專利名稱：溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶平板玻璃生產(chǎn)中的溫度控制方法，特別涉及一種溢流下拉裝置中對玻璃液-固轉(zhuǎn)化區(qū)域的溫度控制方法。
背景技術(shù)：
溢流下拉法(熔融下拉法)是玻璃制備技術(shù)中生產(chǎn)玻璃板的一種方法。與其它工藝相比，例如，浮法和狹縫牽拉工藝，溢流下拉法生產(chǎn)出具有優(yōu)異平整度和光滑度表面的玻璃板，且不需使用二次成形工藝(研磨、拋光等)。在一種示例性的熔融下拉工藝中，玻璃熔體供應(yīng)給耐火材料制作的成形體中的
槽。熔融玻璃在槽的頂部溢出以形成兩塊半片玻璃板，玻璃板向下流動并隨后沿著成形體的外表面向下流動。兩塊板在成形體的底部或根部匯合，在那里它們?nèi)酆显谝黄鹦纬蓡螇K玻璃板。隨后單塊玻璃板供應(yīng)給拉引設(shè)備。通過由拉制設(shè)備將板牽拉離開成形體根部的速率和控制玻璃的溫度(粘度)來控制玻璃板的厚度、應(yīng)力、表面平整度等相關(guān)參數(shù)。在下拉工藝中，最終玻璃板的外表面將不會與成形體的外表面接觸。更確切地說，這些表面只能接觸大氣環(huán)境。形成最終玻璃板的兩塊半片玻璃板的內(nèi)表面確實接觸成形體,這些內(nèi)表面在成形體的根部熔合，隨后埋入最終玻璃板的主體內(nèi)，并獲得外表面性能優(yōu)異的最終玻璃板。熔融狀態(tài)的玻璃粘度隨溫度不同而變化，在玻璃寬度方向上，要保證溫度分布均勻，否則粘度不同會造成寬度方向的玻璃厚度不均，拉引時造成張力不同，從而產(chǎn)生局部應(yīng)力不同，造成整個玻璃板應(yīng)力不良?，F(xiàn)在玻璃板制作趨于大型化，在寬度方向可達(dá)到2000mm以上，這就要保證寬度方向的溫度均勻并且可調(diào)，成型設(shè)備的整個溫度場控制就十分重要。溢流下拉法的缺點在于，⑴控制形成玻璃板厚度、應(yīng)力、表面平整度等相關(guān)參數(shù)的手段有限。(2)即便在工藝條件穩(wěn)定時可以生產(chǎn)出合格的平板玻璃，但是在瞬態(tài)條件下恢復(fù)極為緩慢。(3)根據(jù)工藝控制的需要，在轉(zhuǎn)化區(qū)域引入壓縮空氣進(jìn)行調(diào)整，由于設(shè)備內(nèi)外溫度差較大，壓縮空氣會由于體積變化或“煙囪效應(yīng)”等原因，對設(shè)備內(nèi)穩(wěn)定的空氣環(huán)境產(chǎn)生不良擾動。所謂“煙囪效應(yīng)”是指，下部熱空氣受熱上升的同時，由于氣壓的作用，帶動附近區(qū)域內(nèi)的空氣流動，產(chǎn)生的氣流現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種溢流下拉法生產(chǎn)液晶平板玻璃的過程中，有利于玻璃液轉(zhuǎn)化為玻璃板的溫度控制方法。為達(dá)到以上目的，本發(fā)明是采取如下技術(shù)方案予以實現(xiàn)的一種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，均溫箱外的對稱兩側(cè)及上側(cè)空間構(gòu)成具有可分區(qū)的加熱腔體。其中，所述可分區(qū)的加熱腔體是采用添加隔板的方式實現(xiàn)的，具體為
a、對加熱腔體垂直方向上的分區(qū)；b、或水平方向上的分區(qū)；C、或者垂直和水平方向上同時分區(qū)；d、分區(qū)的數(shù)目大于等于二。所述加熱器分多個布置在均溫箱外的對稱兩側(cè)，選用碳化硅加熱體、硅鑰棒加熱體、鐵鉻鋁合金加熱體、鎳鉻合金加熱體之一。本發(fā)明另一種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，所述加熱器為碳化硅或硅鑰棒發(fā)熱體，分多個布置在均溫箱外的對稱兩側(cè)，每個發(fā)熱體沿溢流裝置寬度方向分成兩端的不發(fā)熱支撐部分，兩端內(nèi)側(cè)對稱的至少兩個發(fā)熱部分，以及位于中間的至少一個不發(fā)熱部分。 其中,所述不發(fā)熱部分的長度< 300mm ;相對于溢流裝置中心的偏心量< 300mm。本發(fā)明再一種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，所述均溫箱外對稱兩側(cè)及上側(cè)構(gòu)成加熱腔體，該加熱腔體外最下層的加熱器與溢流裝置根部的距離為X, 250mm ^ X ^ 400mm。其中，所述加熱器選用碳化娃加熱體、娃鑰棒加熱體、鐵鉻鋁合金加熱體、鎳鉻合金加熱體之一。本發(fā)明還有一種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，在溢流裝置與支撐裝置接觸的表面添加補(bǔ)償加熱器，該補(bǔ)償加熱器是按照支撐面及定位面進(jìn)行分組，分別控制。本發(fā)明再還有一種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，均溫箱外兩側(cè)下方對稱布置有以空氣為媒介來控制成形區(qū)域溫度的風(fēng)箱，該風(fēng)箱設(shè)計為整體式。 其中，所述風(fēng)箱設(shè)置在一個殼體中，在該殼體中風(fēng)箱下方設(shè)置有通風(fēng)過濾裝置。所述通風(fēng)過濾裝置為在風(fēng)箱的下方布置鋼板，鋼板上開有通氣孔，在通氣孔的進(jìn)風(fēng)處添加過濾網(wǎng)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點是，將均溫箱外側(cè)的加熱腔體分區(qū)后，可有效降低“煙囪效應(yīng)”造成的空氣對流及成型設(shè)備頂部溫度過高的不良狀況，提高了區(qū)域溫度控制的精確性。從而大大減小了調(diào)整工藝參數(shù)時對相鄰或成型區(qū)其它部位的不良擾動，減小了成型后整板不良品的產(chǎn)生。同時由于控制的精確性，提高了工藝的穩(wěn)定性及工藝調(diào)整時的及時響應(yīng)能力。加熱腔體中的加熱體進(jìn)行分段設(shè)計可有效地降低溢流裝置在生產(chǎn)中出現(xiàn)的中心相對于兩端溫度過高的不良狀況，提高了溢流裝置在水平方向上的溫度的均勻性。由于溢流裝置兩面的溢流玻璃液在底部(根部)熔合成一張玻璃板向下流動，在溢流裝置底部的溫度場對此熔合過程起到了至關(guān)重要的作用，本發(fā)明對于此處的加熱體布位提出了明確的參數(shù)，保證了溢流裝置底部的良好的溫度場。在溢流裝置與支撐裝置接觸的表面添加補(bǔ)償加熱器可補(bǔ)償由于溢流裝置接觸支撐裝置造成的溢流裝置兩端溫度下降的狀況，保證溢流裝置在水平方向的溫度場，進(jìn)而保證了相應(yīng)位置玻璃液的溫度和粘度。整體式風(fēng)箱設(shè)計的優(yōu)點在于保證了成型設(shè)備內(nèi)部的氣流穩(wěn)定性，降低了由于氣流擾動造成的設(shè)備內(nèi)部溫度場的變化和對于玻璃液的不良影響。通風(fēng)過濾裝置的優(yōu)點在于提供了一個良好的風(fēng)道，將引起成型設(shè)備內(nèi)部空氣環(huán)境擾動的氣流導(dǎo)出成型設(shè)備，減小擾動氣流對于成型環(huán)境的影響。


圖I為現(xiàn)有成形設(shè)備溫度控制示意圖。圖中A為溢流裝置；B為均熱箱；C為加熱器；D為風(fēng)箱；E為拉邊輪；S為引流面；K為控溫區(qū)域。圖2為本發(fā)明成形設(shè)備溫度控制的一個實例圖。圖3為成型設(shè)備內(nèi)部加熱體寬度方向布置示意圖。圖4為本發(fā)明成型設(shè)備內(nèi)部最下側(cè)加熱體布置示意圖。圖5為溢流裝置與支撐裝置的位置關(guān)系示意圖。圖6為本發(fā)明支撐裝置表面添加加熱器一個實例圖。圖7為已有成型設(shè)備的風(fēng)箱結(jié)構(gòu)示意圖。圖8為本發(fā)明成型設(shè)備的風(fēng)箱的結(jié)構(gòu)示意圖。圖9為本發(fā)明風(fēng)箱下方的通風(fēng)過濾裝置示意圖。圖中1、通氣孔；2、鋼板。
具體實施例方式以下結(jié)合附圖及具體實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。圖I所示為現(xiàn)有成型設(shè)備中玻璃液轉(zhuǎn)化過程中影響較大的部分。玻璃液從上部相關(guān)設(shè)備中流入溢流裝置A (成形體)中，流滿溢流槽后翻越槽壁沿溢流裝置兩側(cè)依靠重力的作用下流，在溢流裝置底部結(jié)合為整體，經(jīng)過拉邊輪E的工作，保證基板玻璃的均勻性及各種參數(shù)要求。在此過程中，由各加熱器C及風(fēng)箱D聯(lián)合調(diào)整均溫箱B空間溫度及輻射溫度，保證玻璃液轉(zhuǎn)換為基板玻璃的過程工藝達(dá)到較為理想的狀態(tài)。加熱器可以是碳化硅發(fā)熱體、硅鑰棒發(fā)熱體、鐵鉻鋁合金發(fā)熱體、鎳鉻合金發(fā)熱體等。在成型過程中，引流面S及玻璃液匯合處(溢流裝置根部)的控溫區(qū)域K的溫度對于玻璃液轉(zhuǎn)化為玻璃板的均勻性密切相關(guān)。但是從圖I可以看出，控溫區(qū)域溫度升高時，由于空氣受熱上升，造成需要加熱的下部區(qū)域未能及時得到加熱，會產(chǎn)生時間上的延遲，同時，由于同樣的原因，不需加熱的上部被迫進(jìn)行了加熱，對于玻璃板的溢流產(chǎn)生不良影響。從圖2中可以看出，采用添加隔板的方式，將均溫箱外側(cè)的加熱腔體一分為三(下部區(qū)域I、III，上部區(qū)域II)，在對下部進(jìn)行加熱時，由于均熱箱外側(cè)兩對稱隔板的阻擋，空氣流動受到了阻止，可提高下部區(qū)域I、III溫度控制的能力。在采用了加熱腔體的分區(qū)域設(shè)計后，提高了溫度場控制的時效性，降低了調(diào)整加熱器時對相鄰區(qū)域的不良擾動。相對于與原先的整體式的加熱腔，避免了下部加熱器的功率提升對上部的溫度場的擾動，可以保證在調(diào)節(jié)過程中，加熱器的溫度控制作用的單獨的可控性。
應(yīng)該闡明的是本實施例中表述的加熱腔體的分區(qū)方式并不局限于分為三部分，也不局限于僅僅是垂直方向上的分區(qū)。對于加熱腔體的分區(qū)化設(shè)計都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍，可以是垂直或水平方向上的分區(qū)，也可以是兩個方向上同時分區(qū)，分區(qū)的數(shù)目大于等于2，均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。圖3-1顯示了原有的設(shè)計。在此設(shè)計中，加熱器C采用了連續(xù)發(fā)熱體的結(jié)構(gòu)，但是經(jīng)過試驗及計算機(jī)溫度場的模擬，可以發(fā)現(xiàn)，在采用連續(xù)發(fā)熱體時，由于玻璃液及溢流裝置兩端支撐裝置的原因，造成溢流裝置兩端支撐部位的熱量流失現(xiàn)象比中間部分大，但是在提高溢流裝置兩端的溫度時，也會連鎖反應(yīng)，造成溢流裝置中心的溫度升高，在此溫差達(dá)到一定程度后，引起成型不良的升高。為了保證溫度場的均勻，圖3-2顯示了改進(jìn)后的設(shè)計。對于加熱器進(jìn)行了分段設(shè)計(沿玻璃寬度方向的)，即將加熱器分解為至少5部分的不連續(xù)發(fā)熱體，兩端的不發(fā)熱支撐部分，至少兩個發(fā)熱部分，位于發(fā)熱體中間的至少一個不發(fā)熱部分N，N的長度< 300mm，相對于溢流裝置中心的偏心量< 300mm。 改進(jìn)后，可以避免在補(bǔ)償溢流裝置兩端的溫度時，造成的溢流裝置中間部位的溫度附帶升高的干擾。如圖4所示，在溢流下拉法中，玻璃液沿溢流裝置兩邊的外表面向下流動，至溢流裝置的底部熔合為一張玻璃板，在重力及拉邊輪的作用下向下運(yùn)動，逐步降溫轉(zhuǎn)化固態(tài)的玻璃板，在這其中，溢流裝置底部的溫度場起到了舉足輕重的作用。而溢流裝置在整個高度的方位內(nèi)都需要有加熱體對側(cè)面進(jìn)行加熱，但是只有最下側(cè)加熱體對溢流裝置底部斜面及底部溢流匯合邊部加熱作用最大。經(jīng)過現(xiàn)場實踐及數(shù)學(xué)模擬，最下側(cè)碳化硅加熱體應(yīng)盡量靠近溢流裝置底部，即距離X根據(jù)設(shè)備的具體條件應(yīng)在范圍內(nèi)取最小值，但是碳化硅加熱體距離均熱箱體的距離Y及均熱箱體于溢流裝置的距離Z由熱工輻射角度決定，更改后會造成局部加熱不均，進(jìn)而影響到對溢流裝置的溢流側(cè)面的加熱作用，綜合考慮以上因素，在保證了溢流裝置溢流側(cè)面的加熱能力的情況下，減少加熱體距離溢流裝置側(cè)面的距離不能無限制的減少，在此同時，只能同時調(diào)整碳化硅加熱體與溢流裝置下部的垂直距離W，才可以在保證了對溢流裝置底部的加熱能力并兼顧到對溢流裝置側(cè)面加熱的作用。分析數(shù)學(xué)模擬、試驗后得到，最下層加熱體距離溢流裝置底部距離X為250mm ^ X ^ 400mm.圖5表明了溢流裝置A與支撐裝置P的位置關(guān)系。在成型設(shè)備中，由于支撐裝置及部分保溫材料貼近溢流裝置的原因，造成溢流裝置兩端溫度的溫度流失高于溢流裝置中段，進(jìn)而造成玻璃液的溫度中間高，兩端低，會造成玻璃板成型過程中的厚度不勻及成型后內(nèi)應(yīng)力過大?？蓪χ窝b置與溢流裝置接觸的表面添加補(bǔ)償加熱器來進(jìn)行溫度補(bǔ)償，即在支撐裝置表面刻槽，埋入加熱器。原有的加熱器為一整體(即支撐面Pl與定位面P2的加熱器在控制上是一個單一的回路)，在調(diào)整其加熱功率時，會造成定位面的溫度過高。如圖6所示，本發(fā)明布置的補(bǔ)償加熱器是按照支撐面及定位面進(jìn)行分組，分別控制，即將加熱器分割為支撐面加熱器及定位面加熱器，分別進(jìn)行控制，可以單獨提升支撐面的加熱功率(在這一位置熱傳導(dǎo)造成的熱損失較大)，適當(dāng)提高定位面的加熱功率。甚至可以將定位面按照高度不同進(jìn)行加熱器分組，以達(dá)到精確控制溫度的目的。采用本發(fā)明添加加熱器進(jìn)行分組加熱與分組控制后，可以對相應(yīng)區(qū)域的熱損失進(jìn)行補(bǔ)償，同時可以達(dá)到精確補(bǔ)償控制的效果。溢流裝置兩端和中間段的溫度基本可以達(dá)到一致，對玻璃液的溫度控制達(dá)到工藝要求。如圖7所示，原設(shè)計風(fēng)箱為分體式，用三塊拼接而成，三塊之間臺階相搭接。雖提高制作精度及表面光潔度，但縫隙不能完全密封，存在漏氣現(xiàn)象，泄露的壓縮空氣會直接接觸玻璃板，對玻璃板的翹曲及應(yīng)力產(chǎn)生不良的擾動，同時由于氣流的帶動作用，造成局部區(qū)域溫度調(diào)整困難等問題的發(fā)生。新設(shè)計的風(fēng)箱為整體式，結(jié)構(gòu)如圖8所示，優(yōu)點有三一、解決面對玻璃板的縫隙不能完全密封，漏氣現(xiàn)象，避免了對相應(yīng)區(qū)域溫度的不良擾動；二、由于有效地控制了空氣的流動，降低了微塵顆粒等附著在玻璃板上的幾率；三、相對于原有結(jié)構(gòu)，降低了安裝要求，使得組裝維修更為容易。。
由于控溫區(qū)域的精確性要求較高，在此區(qū)域除加熱器外，引入了壓縮空氣對控溫區(qū)域的溫度進(jìn)行及時有效的修正、調(diào)整。但是由于設(shè)備內(nèi)外的溫度差及設(shè)備內(nèi)與引入的壓縮空氣的溫度差，引入的壓縮空氣在發(fā)生溫度的變化的同時也會造成體積的變化，由于體積的變化，會造成設(shè)備內(nèi)的氣壓處于非正常的正壓或負(fù)壓，微正壓是良好的工作環(huán)境，正壓過大，造成設(shè)備內(nèi)氣體流動激烈，嚴(yán)重影響成型質(zhì)量；負(fù)壓不但影響成型質(zhì)量，同時會將設(shè)備外的臟空氣帶入設(shè)備內(nèi)部，造成不良顆粒附著在玻璃板上。如圖9所示，成型設(shè)備中的風(fēng)箱設(shè)置在一個殼體中，在該殼體中風(fēng)箱下方設(shè)置有通風(fēng)過濾裝置。即在風(fēng)箱D的下方布置鋼板2，鋼板上開有通氣孔1，同時在通氣孔的進(jìn)風(fēng)處添加過濾網(wǎng)。這樣在設(shè)別內(nèi)部空氣壓力過高時，可以泄壓，壓力過低時，進(jìn)入干凈的空氣，使得設(shè)備內(nèi)部壓力很快升到微正壓狀態(tài)。同時控制了進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部的為潔凈空氣，降低了不良顆粒的附著。本發(fā)明不局限于以上獨立的實施例，可以將各實施例進(jìn)行不同組合來聯(lián)合控制成型設(shè)備內(nèi)的溫度場及氣體流動方向，提高溫度場的可控性。例如本發(fā)明方法可同時包括分區(qū)的加熱腔體、加熱器發(fā)熱體的分段設(shè)計、控制加熱腔體外最下層的加熱器與溢流裝置根部的距離、在溢流裝置與支撐裝置接觸的表面按照支撐面及定位面分別設(shè)置加熱器、在均溫箱外兩側(cè)下方通過一個殼體對稱布置整體式設(shè)計的風(fēng)箱、以及風(fēng)箱下方設(shè)置通風(fēng)過濾裝置。
權(quán)利要求
1.一種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，均溫箱外的對稱兩側(cè)及上側(cè)空間構(gòu)成具有可分區(qū)的加熱腔體。
2.如權(quán)利要求I所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述可分區(qū)的加熱腔體是采用添加隔板的方式實現(xiàn)的，具體為 a、對加熱腔體垂直方向上的分區(qū)； b、或水平方向上的分區(qū)； C、或者垂直和水平方向上同時分區(qū)； d、分區(qū)的數(shù)目大于等于二。
3.如權(quán)利要求I所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述加熱器分多個布置在均溫箱外的對稱兩側(cè)。
4.如權(quán)利要求3所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述加熱器選用碳化硅加熱體、硅鑰棒加熱體、鐵鉻鋁合金加熱體、鎳鉻合金加熱體之一。
5.一種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，所述加熱器為碳化硅或硅鑰棒發(fā)熱體，分多個布置在均溫箱外的對稱兩側(cè)，每個發(fā)熱體沿溢流裝置寬度方向分成兩端的不發(fā)熱支撐部分，兩端內(nèi)側(cè)對稱的至少兩個發(fā)熱部分，以及位于中間的至少一個不發(fā)熱部分。
6.如權(quán)利要求5所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述不發(fā)熱部分的長度< 300mm。
7.如權(quán)利要求5所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述不發(fā)熱部分相對于溢流裝置中心的偏心量< 300mm。
8.—種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，所述均溫箱外對稱兩側(cè)及上側(cè)構(gòu)成加熱腔體，該加熱腔體外最下層的加熱器與溢流裝置根部的距離為X, 250mm < X < 400mm。
9.如權(quán)利要求8所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述加熱器選用碳化硅加熱體、硅鑰棒加熱體、鐵鉻鋁合金加熱體、鎳鉻合金加熱體之一。
10.一種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，在溢流裝置與支撐裝置接觸的表面添加補(bǔ)償加熱器。
11.如權(quán)利要求10所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述補(bǔ)償加熱器是按照支撐面及定位面進(jìn)行分組，分別控制。
12.如權(quán)利要求10所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述布置在均溫箱外的加熱器選用碳化硅加熱體、硅鑰棒加熱體、鐵鉻鋁合金加熱體、鎳鉻合金加熱體之一。
13.—種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，包括溢流裝置、支撐裝置和加熱器，所述溢流裝置置于一個均溫箱內(nèi)，加熱器布置在均溫箱外，其特征在于，均溫箱外兩側(cè)下方對稱布置有以空氣為媒介來控制成形區(qū)域溫度的風(fēng)箱，該風(fēng)箱設(shè)計為整體式。
14.如權(quán)利要求13所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述風(fēng)箱設(shè)置在一個殼體中，在該殼體中風(fēng)箱下方設(shè)置有通風(fēng)過濾裝置。
15.如權(quán)利要求14所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述通風(fēng)過濾裝置為在風(fēng)箱的下方布置鋼板，鋼板上開有通氣孔，在通氣孔的進(jìn)風(fēng)處添加過濾網(wǎng)。
16.如權(quán)利要求13所述的溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，所述加熱器選用碳化硅加熱體、硅鑰棒加熱體、鐵鉻鋁合金加熱體、鎳鉻合金加熱體之 o
全文摘要
本發(fā)明公開了一種溢流下拉裝置中玻璃板成形區(qū)域溫度控制方法，其特征在于，采用添加隔板的方式，將加熱腔體分區(qū)，所述分區(qū)是指對加熱腔體垂直或水平方向上的分區(qū)，或者垂直和水平方向上同時分區(qū)，分區(qū)的數(shù)目大于等于二。此方法可保證成型區(qū)域玻璃液及玻璃板的溫度和環(huán)境溫度的可控性，達(dá)到控制平板玻璃成型后的翹曲及應(yīng)力不良的發(fā)生，提高基板玻璃的成型質(zhì)量的目的。
文檔編號C03B17/06GK102674661SQ20121009289
公開日2012年9月19日 申請日期2012年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月31日
發(fā)明者劉仲軍, 張棟 申請人:彩虹顯示器件股份有限公司