一種基板處理裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及平板顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種基板處理裝置。其至少包括具有一第一收容空間的本體、風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)和用于固定基板的固定模塊，所述固定模塊可與所述本體分離地收容于所述本體的第一收容空間內(nèi)，所述風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)設(shè)置于所述本體內(nèi)，所述固定模塊至少包括一第二頂部，所述第二頂部上設(shè)置有多個便于風(fēng)通過的第一通孔。
【專利說明】一種基板處理裝置【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及平板顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種基板處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]化學(xué)鋼化玻璃的原理是，使玻璃表層中半徑較小的離子與溶液中半徑較大的離子交換，例如將玻璃中的Na+與KN03熔鹽溶液中的K+進(jìn)行離子交換，利用堿離子體積上的差別在玻璃表層形成表面壓應(yīng)力，從而增強玻璃的硬度。
[0003]化學(xué)鋼化玻璃在生產(chǎn)過程中，需要先將鋼化玻璃在預(yù)熱箱中大致預(yù)熱到350°C或以上，再將鋼化玻璃浸入化學(xué)池內(nèi)的KN03熔鹽中進(jìn)行離子交換，離子交換過程中屬于保溫過程，離子交換完成后，在預(yù)熱箱中冷卻到一定的溫度。此預(yù)熱及冷卻過程都需分別經(jīng)循環(huán)熱風(fēng)和冷卻風(fēng)來實現(xiàn)。
[0004]現(xiàn)有的預(yù)熱箱內(nèi)壁設(shè)有一循環(huán)系統(tǒng)和放置于預(yù)熱箱內(nèi)部中央的吊籠，所述循環(huán)系統(tǒng)包括設(shè)置于內(nèi)壁的夾層風(fēng)道、風(fēng)機和加熱器，所述夾層風(fēng)道上還設(shè)置有通孔。所述吊籠內(nèi)平行豎直放置有玻 璃，其頂部蓋有一蓋板，所述吊籠位于所述夾層外。工作時，所述風(fēng)機輸出循環(huán)風(fēng)，循環(huán)風(fēng)經(jīng)過風(fēng)道，被加熱器加熱或冷卻，并從所述通孔吹出，流經(jīng)至吊籠內(nèi)的玻璃的表面，并加熱或者冷卻所述玻璃。所述蓋板的作用是，保證熔鹽爐在離子交換過程中的保溫。
[0005]然而，循環(huán)風(fēng)在流經(jīng)玻璃的表面后，不可避免的會撞擊到吊籠頂部的蓋板，使循環(huán)風(fēng)驟然變小，造成玻璃從下到上受熱或受冷不均勻，影響了循環(huán)風(fēng)的加熱及冷卻效果，而玻璃預(yù)熱及冷卻過程中溫度的均勻性直接影響到玻璃的良品率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有鑒于此，有必要提供一種能提高基板處理良品率的基板處理裝置。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的方面，提出了一種基板處理裝置，其至少包括具有一第一收容空間的本體、風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)和用于固定基板的固定模塊，所述固定模塊可與所述本體分離地收容于所述本體的第一收容空間內(nèi)，所述風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)設(shè)置于所述本體內(nèi)，所述固定模塊至少包括一第二頂部，所述第二頂部上設(shè)置有多個便于風(fēng)通過的第一通孔。
[0008]本發(fā)明提出的一種基板處理裝置中，所述本體還包括第一頂部及第一側(cè)壁，所述風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)至少包括鼓風(fēng)模塊、加熱模塊及風(fēng)道，所述第一頂部及第一側(cè)壁均呈內(nèi)部中空狀，且所述第一頂部及第一側(cè)壁的內(nèi)部中空部分相連通形成所述風(fēng)道，所述鼓風(fēng)模塊設(shè)置于所述第一頂部上且收容于所述第一頂部的中空部分；所述加熱模塊設(shè)置于所述第一側(cè)壁上且收容于所述第一側(cè)壁的中空部分。
[0009]本發(fā)明提出的一種基板處理裝置中，所述本體還包括第一底部，所述第一底部與所述第一頂部平行相間設(shè)置并通過所述第一側(cè)壁相連接，形成所述第一收容空間；所述第一側(cè)壁靠近所述第一底部的一端內(nèi)側(cè)設(shè)有一第一開口。
[0010]本發(fā)明提出的一種基板處理裝置中，所述固定模塊還包括具有多個第二收容空間的支撐件及第二底部，所述第二頂部與所述第二底部相互平行相間設(shè)置且通過所述支撐件相連接，所述第一通孔位于所述第一第二頂部上與所述多個第二收容空間相對的位置處，所述第二底部上與所述多個第二收容空間相對的位置處設(shè)有多個第二開口，多個所述第二開口在所述第二底部或第二頂部上的投影被所述多個第二開口在所述第二底部或第二頂部上的投影所覆蓋。
[0011]本發(fā)明提出的一種基板處理裝置中，所述固定模塊收容于所述第一收容空間后，所述第一頂部與所述第二頂部之間相互平行相間，所述第二底部與所述第一底部之間相互平行相間，所述支撐件與所述第一側(cè)壁上各處之間具有相同的間距，所述第二底部上任意一處與所述第一底部之間的間距大于或等于所述第一開口的任意一處與所述第一底部之間間距。
[0012]本發(fā)明提出的一種基板處理裝置中，所述加熱模塊設(shè)置于所述第一側(cè)壁靠近所述第一頂部的一端，其在所述第一頂部上的投影呈一矩形環(huán)狀，所述第一側(cè)壁由四個整體呈長方體形的矩形塊首尾相接形成，所述本體和固定模塊均呈長方體形，所述第一收容空間亦成長方體形。
[0013]本發(fā)明提出的一種基板處理裝置中，所述第一開口在所述第一底部上的投影呈矩形環(huán)狀。
[0014]本發(fā)明提出的一種基板處理裝置中，所述第一頂部和第一底部具有相同的大小和形狀，第二頂部和第二底部具有相同的大小和形狀。
[0015]本發(fā)明提供的基板處理裝置通過在固定模塊上的第二頂部設(shè)置多個第一通孔，使循環(huán)風(fēng)能夠均勻的、暢通無阻流過整個基板表面，從而保持基板在預(yù)熱和冷卻過程中溫度的均勻性，提高了鋼化基板的良率。 【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]下面將結(jié)合附圖及實施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步說明，附圖中:
[0017]圖1為本發(fā)明提供的一較佳實施方式的基板處理裝置100的主視圖；
[0018]圖2為圖1中所述基板處理裝置101的俯視圖。
【具體實施方式】
[0019]為說明本發(fā)明提供的基板處理裝置，以下結(jié)合說明書附圖及文字說明進(jìn)行詳細(xì)闡述。
[0020]請同時參閱圖1和圖2，其為本發(fā)明提供的一較佳實施方式的基板處理裝置100的主視圖以及俯視圖。
[0021]所述基板處理裝置100中的基板可用作觸摸屏基板、顯示面板基板、彩色濾光片基板等等，所述基板的材料可以為玻璃。
[0022]所述基板處理裝置100包括具有一第一收容空間IOla的本體101、設(shè)置于本體101內(nèi)的風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)和設(shè)置于所述第一收容空間IOla內(nèi)的用于放置基板110的固定模塊105。所述本體101整體呈長方體形，其包括第一頂部101b、第一底部101c、第一側(cè)壁101d，所述第一頂部IOlb和第一底部IOld均呈長方體形，兩者平行相對設(shè)置并通過所述第一側(cè)壁IOld相連，所述第一側(cè)壁IOld由四個整體呈長方體形的矩形塊首尾相接的形成，且所述第一頂部101b、第一底部IOlc及第一側(cè)壁IOld共同形成所述第一收容空間101a，所述第一收容空間IOla呈長方體形。在其他實施方式中，所述本體101還可以是整體呈圓柱體型，所述第一收容空間IOla亦可為圓柱體型，所述第一頂部IOlb和第一底部IOlc為圓柱體型，且兩者大小相同，平行且相對設(shè)置。所述第一側(cè)壁IOld呈圓柱形，其展開后的圖形為一長方體形。或者在其他實施方式中，所述本體101還可以是其他形狀，所述第一收容空間IOla亦可為與所述本體101不同的形狀。
[0023]所述風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)設(shè)置于所述本體101上，其包括鼓風(fēng)模塊102及加熱模塊103以及風(fēng)道104。所述第一頂部IOlb及第一側(cè)壁IOld的內(nèi)部均呈中空狀，并所述第一頂部IOlb與第一側(cè)壁IOld的中空部分相連形成所述風(fēng)道104。所述鼓風(fēng)模塊102設(shè)置于所述第一頂部IOlb上且收容于所述第一頂部IOlb的中空部分，用于對風(fēng)的流動提供動力。所述加熱模塊103設(shè)置于所述第一側(cè)壁IOld上且收容于所述第一側(cè)壁IOld內(nèi)的中空部分，用于對流經(jīng)其上的風(fēng)進(jìn)行加熱。在本實施方式中，所述加熱模塊103設(shè)置于所述第一側(cè)壁IOld靠近所述第一頂部IOIb的一端，且其在所述第一頂部IOlb上的投影為一矩形環(huán)。所述第一側(cè)壁IOld靠近所述第一底部IOlc的一端面向所述第一收容空間IOla的一面上設(shè)置有第一開口 101e，其在所述第一底部IOlc上的投影為一矩形環(huán)。
[0024]所述固定模塊105整體呈長方體形，其可與所述本體101分離地收容于所述第一收容空間IOla內(nèi)且位于所述夾層風(fēng)道104之外。所述固定模塊105包括形成多個第二收容空間105b的支撐件105a、第二頂部105c、第二底部105d。所述第二頂部105c和第二底部105d均整體呈長方體形，且平行相間隔設(shè)置并通過所述支撐件105a相連接。所述多個第二收容空間105b用于收容基板110，所述第一頂部105a上與所述多個第二收容空間105b相對的位置上設(shè)置有多個第一通孔105e，所述第一通孔105e在本實施方式中呈圓形，在其他實施方式中還可以呈矩形、三角形等其他形狀。所述第二底部105d上與所述多個第二收容空間105b相對的位置上設(shè)有多個第二開口 105f，所述第二開口 105f在本實施方式中呈矩形條狀，在其他實施方式中，所述第二開口 105f還可以是圓形、三角形或其他不規(guī)則形狀，或者是各種形狀的組合等。所述第一通孔105e在所述第二頂部105c或第二底部105d上的投影被所述第二開口 105f在所述第二頂部105c或第二底部105d上的投影所覆蓋。所述第一通孔105e在所述第一頂部`105c上呈矩陣排列，所述第二開口 105f在所述第二底部105d上亦成矩陣排列。在本實施方式中，所述第二頂部105c和第二底部105d之間具有相同的大小和相同的形狀。
[0025]所述固定模塊105收容于所述第一收容空間IOla后，其第二頂部105c與所述本體101的第一頂部IOlb平行且相間，所述第二底部105d與所述第一底部IOlc平行且相間，所述固定模塊105與所述第一側(cè)壁IOld各個位置之間具有相同的間距；所述第二底部105d與所述第一底部IOlc之間的間距大于等于所述第一開口 IOle任何一處與所述第一底部IOlc之間的間距。
[0026]所述基板處理裝置100在工作時，所述固定模塊105收容于所述第一收容空間101a，風(fēng)經(jīng)所述鼓風(fēng)模塊102經(jīng)風(fēng)道104流過所述加熱模塊103 ;經(jīng)所述加熱模塊103加熱后，經(jīng)所述第一開口 IOle流入所述第一收容空間IOla;并經(jīng)所述第二開口 105f流入所述多個第二收容空間105b，經(jīng)所述多個第一通孔105e流出所述固定模塊105，回到鼓風(fēng)模塊102，完成一次循環(huán)；所述基板110通過加熱后的風(fēng)進(jìn)行加熱或冷卻，使溫度達(dá)到使用要求。[0027]本實施方式提供的基板處理裝置通過在可固定模塊的第二頂部上設(shè)置多個第一通孔，為循環(huán)風(fēng)提供出口，使循環(huán)風(fēng)能夠均勻地流過整個基板表面，從而保持基板在預(yù)熱和冷卻過程中溫度的均勻性，提高了基板處理的良品率。
[0028]以上為本發(fā)明提供的一種基板處理裝置的較佳實施方式，并不能理解為對本發(fā)明權(quán)利保護(hù)范圍的限制，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該知曉，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可做多種改進(jìn)或替換，所有的該等改進(jìn)或替換都應(yīng)該在本發(fā)明的權(quán)利保護(hù)范圍內(nèi)，即本發(fā)明的權(quán)利保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要 求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種基板處理裝置，至少包括具有一第一收容空間的本體、風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)和用于固定基板的固定模塊，所述固定模塊可與所述本體分離地收容于所述本體的第一收容空間內(nèi)，所述風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)設(shè)置于所述本體內(nèi)，所述固定模塊至少包括一第二頂部，所述第二頂部上設(shè)置有多個便于風(fēng)通過的第一通孔。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于:所述本體還包括第一頂部及第一側(cè)壁，所述風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)至少包括鼓風(fēng)模塊、加熱模塊及風(fēng)道，所述第一頂部及第一側(cè)壁均呈內(nèi)部中空狀，且所述第一頂部及第一側(cè)壁的內(nèi)部中空部分相連通形成所述風(fēng)道，所述鼓風(fēng)模塊設(shè)置于所述第一頂部上且收容于所述第一頂部的中空部分；所述加熱模塊設(shè)置于所述第一側(cè)壁上且收容于所述第一側(cè)壁的中空部分。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于:所述本體還包括第一底部，所述第一底部與所述第一頂部平行相間設(shè)置并通過所述第一側(cè)壁相連接，形成所述第一收容空間；所述第一側(cè)壁靠近所述第一底部的一端內(nèi)側(cè)設(shè)有一第一開口。
4.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于:所述固定模塊還包括具有多個第二收容空間的支撐件及第二底部，所述第二頂部與所述第二底部相互平行相間設(shè)置且通過所述支撐件相連接，所述第一通孔位于所述第二頂部上與所述多個第二收容空間相對的位置處，所述第二底部上與所述多個第二收容空間相對的位置處設(shè)有多個第二開口，多個所述第二開口在所述第二底部或第二頂部上的投影被所述多個第二開口在所述第二底部或第二頂部上的投影所覆蓋。
5.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于:所述固定模塊收容于所述第一收容空間后，所述第一頂部與所述第二頂部之間相互平行相間，所述第二底部與所述第一底部之間相互平行相間，所述支撐件與所述第一側(cè)壁上各處之間具有相同的間距，所述第二底部上任意一處與所述第一底部之間的間距大于或等于所述第一開口的任意一處與所述第一底部之間間距。
6.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，`其特征在于:所述加熱模塊設(shè)置于所述第一側(cè)壁靠近所述第一頂部的一端，其在所述第一頂部上的投影呈一矩形環(huán)狀，所述第一側(cè)壁由四個整體呈長方體形的矩形塊首尾相接形成，所述本體和固定模塊均呈長方體形，所述第一收容空間亦成長方體形。
7.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于:所述第一開口在所述第一底部上的投影呈矩形環(huán)狀。
8.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于:所述第一頂部和第一底部具有相同的大小和形狀，第二頂部和第二底部具有相同的大小和形狀。
【文檔編號】C03B27/00GK103449711SQ201310409697
【公開日】2013年12月18日 申請日期:2013年9月9日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月9日
【發(fā)明者】申屠江民, 張平, 胡雪龍, 黃旭輝, 盧鳳衛(wèi), 王磊 申請人:浙江金徠鍍膜有限公司