專利名稱：附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板。
背景技術(shù)：
如專利文獻(xiàn)I (日本特開2001-276759號公報(bào))所示，在以往用于液晶顯示器或等離子顯示器等顯示圖像用機(jī)器的玻璃基板的制造工藝中，玻璃基板成形后，為了去除附著在玻璃基板表面上的玻璃的微小粉末或磨料顆粒等異物，用酸性藥液或超聲波等對玻璃基板表面進(jìn)行清洗處理。專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開2001-276759號公報(bào)
實(shí)用新型內(nèi)容但是，即使完成玻璃基板表面的清洗處理后的玻璃基板的表面為清潔度高的狀態(tài)，之后在搬運(yùn)或保管玻璃基板時，異物或污垢會附著在玻璃基板的表面。其結(jié)果，在利用玻璃基板制造各種機(jī)器的階段，需要再次用藥液或超聲波清洗玻璃基板的表面。本實(shí)用新型的目的在于，提供一種即使異物或污垢附著在表面，也可容易地將其去除的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板。本實(shí)用新型涉及的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板為其表面附著有鄰苯二甲酸酯的玻璃基板。該附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板的表面上，鄰苯二甲酸酯的平均附著量為0. 5ng 15ng/lcm2,且表面的任意Icm2至少附著有0. Ing的鄰苯二甲酸酯。本實(shí)用新型涉及的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板中，鄰苯二甲酸酯的分子量最佳為低于450。本實(shí)用新型涉及的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板中，鄰苯二甲酸酯最佳為鄰苯二甲酸二(2-乙基己酯)。本實(shí)用新型涉及的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板中，表面的粗糙度Ra值最佳為小于等于0. 4nm。清洗玻璃基板時，玻璃基板表面的粗糙度越小，越容易從玻璃基板的表面去除鄰苯二甲酸酯。本實(shí)用新型涉及的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板，最佳為形成有Cu系電極材料的顯不裝置用基板，該玻璃基板具有大于G5尺寸的表面面積,且厚度小于0. 4mm。本實(shí)用新型涉及的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板，即使異物或污垢附著在其表面，也可容易地將其去除。依據(jù)本實(shí)用新型，有機(jī)EL用TFT顯示器或面向高清晰液晶TFT顯示器中，能夠降低因玻璃粉或碎玻璃引起的表面損傷或異物附著在玻璃基板表面。因此，也可使用粘性低的配線/電極材料。例如，可使用與Al系電極或Cr、Mo電極等相比粘性低，但低電阻的Cu系電極材料。即，可擴(kuò)大電極材料的選擇范圍，可解決大型顯示器中容易出現(xiàn)的RC遲延問題。而且，能夠提供可解決今后進(jìn)一步高清晰的小型顯示器中可能出現(xiàn)的RC遲延問題的玻璃基板。
圖I為涉及本實(shí)施例的玻璃板制造裝置的整體結(jié)構(gòu)圖；圖2為涉及本實(shí)施例的被膜形成裝置的側(cè)視圖；圖3為涉及本實(shí)施例的被膜形成裝置的側(cè)視圖；圖4為表示涉及實(shí)施例的樣品基板的樣片位置概念圖；圖5為涉及變形例C的玻璃基板被膜形成裝置的示意圖。符號說明10被膜形成裝置12玻璃基板搬運(yùn)裝置14玻璃基板被膜形成裝置14a被膜形成空間14al搬入口14a2搬出口14bI第I空氣刀14b2第2空氣刀14c有機(jī)物噴嘴 100玻璃板制造裝置200熔解槽300澄清槽400成形裝置500清洗槽GS玻璃基板
具體實(shí)施方式
<實(shí)施例>( I)玻璃基板制造裝置的整體結(jié)構(gòu)首先，參照圖I對涉及本實(shí)用新型玻璃基板的制造方法的玻璃板制造裝置100的整體結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。玻璃板制造裝置100主要由熔解槽200、澄清槽300、成形裝置400、清洗槽500所構(gòu)成。在熔解槽200中熔化玻璃原料生成熔融玻璃。在熔解槽200中生成的熔融玻璃被送往澄清槽300。在澄清槽300中去除熔融玻璃中所包含的氣泡。在澄清槽300中去除氣泡后的熔融玻璃被送往成形裝置400。在成形裝置400中，采用溢流引下法從熔融玻璃連續(xù)形成玻璃板。在成形裝置400成形的玻璃板，被切斷成規(guī)定大小的玻璃基板，送往清洗槽500。在清洗槽500中進(jìn)行玻璃基板表面的清洗處理等，之后，如后述，進(jìn)行在玻璃基板的表面形成有機(jī)物薄膜的處理。在清洗槽500中進(jìn)行清洗及表面處理的基板，作為產(chǎn)品上市。玻璃基板作為液晶顯示器或等離子顯示器等平板顯示用玻璃基板使用。在清洗槽500中進(jìn)行清洗玻璃基板表面的清洗工序及在清洗的玻璃基板表面形成有機(jī)物薄膜的被膜形成工序。清洗工序中，朝水平方向搬運(yùn)玻璃基板的同時，朝玻璃基板的表面噴洗滌劑進(jìn)行清洗，或?qū)⒉ＡЩ褰菰谙礈煲旱臓顟B(tài)下，通過將超聲波照射在洗滌液中去除附著在玻璃基板上的異物或污垢。另外，清洗工序前，對玻璃基板的端面進(jìn)行倒角加工處理。接下來，對涉及本實(shí)用新型玻璃基板制造方法中特色的工序，S卩、被膜形成工序進(jìn)行說明。被膜形成工序是通過后述的被膜形成裝置10進(jìn)行。(2)被膜形成裝置的結(jié)構(gòu)本實(shí)施例中的被膜形成裝置10，主要由玻璃基板搬運(yùn)裝置12、玻璃基板被膜形成裝置14構(gòu)成。圖2及圖3所示被膜形成裝置10的側(cè)視圖。圖3為沿圖2所示的箭頭III方向觀察時，被膜形成裝置10的側(cè)視圖。玻璃基板搬運(yùn)裝置12是將玻璃基板GS表面的垂直線朝向垂直方向的狀態(tài)下，朝水平方向搬運(yùn)玻璃基板GS的裝置。本實(shí)施例中，如圖2所示，玻璃基板搬運(yùn)裝置12為包含平行配置的多個輸送棍的裝置。玻璃基板被膜形成裝置14為，其內(nèi)部具有半筒狀(圖I中剖面形狀為半圓)，即、隧道狀被膜形成空間14的裝置。玻璃基板搬運(yùn)裝置12設(shè)置在被膜形成空間14a的內(nèi)部，使被膜形成空間14a的長度方向沿玻璃基板GS的搬運(yùn)方向。玻璃基板GS被玻璃基板搬運(yùn)裝置12搬運(yùn)的同時，通過玻璃基板被膜形成裝置14的被膜形成空間14a。如圖2所示，被玻璃基板搬運(yùn)裝置12搬運(yùn)的玻璃基板GS，從搬入口 14al搬運(yùn)至被膜形成空間14a的內(nèi)部，并從搬出口 14a2搬出至被膜形成空間14a的外部。玻璃基板被膜形成裝置14的被膜形成空間14a搬入口 14al附近，在被膜形成空間14a上部的玻璃基板被膜形成裝置14的內(nèi)壁面上設(shè)置有第I空氣刀14bl，被膜形成空間14a的搬出口 14a2附近，在被膜形成空間14a上部的玻璃基板被膜形成裝置14的內(nèi)壁面上設(shè)置有第2空氣刀14b2。第I空氣刀14bl及第2空氣刀14b2為向被玻璃基板搬運(yùn)裝置12搬運(yùn)的玻璃基板GS表面噴射壓縮空氣的裝置。而且，玻璃基板被膜形成裝置14的搬入口 14al與搬出口 14a2之間，被膜形成空間14a上部的玻璃基板被膜形成裝置14的內(nèi)壁面上，沿被膜形成空間14a的長度方向設(shè)置有多個有機(jī)物噴嘴14c。有機(jī)物噴嘴14c是用霧狀鄰苯二甲酸酯填滿被膜形成空間14a所需的裝置。鄰苯二甲酸酯是鄰體的鄰苯二甲酸和醇的酯的總稱。本實(shí)施例中，最佳為分子量低于450，更佳為鄰苯二甲酸二(2-乙基己酯)。另外，本實(shí)施例中，玻璃基板GS是厚度為0.4mm、G5. 5尺寸(1300mmX 1500mm)的基板。而且，玻璃基板GS的表面粗糙度Ra值為不足0. 4nm。(3)被膜形成裝置的動作本實(shí)施例的被膜形成裝置10中，玻璃基板GS被玻璃基板搬運(yùn)裝置12搬運(yùn)的同時，通過被膜形成空間14a。通過被膜形成空間14a的玻璃基板GS的表面形成鄰苯二甲酸酯的薄膜。下面，對玻璃基板GS的表面形成鄰苯二甲酸酯薄膜的被膜形成工序進(jìn)行說明。首先，玻璃基板GS被玻璃基板搬運(yùn)裝置12搬運(yùn)的同時，在搬入口 14al，通過第I空氣刀14bl在其上側(cè)表面噴射壓縮空氣。根據(jù)該構(gòu)成，附著在玻璃基板GS上側(cè)表面的異物被壓縮空氣吹走，且被去除。接下來，玻璃基板GS從搬入口 14al至搬出口 14a2，被玻璃基板搬運(yùn)裝置12在被膜形成空間14a內(nèi)搬運(yùn)。被膜形成空間14a填滿有從有機(jī)物噴嘴14c噴射出的霧狀鄰苯二甲酸酯。因此，玻璃基板GS在被膜形成空間14a被搬運(yùn)的過程中，玻璃基板GS的表面附著鄰苯二甲酸酯的微小滴液。之后，玻璃基板GS被玻璃基板搬運(yùn)裝置12搬運(yùn)的同時，在搬出口 14a2第2空氣刀14b2向其上側(cè)表面噴射壓縮空氣。通過第2空氣刀14b2去除附著在玻璃基板GS上側(cè)表面的多余的鄰苯二甲酸酯。而且，通過設(shè)置第I空氣刀14bI及第2空氣刀14b2，可控制被膜形成空間14a內(nèi)的氣氛。另外，本實(shí)施例中，附著在通過被膜形成空間14a的玻璃基板GS表面的鄰苯二甲酸酯的平均附著量為，表面0. 5ng 15ng/lcm2,最佳為，表面Ing 10ng/lcm2。在這里，「平均附著量」為玻璃基板GS表面整體的鄰苯二甲酸酯附著量除以玻璃基板GS表面面積的值。還有，「玻璃基板GS的表面面積」，可以是玻璃基板表面整體的面積，而且，當(dāng)玻璃基板的表面包含有作為最終產(chǎn)品不使用的區(qū)域(端部等)時，也可以是去除該不使用區(qū)域的玻璃基板的表面面積。此外,本實(shí)施例中，通過被膜形成空間14a的玻璃基板GS表面的任意Icm2至少附著有0. Ing的鄰苯二甲酸酯,最佳為至少0. 3ng,更佳為至少0. 5ng。在這里，「任意的表面1cm2」可以是玻璃基板表面整體的任意的表面Icm2，而且，當(dāng)玻璃基板的表面包含有作為最終產(chǎn)品不使用的區(qū)域(端部等)時，也可以是去除該不使用區(qū)域的玻璃基板的任意的表面 Icm20(4)特征(4—1) 本實(shí)施例中，玻璃基板GS在玻璃板制造裝置100的清洗槽500中，在霧狀鄰苯二甲酸酯的氛圍下被被膜形成裝置10暴曬，進(jìn)行在玻璃基板GS的表面形成鄰苯二甲酸酯薄膜的被膜形成工序。形成于玻璃基板GS表面的鄰苯二甲酸酯薄膜抑制異物或污垢直接粘在玻璃基板GS的表面上。在這里，異物是因研磨玻璃基板GS的端面隨著時間的推移從端面產(chǎn)生的玻璃的微小粉末，即、微?；蚬柩跬殒I(Si-O-Si鍵)的Si原子與烷基等相結(jié)合的有機(jī)硅氧烷(例如，六甲基二硅氧烷)或玻璃基板的清洗工序之后，有必要改變玻璃基板的尺寸等時，因切斷玻璃基板而產(chǎn)生的微小玻璃片等。而且，污垢是根據(jù)玻璃基板GS的搬運(yùn)及保管狀態(tài)，在玻璃基板GS的表面析出的物質(zhì)。例如，因玻璃基板GS周圍的溫度變化在玻璃基板GS的表面產(chǎn)生結(jié)露時，附著在玻璃基板GS表面的水滴吸收漂浮在玻璃基板GS周圍的物質(zhì)。而且，一旦玻璃基板GS的表面干燥,被結(jié)露吸收的物質(zhì)粘在玻璃基板GS的表面,作為污垢析出。本實(shí)施例中，在被膜形成工序中形成于玻璃基板GS表面的鄰苯二甲酸酯薄膜，作為對上述異物或污垢的屏障發(fā)揮功效，抑制異物或污垢直接粘在玻璃基板GS的表面。而且，當(dāng)異物或污垢附著在形成于玻璃基板GS表面的鄰苯二甲酸酯薄膜上時，通過在之后的工序中清洗玻璃基板GS表面，可從玻璃基板GS表面與薄膜狀鄰苯二甲酸酯一同去除異物或污垢。另外，為了清洗形成有鄰苯二甲酸酯薄膜的玻璃基板GS表面，例如，用純凈水沖洗玻璃基板GS的表面。分子量小的鄰苯二甲酸酯，通常顯示水溶性或可視為水溶性的性質(zhì)，因此，通過用純凈水沖洗可從玻璃基板GS的表面容易地去除鄰苯二甲酸酯。(4—2)本實(shí)施例中，玻璃基板GS表面的鄰苯二甲酸酯附著量為表面0. 5ng 15ng/lcm2。即，玻璃基板GS表面整體的鄰苯二甲酸酯附著量除以玻璃基板GS的表面面積的值為0. 5ng/cm2 15ng/cm2。通過在玻璃基板GS的表面形成鄰苯二甲酸酯薄膜，即使異物或污垢附著在玻璃基板GS的表面，也可容易地將其去除。雖然取決于附著在玻璃基板GS表面的鄰苯二甲酸酯的分子量或物性，但鄰苯二甲酸酯的附著量過小時，異物或污垢容易直接附著在玻璃基板GS的表面上。而且，鄰苯二甲酸酯的附著量過大時，清洗玻璃基板GS時，無法充分地從玻璃基板GS的表面去除鄰苯二甲酸酯薄膜，在之后的工序中，容易產(chǎn)生因殘留在玻璃基板GS表面上的鄰苯二甲酸酯引起的不良現(xiàn)象。本實(shí)施例中，通過將玻璃基板GS表面的鄰苯二甲酸酯的附著量設(shè)定在適當(dāng)?shù)姆秶?，抑制異物或污垢直接附著在玻璃基板GS的表面，且可從玻璃基板GS表面容易地去除鄰苯二甲酸酯。(4-3)本實(shí)施例中，玻璃基板GS任意Icm2的表面上至少附著有0. Ing的鄰苯二甲酸酯。根據(jù)該構(gòu)成，玻璃基板GS的表面沒有鄰苯二甲酸酯的附著量極少的區(qū)域，在一定程度上鄰苯二甲酸酯均衡地附著在玻璃基板GS的表面上。因此，本實(shí)施例中，可抑制異物或污垢極端地附著在玻璃基板GS表面的特定區(qū)域。
、[0059]<實(shí)施例>下面，根據(jù)本實(shí)施例，對測定的附著在玻璃基板表面上的鄰苯二甲酸酯量與清洗完附著有鄰苯二甲酸酯的玻璃基板之后的表面狀態(tài)之間的關(guān)系進(jìn)行說明。本實(shí)施例中，首先利用被膜形成裝置，使G5尺寸的玻璃基板通過鄰苯二甲酸酯氣氛下的被膜形成空間，在玻璃基板的表面形成鄰苯二甲酸酯薄膜。附著在玻璃基板表面的鄰苯二甲酸酯的量，不是通過改變被膜形成空間的鄰苯二甲酸酯的量，而是通過改變玻璃基板搬運(yùn)裝置的玻璃基板搬運(yùn)速度來調(diào)節(jié)。另外，本實(shí)施例中，作為鄰苯二甲酸酯使用鄰苯二甲酸二(2-乙基己酯)。接下來，如圖4所示，從形成有鄰苯二甲酸酯薄膜的玻璃基板獲取九個樣品A I。每個樣品為，其一邊的長度具有50mm的正方形形狀的玻璃基板片。樣品E是從位于玻璃基板中心位置的50mm見方的正方形獲取的玻璃基板片。而且，樣品A D、F I是從玻璃基板端面的50mm內(nèi)側(cè)的四角形(在圖4中，點(diǎn)線所表示的四角形)，即、樣品區(qū)域R的最外周獲取的玻璃基板片。例如，如圖4所示，樣品A是從與樣品區(qū)域R中相鄰的兩邊相接觸的50_見方的四角形獲取的玻璃基板片。而且，如圖4所示，樣品D是從與樣品區(qū)域R的一邊，且在中心相接觸的50_見方的四角形獲取的玻璃基板片。接下來，通過氣相色譜及質(zhì)譜法(GC/MS)測定了從形成有鄰苯二甲酸酯薄膜的玻璃基板獲取的九個樣品A I的鄰苯二甲酸酯附著量。具體而言，在惰性氣體的氣流中將各樣片加熱至400°C，用固體吸附劑捕獲濃縮從各樣片的一側(cè)表面熱脫附的鄰苯二甲酸酯之后，通過GC/MS測定。而且，與獲取通過GC/MS測定鄰苯二甲酸酯的樣品A I的玻璃基板相同的方法及相同的條件下，制作了評價用玻璃基板。本實(shí)施例中，分別制作了 5塊與樣品基板I 5相對應(yīng)的評價用玻璃基板，進(jìn)行環(huán)境實(shí)驗(yàn)，并測定了清洗后的表面狀態(tài)。具體而言，將各評價用玻璃基板捆包后投入恒溫槽，在10°C 60°C的溫度周期(I個周期為24小時)氣氛下，放置一個星期。接下來，用純凈水卷動清洗各評價用玻璃基板后，使用檢查機(jī)器對附著在各評價用玻璃基板表面上的玻璃顆?；蛴袡C(jī)硅氧烷等異物進(jìn)行了檢測。表I所示，對分別調(diào)節(jié)了鄰苯二甲酸酯附著量的五種玻璃基板，即、樣品基板I 5測定的樣品A I的鄰苯二甲酸酯附著量及清洗相對應(yīng)的評價用玻璃基板后的表面狀態(tài)的結(jié)果。[0066]表I
權(quán)利要求1.一種附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板，在玻璃基板表面附著有鄰苯二甲酸酯，其特征在于， 在所述玻璃基板表面上的所述鄰苯二甲酸酯的平均附著量為0. 5ng 15ng/lcm2，且所述玻璃基板表面的任意Icm2上至少附著有0. Ing的所述鄰苯二甲酸酯。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板，其中， 所述鄰苯二甲酸酯的分子量小于450。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板，其中， 所述鄰苯二甲酸酯為鄰苯二甲酸二(2-乙基己酯)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I 3的任意一項(xiàng)所述的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板，其中，所述玻璃基板表面的粗糙度Ra值不足0. 4nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求I 3的任意一項(xiàng)所述的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板，其中，所述玻璃基板為形成有Cu系電極材料的顯示裝置用基板，所述玻璃基板具有G5尺寸以上的表面面積，且厚度小于0. 4mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板，其中， 所述玻璃基板為形成有Cu系電極材料的顯示裝置用基板，所述玻璃基板具有G5尺寸以上的表面面積，且厚度小于0. 4mm。
專利摘要本實(shí)用新型的目的在于，提供一種即使異物或污垢附著在表面上，也可容易地將其去除的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板。本實(shí)用新型涉及的附著有有機(jī)物薄膜的玻璃基板，鄰苯二甲酸酯附著在表面上以使玻璃基板GS表面中鄰苯二甲酸酯的平均附著量為0.5ng～15ng/1cm2，且玻璃基板GS表面的任意1cm2上至少附著有0.1ng的鄰苯二甲酸酯。
文檔編號C03C17/28GK202808610SQ201220483149
公開日2013年3月20日 申請日期2012年9月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月30日
發(fā)明者濱上耕 申請人:安瀚視特控股株式會社