專利名稱：雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種低輻射鍍膜玻璃，尤其是可進行鋼化處理的雙銀低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
玻璃是建筑領(lǐng)域不可或缺的組成部分，承擔(dān)著許多重要的功能，包括美化建筑物、 采光以及給室內(nèi)帶來開闊的視野等。但是普通玻璃陽光透過率很高，紅外反射率很低，大部分太陽光透過玻璃而進入室內(nèi)，從而加熱物體，而這些室內(nèi)物體的能量又會以輻射形式通過玻璃散失掉。鍍制低輻射膜的玻璃對常溫物體的紅外能量有較高的反射作用，這一特性使低輻射玻璃的傳熱系數(shù)大大降低，有效地改善了窗戶的保溫、隔熱性能。低輻射鍍膜玻璃通常采用離線磁控濺射法和在線氣相沉積法制備。離線低輻射鍍膜玻璃具有較低的輻射率、顏色多樣且可調(diào)性強等特點，因此被廣泛應(yīng)用在建筑玻璃領(lǐng)域。單銀Low-E玻璃通常具有較高的可見光透過率，同時又有很好的保溫性能，但是對太陽能的阻隔能力卻相對較弱，為了降低太陽能透過率，只能夠增加Ag層的厚度，這樣會導(dǎo)致可見光透過率大幅度降低。雙銀low-Ε玻璃兼具了高可見光透過率和低太陽能透過率的優(yōu)點，傳統(tǒng)的雙銀low-Ε玻璃不能進行鋼化或熱處理，原因在于在鋼化或熱處理過程中，Ag 會發(fā)生氧化而被破壞，導(dǎo)致電阻升高，進而失去低輻射性能，因此，這種低輻射玻璃必須采用先鋼化再鍍膜的生產(chǎn)方式，大大降低了鍍膜線的生產(chǎn)能力。
發(fā)明內(nèi)容為了解決現(xiàn)有雙銀低輻射玻璃存在的問題，本實用新型提供一種雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，該鍍膜玻璃不僅可以進行鋼化處理，還具有較低的太陽能透過率。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，該鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)自玻璃向外依次為玻璃基片，底層電介質(zhì)組合層，第一紅外反射Ag層，第一阻隔層，中間電介質(zhì)組合層，第二紅外反射Ag層，第二阻隔層和頂層電介質(zhì)組
I=I te ο所述的玻璃基片是透明或著色的浮法玻璃。所述的底層電介質(zhì)組合層是由金屬或非金屬的兩種或兩種以上的氧化物、氮化物或氮氧化物的構(gòu)成。所述底層電介質(zhì)組合層為Si3N4/ZnA10x層，厚度是lO-lOOnm。所述的中間電介質(zhì)組合層是由金屬或非金屬的兩種或兩種以上的氧化物、氮化物或氮氧化物的構(gòu)成，優(yōu)選Si3N4/ZnSn0x/ZnA10x，厚度是50_200nm。所述的頂層電介質(zhì)組合層是由金屬或非金屬的兩種或兩種以上的氧化物、氮化物或氮氧化物的構(gòu)成。所述的頂層電介質(zhì)組合層是ZnSnSbOX/Si3N4層，厚度是lO-lOOnm。所述的第一紅外反射Ag層和第二紅外反射Ag層的厚度是5-30nm。[0013]所述的第一阻隔層和第二阻隔層是金屬或合金，或金屬的氧化物或氮化物，或合金的氧化物或氮化物。所述的第一阻隔層和第二阻隔層是NiCrOx，厚度是0. 5-20nm。本實用新型的有益效果是，由于本實用新型的鍍膜玻璃采用復(fù)合介質(zhì)層結(jié)構(gòu)，并對各膜層進行合理安排，產(chǎn)品可以進行鋼化或熱處理，并在處理后能保持原有特性，該單片鍍膜玻璃的可見光透過率不低于70%，半球輻射率小于0. 05，太陽能透過率不高于38%， 可廣泛應(yīng)用于建筑玻璃領(lǐng)域。

圖1所示是本實用新型的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標記說明10-玻璃基片，20-底層電介質(zhì)組合層，30-第一紅外反射Ag層，40-第一阻隔層， 50-中間電介質(zhì)組合層，60-第二紅外反射Ag層，70-第二阻隔層，80-頂層電介質(zhì)組合層。
具體實施方式
為了使本實用新型的形狀、構(gòu)造以及特點能夠更好地被理解，以下將列舉較佳實施例并結(jié)合附圖進行詳細說明。由圖1可見，本實用新型提供的雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)自玻璃向外依次為玻璃基片10，底層電介質(zhì)組合層20，第一紅外反射Ag層30，第一阻隔層40，中間電介質(zhì)組合層50，第二紅外反射Ag層60，第二阻隔層70和頂層電介質(zhì)組合層80。所述的玻璃基片10是透明或著色的浮法玻璃。所述的底層電介質(zhì)組合層20是由金屬或非金屬的兩種或兩種以上的氧化物或氮化物或氮氧化物構(gòu)成，優(yōu)選Si3N4/ZnA10x(即下層Si3N4上層ΖηΑΙΟχ，下同)，厚度是 lO-lOOnm。Si3N4層可以有效阻擋鋼化或熱處理時，玻璃基片10本身釋放出的Na離子及O2 滲入Ag層，造成Ag的腐蝕和氧化；ZnAlOx層可以為Ag層提供有利的生長界面，提高Ag的導(dǎo)電性，降低半球輻射率，Si3N4/ZnA10x組合結(jié)構(gòu)還有利于降低整個膜系結(jié)構(gòu)的反射率，調(diào)整玻璃面的顏色。所述的中間電介質(zhì)組合層50是由金屬或非金屬的兩種或兩種以上的氧化物或氮化物或氮氧化物構(gòu)成，優(yōu)選Si3N4/ZnSn0x/ZnA10x，厚度是50_200nm。ZnSnOx的濺射速率相對較高，將ZnSnOx嵌入Si3N4/ZnA10x結(jié)構(gòu)中，還有利于提高膜層的機械、化學(xué)性能。所述的頂層電介質(zhì)組合層80是由金屬或非金屬的兩種或兩種以上的氧化物或氮化物或氮氧化物構(gòu)成，優(yōu)選ZnSnSb0x/Si3N4，厚度是10_100nm。ZnSnSb0x/Si3N4組合層可以調(diào)整鍍膜面的顏色，提高整個膜系的理化性能，如耐化學(xué)腐蝕性、耐磨性等，阻擋鋼化或熱處理時，空氣中的化學(xué)物質(zhì)或O2對Ag的侵蝕，減少氧化現(xiàn)象的發(fā)生。所述的第一紅外反射Ag層30和第二紅外反射Ag層60的厚度是5-30nm。所述的第一阻隔層40和第二阻隔層70是金屬或合金，或是金屬的氧化物或氮化物，或是合金的氧化物或氮化物，優(yōu)選Ni CrOx，厚度是0. 5-20nm。Ni CrOx層在鋼化或熱處理過程中，保護Ag層，防止Ag層氧化，同時延長保存周期。實施例1[0028]本雙銀可鋼化低輻射玻璃的膜層結(jié)構(gòu)玻璃基片/Si3N4/ZnAWX/Ag/NiCrOX/ Si 3N4/ZnSn0x/ZnA10x/Ag/NiCr0x/ZnSnSb0x/Si 3N4。本實例中，玻璃基片10為6mm厚建筑級透明浮法玻璃原片。本實例中，底層電介質(zhì)組合層20為Si3N4/ZnA10x層，厚度為50nm，Si3N4層是采用中頻交流電源加雙旋轉(zhuǎn)陰極在氬氮氣氛下沉積，ZnAlOx層是采用中頻交流電源加雙旋轉(zhuǎn)陰極在氬氮氣氛下沉積。本實例中，第一紅外反射Ag層30的厚度為lOnm，Ag層是采用直流電源加平面陰極在純氬氣氛下沉積。本實例中，第一阻隔層40為NiCrOx層，厚度為5nm，NiCrOx層是采用直流電源加平面陰極在氬氧氣氛下沉積。本實例中，中間電介質(zhì)組合層50為Si3N4/aiSn0x/ZnA10x層，厚度為80nm，Si3N4層是采用中頻交流電源加雙旋轉(zhuǎn)陰極在氬氮氣氛下沉積，ZnSnOx層是采用中頻交流電源加雙旋轉(zhuǎn)陰極在氬氮氣氛下沉積，ZnAlOx層是采用中頻交流電源加雙旋轉(zhuǎn)陰極在氬氮氣氛下沉積。本實例中，第二紅外反射Ag層60的厚度為13nm，Ag層是采用直流電源加平面陰極在純氬氣氛下沉積。本實例中，第二阻隔層70為NiCrOx層，厚度為5nm，NiCrOx層是采用直流電源加平面陰極在氬氧氣氛下沉積。本實例中，頂層電介質(zhì)組合層80為&Sr^bOx/Si3N4層，厚度為40nm，ZnSnSbOx層是采用中頻交流電源加雙旋轉(zhuǎn)陰極在氬氮氣氛下沉積，Si3N4層是采用中頻交流電源加雙旋轉(zhuǎn)陰極在氬氮氣氛下沉積。本實例中，雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的各項性能指標為鋼化后單片鍍膜玻璃可見光透過率70%，太陽能透過率36%，半球輻射率 0.036。6mm鍍膜+12Ar+6mm白玻中空玻璃可見光透過率60% ；可見光反射率10%;太陽能透過率30 %，傳熱系數(shù)1. 21 lW/m2 · K (夏季)/1. 360ff/m2 · K (冬季)。以上對本實用新型的描述是說明性的，而非限制性的，本專業(yè)技術(shù)人員理解，在權(quán)利要求限定的精神與范圍之內(nèi)可對其進行許多修改、變化或等效，但是它們都將落入本實用新型的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于該鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)自玻璃向外依次為玻璃基片，底層電介質(zhì)組合層，第一紅外反射Ag層，第一阻隔層，中間電介質(zhì)組合層，第二紅外反射Ag層，第二阻隔層和頂層電介質(zhì)組合層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的玻璃基片是透明或著色的浮法玻璃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述底層電介質(zhì)組合層為Si3N4/ZnA10x層，厚度是10-100nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的頂層電介質(zhì)組合層是ZnSnSbOx/Si3N4層，厚度是10_100nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的第一紅外反射Ag層和第二紅外反射Ag層的厚度是5-30nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的第一阻隔層和第二阻隔層是金屬或合金，或金屬的氧化物或氮化物，或合金的氧化物或氮化物。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的第一阻隔層和第二阻隔層是NiCrOx層，厚度是0. 5-20nm。
專利摘要一種雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃。該鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)為；玻璃基片，底層電介質(zhì)組合層，第一紅外反射Ag層，第一阻隔層，中間電介質(zhì)組合層，第二紅外反射Ag層，第二阻隔層，頂層電介質(zhì)組合層。該雙銀鍍膜玻璃可以進行鋼化處理，半球輻射率小于0.05，具有較高的遮蔽效果，可廣泛應(yīng)用于建筑玻璃領(lǐng)域。
文檔編號C03C17/36GK202181260SQ20112027698
公開日2012年4月4日 申請日期2011年8月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月1日
發(fā)明者施玉安, 郭爽 申請人:上海北玻玻璃技術(shù)工業(yè)有限公司, 上海北玻鍍膜技術(shù)工業(yè)有限公司, 洛陽北方玻璃技術(shù)股份有限公司