu)思的，這些替換或變型均在本發(fā)明要求保護的權(quán)利范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1. 一種磁控濺射鍍膜玻璃的生產(chǎn)工藝，其特征在于使用陶瓷靶，在生產(chǎn)時把陶瓷靶鍍膜室抽真空至1. 1 X IO-4Pa以下，充入工作氣體Ar，使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0. 3pa左右，向濺射源送電，靶材開始濺射，送入玻璃，將靶材原子或其它化合物沉積到玻璃表面。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種磁控濺射鍍膜玻璃的生產(chǎn)工藝，其特征在于使用陶瓷靶，在生產(chǎn)時把陶瓷靶鍍膜室抽真空至1.1×10-4Pa以下，充入工作氣體Ar，使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0.3Pa左右，向濺射源送電，靶材開始濺射，送入玻璃，將靶材原子或其它化合物沉積到玻璃表面。這種生產(chǎn)工藝不需要充入反應(yīng)氣體和工作氣體兩種氣體，易操作，成本低，提高濺射效率，約為普通反映濺射效率的2～3倍，成品玻璃的均勻性及光澤度好，膜層更加牢固。
文檔編號C03C17/22GK102351428SQ20111017065
公開日2012年2月15日 申請日期2011年6月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月23日
發(fā)明者王進東 申請人:江蘇宇天港玻新材料有限公司