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      具有高光透射系數(shù)的絕緣性裝配玻璃的制作方法

      文檔序號(hào):1876760閱讀:264來(lái)源:國(guó)知局
      具有高光透射系數(shù)的絕緣性裝配玻璃的制作方法
      【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種單層透明裝配玻璃,其由提供有涂層的玻璃片材構(gòu)成,所述涂層由對(duì)日光輻射起作用的薄層堆疊體構(gòu)成,使得所述裝配玻璃具有大于或等于48%的光透射系數(shù),和小于或等于5W/m2/K的傳熱系數(shù)U,尤其在熱處理如淬火之后。所述裝配玻璃的特征在于,從基材的表面起,所述涂層包括:-基本上由鋁和/或硅的氮化物或氮氧化物構(gòu)成的底層,具有30-60nm的物理厚度,-鈮(Nb)功能層,具有約6nm-約7nm的物理厚度,和-面對(duì)外部環(huán)境時(shí)用于保護(hù)功能層的覆蓋層,所述覆蓋層由單一層或由集合體構(gòu)成,其中所述單一層基本上由硅氮化物構(gòu)成,所述集合體包括基本上為硅氮化物的層和選自硅氧化物和鈦氧化物的氧化物層的重疊,所述覆蓋層的總光學(xué)厚度為80-110nm。
      【專(zhuān)利說(shuō)明】具有高光透射系數(shù)的絕緣性裝配玻璃
      [0001]本發(fā)明涉及一種被稱(chēng)為“日光控制的”、提供有薄層堆疊體的裝配玻璃,其至少一個(gè)薄層是功能性的,也就是說(shuō)它作用于日光輻射。本發(fā)明更具體地涉及提供有層的裝配玻璃,特別是主要旨在用于建筑物熱絕緣的裝配玻璃。
      [0002]在本申請(qǐng)意義上,術(shù)語(yǔ)“功能性”或“活性”層應(yīng)理解為指的是為堆疊體賦予其熱性質(zhì)最主要部分的一個(gè)或多個(gè)層。最通常,裝備該裝配玻璃的薄層堆疊體主要通過(guò)這種活性層的固有性質(zhì)為該裝配玻璃提供顯著改善的日光控制性質(zhì)。與通常由電介質(zhì)材料制成的、具有對(duì)所述功能層的化學(xué)或機(jī)械保護(hù)功能的其它層相反,所述層對(duì)穿過(guò)所述裝配玻璃的日光輻射的通量產(chǎn)生作用。
      [0003]這種提供有薄層堆疊體的裝配玻璃主要通過(guò)功能層對(duì)入射輻射的吸收或主要通過(guò)這種相同層的反射對(duì)入射日光輻射產(chǎn)生作用。
      [0004]它們被歸類(lèi)于“日光控制的裝配玻璃”的名稱(chēng)下。它們主要用于以下目的而進(jìn)行銷(xiāo)售和使用:
      [0005]-主要用于確保住宅的日光輻射防護(hù)和防止其過(guò)熱,這種裝配玻璃被定性在防日光行業(yè)中,或
      [0006]-主要用于確保住宅的熱絕緣,防止熱量損失,這些裝配玻璃被定性為絕緣性轉(zhuǎn)配玻璃。
      [0007]因此,在本申請(qǐng)的意義上,表述“防日光”應(yīng)理解為指的是裝配玻璃限制能量通量、尤其是限制太陽(yáng)紅外輻射(IRS)從外側(cè)朝向住宅或座艙的內(nèi)部穿過(guò)該裝配玻璃的能力。
      [0008]表述“熱絕緣的”應(yīng)理解為是指提供有至少一個(gè)功能層的裝配玻璃,該功能層為該玻璃提供小于5W/m2/K的通過(guò)傳熱系數(shù)U度量的能量損失。
      [0009]通常,根據(jù)在涉及用于建筑用玻璃中的裝配玻璃的光、日光和能量性質(zhì)的測(cè)定的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn) IS09050(2003)和 IS010292 (1994)或歐洲標(biāo)準(zhǔn) EN410 (1998)和 EN673(1998)中描述的原理和方法獲得所有在本說(shuō)明書(shū)中介紹的光和能量特性。
      [0010]與玻璃基材結(jié)合時(shí),這些涂層也必須是美觀的,這就是說(shuō),提供有其堆疊體的裝配玻璃在透射和向外反射中必須具有足夠中性的色度,以便不妨礙使用者,或者輕微藍(lán)色或綠色的色彩,特別是在建筑領(lǐng)域中。在本發(fā)明的意義上,表述“中性色”或“藍(lán)-綠色彩”應(yīng)理解為,在CIE LAB(L*, a*, b*)色度體系中,a*和b*的絕對(duì)值小于或等于10,或甚至小于或等于5,所述a*和b*的值優(yōu)選為負(fù)數(shù)。
      [0011]從建筑物的內(nèi)側(cè)(即從具有所述層的裝配玻璃側(cè)),色度的可能值不是如同對(duì)于外側(cè)一樣限制性的,較強(qiáng)顏色和較橙黃色是可以接受的。
      [0012]相反,不論裝配玻璃的面是哪個(gè),這種色彩必須是可耐久的,在該裝配玻璃的整個(gè)表面上是均勻的,即使層的堆疊體承受過(guò)早的磨損條件,如玻璃窗清洗,或者長(zhǎng)期暴露于外界濕度和連續(xù)清洗操作導(dǎo)致的磨損。當(dāng)在單層裝配玻璃上,特別是在其面2(即,用于朝向建筑物內(nèi)部的面)上沉積層的層堆疊體時(shí),這種在玻璃的整個(gè)表面上的相同色度的持久保持的技術(shù)問(wèn)題的解決方案是特別迫切的。
      [0013] 在理想情況下,這些提供有堆疊體的裝配玻璃還必須能夠經(jīng)受淬火類(lèi)型的熱處理,而它們的光學(xué)和/或能量性質(zhì)不受到損失。特別地,根據(jù)本發(fā)明的提供有層的裝配玻璃,在熱處理之后,特別是在透射中或在外部反射中,必須保持基本上中性的顏色或先前描述的藍(lán)-綠色彩。
      [0014]這些涂層通常從要沉積的材料或該材料前體的陰極通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)的真空陰極濺射類(lèi)型的沉積技術(shù)進(jìn)行沉積,其通常在本領(lǐng)域中被稱(chēng)之為磁控管濺射技術(shù)。目前通常使用這種技術(shù),特別是當(dāng)要沉積的涂層是由厚度為幾納米或幾十納米的連續(xù)層的較復(fù)雜的堆疊體構(gòu)成時(shí)。
      [0015]目前銷(xiāo)售的性能最好的堆疊體包括至少一個(gè)銀類(lèi)型的金屬層,所述銀類(lèi)型金屬層主要以使大部分入射的IR(紅外)輻射反射的方式發(fā)生作用。因而這些堆疊體主要用作為用于建筑物的熱絕緣的低發(fā)射(或英文為“Low-e”)裝配玻璃。然而,這些層對(duì)于濕度非常敏感,因此專(zhuān)用于雙層裝配玻璃中在其面2或3上以免受濕度影響。因此,不能在單層裝配玻璃(也稱(chēng)為單片裝配玻璃)上沉積這樣的層。根據(jù)本發(fā)明的堆疊體不包括這種銀類(lèi)型的層,或其它金或鉬類(lèi)型的層,或其以非??珊雎缘牧浚貏e是以不可避免的雜質(zhì)形式存在。
      [0016]在本領(lǐng)域中還報(bào)道了具有防日光功能的其它金屬層,其包括金屬Nb或氮化鈮類(lèi)型的功能層,如在例如申請(qǐng)W001/21540或在申請(qǐng)W02009/112759中所描述的。在這樣的層中,日光輻射這次主要由包括鈮的功能層非選擇性地被吸收,IR輻射(即波長(zhǎng)約780nm至2500nm之間的輻射)和可見(jiàn)光輻射(即波長(zhǎng)約380nm至780nm之間)由所述活性層不加區(qū)別地被吸收。
      [0017]在最便宜的日光控制單層裝配玻璃中,在單獨(dú)的玻璃基材上沉積唯一的鈮功能層。通常認(rèn)為,在許多國(guó)家中由現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的熱絕緣系數(shù)U的值原則上在如果鈮功能層相對(duì)較厚例如約至少10納米或者更高時(shí)的這種單層裝配玻璃中容易得到。由于面對(duì)入射輻射,這種相同層的非選擇 性吸收,這種裝配玻璃的光透射系數(shù)(在標(biāo)準(zhǔn)IS09050中描述的意義上)原則上是非常低的,一般低于30%,更通常小于20%,如在上述申請(qǐng)中報(bào)道的實(shí)施例中所看到的。
      [0018]最后,鑒于這樣的特點(diǎn),看起來(lái)非常難以從這種堆疊體獲得同時(shí)具有可接受的熱傳導(dǎo)系數(shù)U、特別是小于5W/m2/K的熱傳導(dǎo)系數(shù)U,又同時(shí)保持足夠高的,即大于48%優(yōu)選大于50 %光透射以確保住宅良好照明的日光控制的裝配玻璃。
      [0019]如前面所指出的,在裝配玻璃的生產(chǎn)過(guò)程中還具有另一約束:當(dāng)其由單層玻璃基材構(gòu)成時(shí),通常必須經(jīng)受一個(gè)或多個(gè)熱處理,如果想為它們提供曲線(xiàn)輪廓(櫥窗)時(shí),其可能是彎曲操作,但其更通常是淬火,特別是在建筑領(lǐng)域中,人們希望在撞擊時(shí)它是更堅(jiān)固的和更少危險(xiǎn)的。在玻璃熱處理前在玻璃上沉積所述層的事實(shí)往往會(huì)導(dǎo)致對(duì)它們的損害,它們的性質(zhì),尤其是光學(xué)性質(zhì)的顯著改變。相反,在玻璃熱處理后,沉積所述層被證明是復(fù)雜和昂貴的。如先前所述,因此,迫切需要提供有這種層的這種裝配玻璃,其可以經(jīng)受這種熱處理而它們的初始色度性質(zhì)無(wú)顯著改變。
      [0020]此外,當(dāng)在單層裝配玻璃上,例如在面2(即,面對(duì)該裝備有裝配玻璃的建筑物或座艙的該裝配玻璃的內(nèi)面)上沉積該包括功能層的堆疊體時(shí),該堆疊體必須有足夠的耐化學(xué)性和機(jī)械穩(wěn)定性,特別是在暴露于環(huán)境大氣中時(shí),尤其使得該裝配玻璃的色度,尤其是透射中的色度在裝配玻璃的整個(gè)面上與先前同樣地保持基本不改變。
      [0021]本發(fā)明的主題是提出同時(shí)具有足夠的熱絕緣性能(特別具有小于5W/m2/K的傳熱因子U)、高的光透射(即,大于48%優(yōu)選大于50%的光透射因子?Υ)的單層裝配玻璃(也稱(chēng)為單片裝配玻璃),并且其在熱處理,特別是淬火類(lèi)型的熱處理過(guò)程中,或者當(dāng)其經(jīng)受化學(xué)或機(jī)械侵蝕(如磨損)時(shí),沒(méi)有或幾乎沒(méi)有色度變化。
      [0022]根據(jù)本發(fā)明,如在下文的權(quán)利要求中所闡述的,通過(guò)適當(dāng)選擇在初始玻璃基材上沉積的層堆疊體的各種組成部分,因此能夠獲得熱絕緣單層裝配玻璃,其特別具有:
      [0023]-大于48%,優(yōu)選大于50%的光透射,
      [0024]-小于5W/m2/K的傳熱系數(shù)U,相當(dāng)于裝配有日光控制堆疊體的單層裝配玻璃的小于0.60(60%)的標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射力(6missivit6 normale) ε n,優(yōu)選小于0.58的標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射力ε n,
      [0025]-良好的耐久性,特別是對(duì)于化學(xué)/機(jī)械老化測(cè)試的耐久性,保留初始色度。
      [0026]因此本發(fā)明的主題首先由單層透明絕緣性轉(zhuǎn)配玻璃構(gòu)成,所述裝配玻璃由提供有涂層的玻璃片材構(gòu)成,所述涂層由對(duì)日光輻射起作用的薄層堆疊體構(gòu)成,使得所述裝配玻璃具有大于或等于48 %優(yōu)選大于50 %的光透射系數(shù),和小于或等于5W/m2/K的傳熱系數(shù)U,所述裝配玻璃的特征在于,從基材的表面開(kāi)始,所述涂層包括:
      [0027]-基本上由鋁和/或硅的氮化物或氮氧化物構(gòu)成的底層,具有30_60nm的物理厚度,
      [0028]-銀Nb的功能層,具有約6nm_約7nm的物理厚度,
      [0029]-面對(duì)外部環(huán)境時(shí) 用于保護(hù)功能層的覆蓋層,所述覆蓋層由單一層或由集合體構(gòu)成,其中所述單一層基本上由鋁和/或硅的氮化物或氧氮化物構(gòu)成,所述集合體包括基本上鋁和/或硅的氮化物或氧氮化物的層和選自硅氧化物和鈦氧化物的氧化物的層的重疊,所述覆蓋層的總光學(xué)厚度為80-110nm。
      [0030]在本發(fā)明的意義上,層的物理(或幾何)厚度應(yīng)理解為是指的層實(shí)際厚度,使得它可以特別地通過(guò)常規(guī)電子顯微鏡技術(shù)進(jìn)行測(cè)量。
      [0031]在本發(fā)明的意義上,光學(xué)厚度通常理解為是指前述物理厚度乘以構(gòu)成該層的材料的在550nm處測(cè)定的折射指數(shù)η。
      [0032]根據(jù)本發(fā)明的多種優(yōu)選實(shí)施方案,必要時(shí),它們還可彼此結(jié)合:
      [0033]-所述涂層還包括至少一個(gè)材料層,所述材料選自T1、Mo、Al或包括至少一種這些元素的合金,優(yōu)選Ti,相對(duì)于所述玻璃基材,所述材料層位于功能層上方并直接與之接觸,所述層具有約0.2nm-約2nm的物理厚度。
      [0034]-所述涂層還包含至少一個(gè)材料層,所述材料選自T1、Mo、Al或包括至少一種這些元素的合金,優(yōu)選Ti,相對(duì)于所述玻璃基材,所述材料層位于功能層下方并直接與之接觸,所述層具有約0.2nm-約2nm的物理厚度。
      [0035]-覆蓋層由基本上由硅氮化物構(gòu)成的層和硅氧化物層的序列構(gòu)成,鋁和/或硅的氮化物或氮氧化物的層的物理厚度為40-50nm,硅氧化物層的物理厚度為3_10nm。
      [0036]-覆蓋層由基本上由硅氮化物構(gòu)成的層和鈦氧化物層構(gòu)成的層序列構(gòu)成,硅氮化物層的物理厚度為30-45nm,鈦氧化物層的物理厚度為5_15nm。
      [0037]-覆蓋層由基本上由硅氮化物構(gòu)成的層構(gòu)成,其還任選地包括鋁。
      [0038]-底層基本上由硅氮化物構(gòu)成,其還任選地包括鋁。
      [0039]-所述覆蓋層的總光學(xué)厚度為90-105nm,特別是90_100nm。
      [0040]-所述薄層的堆疊體位于單層裝配玻璃的面2上,其中從裝備了所述裝配玻璃的建筑物或座艙外側(cè)朝向內(nèi)側(cè)來(lái)編號(hào)所述基材的面。
      [0041]最后,本發(fā)明還涉及朝向包括至少一個(gè)如前述的裝配玻璃的窗底墻類(lèi)型的正面墻面板(panneau de parement de facade de type allege),或涉及用于機(jī)動(dòng)車(chē)輛或其它交通工具的由所述裝配玻璃構(gòu)成或包括所述裝配玻璃的側(cè)窗、后窗或天窗。
      [0042]根據(jù)本發(fā)明的涂層使得能夠獲得相對(duì)高的基材光透射值,同時(shí)又保留了顯著絕緣效果,盡管功能層的厚度非常小:所進(jìn)行的測(cè)量確實(shí)顯示了在具有層的基材的光透射率?Υ和傳熱系數(shù)U之間的良好折衷。
      [0043]術(shù)語(yǔ)“在…上方”和“在…下方”在本說(shuō)明書(shū)中指的是:相對(duì)于支撐所述層的堆疊體的玻璃基材,所述層的各自位置。
      [0044]不脫離本發(fā)明的范圍,根據(jù)本發(fā)明,根據(jù)本領(lǐng)域公知的技術(shù),可以用Al、Zr、B等類(lèi)型的元素?fù)诫s前述的硅氮化物層,以改變裝配玻璃的透射和/或反射顏色。
      [0045]雖然本發(fā)明更特別地尋求的應(yīng)用是用于建筑物的裝配玻璃,顯然其它應(yīng)用是可設(shè)想的,特別應(yīng)用是在車(chē)輛的裝配玻璃(除了需要非常高光透射的風(fēng)擋玻璃以外)中,如側(cè)
      窗、天窗、后窗。
      [0046]下文將通過(guò)下面非限制性的根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例和對(duì)比實(shí)施例更為詳細(xì)地描述本發(fā)明及其優(yōu)點(diǎn)。在所有的實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中,給出的厚度是物理厚度。
      [0047]所有的基材是由Saint-Gobain Glass France公司銷(xiāo)售的Planilux類(lèi)型的6_厚的透亮玻璃制得。
      [0048]所有的層是通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)的陰極濺射(磁控管濺射)以已知方式進(jìn)行沉積。純金屬(Nb、Ti)層在減壓和惰性(100%氬氣)氣氛下使用由金屬制成的靶的濺射法進(jìn)行沉積。硅氮化物層(其后表示為Si3N4,即使沉積的層并非必須對(duì)應(yīng)于這個(gè)假定的化學(xué)計(jì)量)由金屬硅靶(摻雜有8重量%的鋁)在含有氮的反應(yīng)性氣氛(40% Ar和60% N2)中進(jìn)行沉積。因此,Si3N4層含有少量鋁。根據(jù)公知的技術(shù),硅氧化物層(其后表示為SiO2,即使沉積的層并非必須對(duì)應(yīng)于這個(gè)假定的化學(xué)計(jì)量)在含有氧氣的反應(yīng)性氣氛中使用硅金屬靶進(jìn)行沉積。也根據(jù)公知的技術(shù),鈦氧化物層(其后表示為T(mén)iO2,即使沉積的層并非必須對(duì)應(yīng)于這個(gè)假定的化學(xué)計(jì)量)在含有氧氣的反應(yīng)性氣氛中使用鈦金屬靶進(jìn)行沉積。
      [0049]如在文獻(xiàn)中所給出地,給出下面的折射指數(shù):
      [0050]nSi3N4 約為 2, nTi02 約為 2.3 和 nSi02 約為 L 45。
      [0051]實(shí)施例1 (根據(jù) W001/21540)
      [0052]該實(shí)施例具有Nb功能層和由Si3N4底層和覆蓋層,按照如下順序:
      [0053]玻璃/Si3N4 (IOnm)/Nb (35nm)/Si3N4 (30nm)。
      [0054]在沉積所述層之后,裝配玻璃經(jīng)受以下熱處理:在620C加熱10分鐘,然后淬火。
      [0055]實(shí)施例2 (根據(jù) TO2009/112759)
      [0056]該實(shí)施例使用一種沉積在相同基材上的層順序,其中根據(jù)公開(kāi)W02009/112759的教導(dǎo),在功能層的上方和下方還沉積了非常薄的金屬鈦層。因而該堆疊體包括下面的層序列:
      [0057]玻璃/Si3N4(40 納米)/Ti ( Inm)/Nb (10 納米)/Ti ( lnm)/Si3N4 (60nm)。
      [0058]關(guān)于功能層的厚度和覆蓋層的光學(xué)厚度(120納米)方面,根據(jù)該實(shí)施例的裝配玻璃與本發(fā)明不同。[0059]涂覆有堆疊體的基材然后經(jīng)受與在實(shí)施例1中所述的相同的熱處理。
      [0060]實(shí)施例3 (對(duì)比例)
      [0061]該實(shí)施例使用一種沉積在相同基材上的層順序,其中根據(jù)公開(kāi)W02009/112759的教導(dǎo),還在功能層的上方和下方沉積了非常薄的金屬鈦層。因而該堆疊體包括下面的層序列:
      [0062]玻璃/Si3N4(40 納米)/Ti ( Inm)/Nb (約 8-9 納米)/Ti ( lnm)/Si3N4 (60nm)。
      [0063]在功能層的厚度和覆蓋層的光學(xué)厚度(120納米)方面,根據(jù)該實(shí)施例的裝配玻璃與本發(fā)明不同。 [0064]涂覆有堆疊體的基材然后經(jīng)受與實(shí)施例1中所述的相同的熱處理。
      [0065]實(shí)施例4 (根據(jù)本發(fā)明)
      [0066]本實(shí)施例使用一種根據(jù)本發(fā)明的層順序(沉積在相同基材上)。因而該堆疊體包括下面的層序列:
      [0067]玻璃Si3N4 (45 納米)/Ti(~Inm) /Nb (6 納米)/Ti(~lnm)/Si3N4 (38nm) /TiO2 (9nm)。
      [0068]由硅氮化物層和鈦氧化物層構(gòu)成的覆蓋層的光學(xué)厚度是98納米。
      [0069]涂覆有堆疊體的基材然后經(jīng)受與在前面實(shí)施例中所述的相同的熱處理。
      [0070]實(shí)施例5 (根據(jù)本發(fā)明)
      [0071]本實(shí)施例使用與前面實(shí)施例相同的層順序(沉積在相同基材上),但除了覆蓋層外。因而該堆疊體包括下面的層序列:
      [0072]玻璃Si3N4 (45 納米)/Ti ( ^ lnm) Nb (6 納米)Ti (~lnm) /Si3N4 (46nm) /SiO2 (5nm)。
      [0073]由硅氮化物和硅氧化物構(gòu)成的覆蓋層的光學(xué)厚度是約100納米。
      [0074]涂覆有該堆疊體的基材然后經(jīng)受與在前面實(shí)施例中所述的相同的熱處理。
      [0075]實(shí)施例6 (根據(jù)本發(fā)明)
      [0076]本實(shí)施例使用與前面實(shí)施例相同的層順序(沉積在相同基材上),但除了覆蓋層外。因而該堆疊體包括下面的層序列:
      [0077]玻璃/Si3N4(45 納米)/Ti ( ^ lnm)/Nb (6 納米)/Ti ( lnm)/Si3N4 (49nm)。
      [0078]由硅氮化物層構(gòu)成的覆蓋層的光學(xué)厚度是約100納米。
      [0079]涂覆有該堆疊體的基材然后經(jīng)受與在前面實(shí)施例中所述的相同的熱處理。
      [0080]實(shí)施例2b (對(duì)比例)
      [0081]該實(shí)施例使用與上述實(shí)施例2相同的層順序(沉積在相同的基材上),但除硅氮化物底層外,優(yōu)化其厚度以提高其光透射。因而該堆疊體包括下面的層序列:玻璃/Si3N4(60納米)/Ti ( ^ lnm) /Nb (10 納米)/Ti ( ^ lnm) /Si3N4 (60nm)。
      [0082]由硅氮化物單層構(gòu)成的覆蓋層的光學(xué)厚度是約123納米。
      [0083]涂覆有堆疊體的基材然后經(jīng)受與在前面實(shí)施例中所述的相同的熱處理。
      [0084]實(shí)施例3b (比較例)
      [0085]該實(shí)施例中使用與上述實(shí)施例3相同的層順序(沉積在相同的基材上),但除了兩個(gè)硅氮化物層的厚度外,對(duì)其厚度進(jìn)行優(yōu)化以提高其光透射。因而該堆疊體包括下面的層序列:
      [0086]玻璃/Si3N4 (60nm)/Ti ( ^ lnm)/Nb (8_9nm)/Ti ( ^ lnm)/Si3N4 (60nm)。[0087]分別由硅氮化物單層構(gòu)成的覆蓋層和底層的光學(xué)厚度是約120納米。
      [0088]涂覆有該堆疊體的基材然后經(jīng)受與在前面實(shí)施例中所述的相同的熱處理。
      [0089]表1
      【權(quán)利要求】
      1.單層透明裝配玻璃,其由提供有涂層的玻璃片材構(gòu)成,所述涂層由對(duì)日光輻射起作用的薄層堆疊體構(gòu)成,使得所述裝配玻璃具有大于或等于48%的光透射系數(shù),和小于或等于5W/m2/K的傳熱系數(shù)U,所述裝配玻璃的特征在于,從基材的表面起,所述涂層包括: -基本上由鋁和/或硅的氮化物或氮氧化物構(gòu)成的底層,具有30-60nm的物理厚度, -銀Nb功能層,具有約6nm-約7nm的物理厚度, -面對(duì)外部環(huán)境時(shí)用于保護(hù)功能層的覆蓋層,所述覆蓋層由單一層或由集合體構(gòu)成,其中所述單一層基本上由鋁和/或硅的氮化物或氧氮化物構(gòu)成,所述集合體包括基本上為鋁和/或硅的氮化物或氧氮化物的層和選自硅氧化物和鈦氧化物的氧化物層的重疊,所述覆蓋層的總光學(xué)厚度為80-110nm。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1的裝配玻璃,其中所述涂層還包括至少一個(gè)材料層,所述材料選自T1、Mo、Al或包括至少一種這些元素的合金,相對(duì)于所述玻璃基材,所述材料層位于功能層上方并與之接觸,所述層具有約0.2nm-約2nm的物理厚度。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的裝配玻璃,其中所述涂層還包括至少一個(gè)材料層,所述材料選自T1、Mo、Al或包括至少一種這些元素的合金,相對(duì)于所述玻璃基材,所述材料層位于功能層上方和下方并與之接觸,所述層具有約0.2nm-約2nm的物理厚度。
      4.根據(jù)權(quán)利要求2或3的裝配玻璃,其中所述材料是Ti。
      5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的裝配玻璃,其中覆蓋層由基本上由硅氮化物構(gòu)成的層和硅氧化物層的序列構(gòu)成,其中鋁和/或硅的氮化物或氮氧化物層的物理厚度為40-50nm,和硅氧化物層的物理厚度為3-10nm。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)的裝配玻璃,其中覆蓋層由基本上由硅氮化物構(gòu)成的層和鈦氧化物層的序列構(gòu)成,其中硅氮化物層的物理厚度為30-45nm,鈦氧化物層的物理厚度為 5_15nm0
      7.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)的裝配玻璃,其中覆蓋層由基本上由硅氮化物構(gòu)成的層構(gòu)成,或包括基本上由娃氮化物構(gòu)成的層,還任選地包括招。
      8.根據(jù)在前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的裝配玻璃,其中底層基本上由硅氮化物構(gòu)成,還任選地包括招。
      9.根據(jù)在前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的裝配玻璃,其中所述覆蓋層的總光學(xué)厚度為90-105nm,特別是 90_100nm。
      10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的包括基材的單層裝配玻璃,其中所述薄層的堆疊體位于單層裝配玻璃的面2上,其中從裝配了所述裝配玻璃的建筑物或座艙的外側(cè)朝向內(nèi)側(cè)對(duì)所述基材的面進(jìn)行編號(hào)。
      11.窗底墻類(lèi)型的正面墻面板,其包括至少一個(gè)根據(jù)權(quán)利要求ι-?ο中任一項(xiàng)的裝配玻3? ο
      【文檔編號(hào)】C03C17/36GK103946174SQ201280051616
      【公開(kāi)日】2014年7月23日 申請(qǐng)日期:2012年10月17日 優(yōu)先權(quán)日:2011年10月20日
      【發(fā)明者】A·帕拉西奧-拉魯瓦, E·桑德?tīng)?沙多納爾 申請(qǐng)人:法國(guó)圣戈班玻璃廠
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