一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)，包括系統(tǒng)本體，所述系統(tǒng)本體包括注漿設備、成型設備、燒鍛設備以及冷凝裝置，所述注漿設備內(nèi)設有過濾裝置，過濾裝置通過輸送管與成型設備連接，成型設備與燒鍛設備連接，所述燒鍛設備包括低溫燒鍛爐和高溫燒鍛爐，所述燒鍛設備與冷凝裝置連接。本實用新型通過結(jié)構(gòu)的改進，使得燒鍛出來的陶瓷罐質(zhì)量更好。
【專利說明】一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種陶瓷罐生產(chǎn)工藝，特別涉及一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有技術(shù)中，陶瓷的生產(chǎn)無非是通過注漿，再通過將漿料成型，最后進行燒鍛和冷卻成型，這樣的模式在燒鍛過程中，通常只通過一次燒鍛，成型的陶瓷罐易碎，原來漿粘合的不好。
實用新型內(nèi)容
[0003]針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，本實用新型提供一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)，有效地解決了上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案是:一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)，包括系統(tǒng)本體，所述系統(tǒng)本體包括注漿設備、成型設備、燒鍛設備以及冷凝裝置，所述注漿設備內(nèi)設有過濾裝置，過濾裝置通過輸送管與成型設備連接，成型設備與燒鍛設備連接，所述燒鍛設備包括低溫燒鍛爐和高溫燒鍛爐，所述燒鍛設備與冷凝裝置連接。
[0005]作為優(yōu)選，所述低溫燒鍛爐的燒鍛溫度為800°C -1OOO0C,高溫燒鍛溫度為13000C -1500°C。
[0006]作為優(yōu)選，所述冷凝裝置為噴霧冷凝器。
[0007]與現(xiàn)有技術(shù)相比，該實用新型的有益效果:本實用新型通過結(jié)構(gòu)上的改進，比之現(xiàn)有技術(shù)，本實用新型通過二次燒鍛，溫度由低到高，使得原料漿粘合的更緊密，本實用新型在注漿設備中設有過濾裝置，使得燒鍛所用遠料優(yōu)越于現(xiàn)有技術(shù)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0009]下面結(jié)合附圖及具體實施例對本實用新型作進一步的詳細說明。
[0010]參見圖1，一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)，包括系統(tǒng)本體，所述系統(tǒng)本體包括注漿設備、成型設備、燒鍛設備以及冷凝裝置，所述注漿設備內(nèi)設有過濾裝置，過濾裝置通過輸送管與成型設備連接，成型設備與燒鍛設備連接，所述燒鍛設備包括低溫燒鍛爐和高溫燒鍛爐，在本實施例中，所述低溫燒鍛爐的燒鍛溫度為800°c -1000°c，高溫燒鍛溫度為1300°C -1500°C，所述燒鍛設備與冷凝裝置連接，在本實施例中，所述冷凝裝置為噴霧冷凝器。
【權(quán)利要求】
1.一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)，包括系統(tǒng)本體，其特征在于:所述系統(tǒng)本體包括注漿設備、成型設備、燒鍛設備以及冷凝裝置，所述注漿設備內(nèi)設有過濾裝置，過濾裝置通過輸送管與成型設備連接，成型設備與燒鍛設備連接，所述燒鍛設備包括低溫燒鍛爐和高溫燒鍛爐，所述燒鍛設備與冷凝裝置連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于:所述低溫燒鍛爐的燒鍛溫度為800°C -1000°C，高溫燒鍛溫度為1300°C -1500°C。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷罐生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于:所述冷凝裝置為噴霧冷凝器。
【文檔編號】C04B35/622GK203513506SQ201320661945
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2013年10月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月25日
【發(fā)明者】杜建華 申請人:成都錦漢藝術(shù)瓷業(yè)有限公司