一種硅片切割用砂漿噴嘴和硅片切割的制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種硅片切割用砂漿噴嘴和硅片切割機，該砂漿噴嘴包括：入口管、連接管和出口管，所述入口管與所述出口管平行設(shè)置，所述連接管分別與所述入口管和所述出口管連接，所述連接管與所述入口管鄰近晶棒一側(cè)的側(cè)壁傾斜連接，使得出口管與入口管之間的距離增加，相應(yīng)的，縮短了出口管與晶棒之間的距離，有效減少了砂漿的飛濺和流失，使得更多的砂漿能夠參與切割晶棒，減少了線痕硅片的產(chǎn)生，提高切割穩(wěn)定性。
【專利說明】一種硅片切割用砂漿噴嘴和硅片切割機

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及一種硅片切割設(shè)備，具體涉及一種硅片切割用砂漿噴嘴和硅片切 割機。

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著太陽能行業(yè)的發(fā)展，對單、多晶硅片的需求越來越大。目前，太陽級的單、多晶 硅片生產(chǎn)制造主要采用線切割方式，其切割機理是，機器導(dǎo)輪在高速運轉(zhuǎn)中帶動鋼線，由線 網(wǎng)將聚乙二醇和碳化硅微粉混合形成的砂漿帶入晶棒，對硅錠進行磨削切割，從而制造出 一定厚度的娃片。
[0003]目前，硅片切割用砂漿噴嘴的出口管設(shè)置于入口管的正下方，出口管和入口管與 線網(wǎng)呈90度直角，砂漿經(jīng)由入口管進入，從出口管噴出，并噴灑在線網(wǎng)上。而晶棒設(shè)置于砂 漿噴嘴的一側(cè)，且砂漿入口管的位置和晶棒的位置通常是固定的，這樣就造成砂漿出口與 晶棒之間的距離過大，在切割硅片的過程中，砂漿與晶棒產(chǎn)生激烈碰撞，會造成大量砂漿無 規(guī)律飛濺。
[0004] 因此，亟需一種硅片切割用砂漿噴嘴和硅片切割機用以解決上述技術(shù)問題。 實用新型內(nèi)容
[0005] 本實用新型針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，提供一種硅片切割用砂漿噴嘴和硅 片切割機，用以解決砂漿飛濺的問題。
[0006] 本實用新型為解決上述技術(shù)問題，采用如下技術(shù)方案：
[0007] -種硅片切割用砂漿噴嘴，包括：入口管、連接管和出口管，所述入口管與所述出 口管平行設(shè)置，所述連接管分別與所述入口管和所述出口管連接，其特征在于，所述連接管 與所述入口管鄰近晶棒一側(cè)的側(cè)壁傾斜連接。
[0008] 優(yōu)選的，所述連接管與所述入口管呈65-70度角向下傾斜連接。
[0009] 優(yōu)選的，所述連接管的長度范圍為100_120mm。
[0010] 優(yōu)選的，所述出口管為方管；所述出口管的兩個管壁在所述出口管的底端形成貫 通所述出口管的開口，且所述出口管的兩個管壁在所述開口處設(shè)置有用以將砂漿噴射方向 控制在銳角范圍內(nèi)的倒角。
[0011] 優(yōu)選的，所述倒角為30-60度。
[0012] 優(yōu)選的，所述開口的開口間距為2_3mm。
[0013] 優(yōu)選的，所述砂漿噴嘴還包括設(shè)置于所述出口管外部的板筋，所述板筋為兩個，分 別設(shè)置在所述出口的兩側(cè)。
[0014] 優(yōu)選的，所述出口管與所述連接管的連接處設(shè)置有用于平衡砂漿壓力的壓力平衡 條，所述壓力平衡條為折板結(jié)構(gòu)，所述折板的兩端分別與所述出口管的兩個管壁的連接處 連接，所述折板向出口管的頂端彎折，且所述折板上設(shè)置有多個供砂漿通過的通孔。
[0015] 本實用新型還提供一種硅片切割機，包括：前述的硅片切割用砂漿噴嘴。
[0016]本實用新型具有如下有益效果：
[0017]本實用新型通過將連接管與入口管鄰近晶棒一側(cè)的側(cè)壁傾斜連接，使得出口管與 入口管之間的距離增加，相應(yīng)的，縮短了出口管與晶棒之間的距離，有效減少了砂漿的飛濺 和流失，使得更多的砂漿能夠參與切割晶棒，減少了線痕硅片的產(chǎn)生，提高切割穩(wěn)定性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018] 圖1為本實用新型實施例提供的硅片切割用砂漿噴嘴的主視圖；
[0019] 圖2為本實用新型實施例提供的硅片切割用砂漿噴嘴的側(cè)視圖；
[0020] 圖3為本實用新型實施例提供的出口管結(jié)構(gòu)的局部放大圖。

【具體實施方式】
[0021] 為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本實用新型的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和具體實 施方式對本實用新型作進一步詳細(xì)描述。
[0022] 本實用新型所提供的砂漿噴嘴，用于在太陽電池片的生產(chǎn)過程中為硅片切割提供 砂漿。在切割硅片的過程中，線網(wǎng)與晶棒摩擦?xí)a(chǎn)生大量的熱，而且需要比硅錠硬度高的碳 化硅參與切割，因此，在線網(wǎng)的上方需要設(shè)置噴射砂漿的砂漿噴嘴。
[0023]本實用新型提供一種硅片切割用砂漿噴嘴，該砂漿噴嘴采用連接管連接出口管和 入口管，且與入口管鄰近晶棒一側(cè)的側(cè)壁傾斜連接，減少砂漿流飛濺和流失現(xiàn)象，使得更多 的砂漿能夠被輸送到晶棒與線網(wǎng)接觸的部位。
[0024] 以下結(jié)合圖1和圖2,對本實用新型實施例提供的一種硅片切割用砂漿噴嘴結(jié)構(gòu) 做詳細(xì)說明。如圖1所示，該硅片切割用砂漿噴嘴包括：入口管1、連接管2和出口管3,入 口管1與出口管3平行設(shè)置，連接管2分別與入口管1和出口管3連接，用于將入口管1內(nèi) 的砂漿導(dǎo)流至出口管3內(nèi)。連接管2與入口管1鄰近晶棒（圖中未繪示）一側(cè)的側(cè)壁傾斜 連接。
[0025] 入口管1可以為方形管，入口管1的一端為用于將砂漿送入的入口11，另一端為封 閉端，即入口管1呈一端封閉的方形筒狀。出口管3設(shè)置于入口管1鄰近晶棒的一側(cè)，以減 小從出口管噴射出的砂漿與晶棒之間的距離，從而減少了砂漿的飛濺和流失。在本實用新 型實施例中，如圖2所示，出口管3設(shè)置于入口管1的右側(cè)。
[0026]優(yōu)選的，連接管2的長度在預(yù)設(shè)的長度范圍之內(nèi)。在入口管1的位置和晶棒的位置 固定的情況下，為了縮短出口管3與晶棒之間的距離，就要增大出口管3與入口管1之間的 距離，即需要保證連接管2的長度大于預(yù)設(shè)的長度，優(yōu)選的，連接管2的長度不小于100mm。 優(yōu)選的，連接管2的長度可以為100-120mm。
[0027]連接管2與入口管1可以呈一定角度向下傾斜連接，該角度與圖3中的α角相等， 優(yōu)選的，α角可以為65-70度，即連接管2與入口管1可以呈65-70角度向下傾斜連接。連 接管以65-70度角向下與入口管1連接，不但可以保證砂漿能夠順利從入口管1流出，經(jīng)由 連接管2進入出口管3,而且可以有效縮短出口管3與晶棒之間的距離。
[0028] 由于砂漿噴嘴噴出的砂漿具有一定的沖力，如果出口管3與線網(wǎng)和晶棒太近，將 對線網(wǎng)和硅片造成沖擊，造成鋼線線網(wǎng)跳動及晶棒硅片碎片等問題。因此，本實用新型實施 例中，將連接管2的長度設(shè)置為100-120_，且將連接管2與入口管1之間的連接角度設(shè)置 為65-70度，可以實現(xiàn)將出口管3與線網(wǎng)平面之間的距離控制在5-7mm，并將出口管3與晶 棒之間的距離控制在15-20mm，保證了砂漿不會對線網(wǎng)和硅片造成大的沖擊。
[0029] 連接管2的數(shù)量可以為1個或多個，為了使砂漿在出口管3內(nèi)均勻分布，以實現(xiàn)更 好的導(dǎo)流效果，優(yōu)選的，連接管2可以設(shè)置2個。在本實用新型實施例中，以2個連接管為 例進行說明，如圖1所示，第一連接管21可以與入口管1的封閉端連接，優(yōu)選的，第二連接 管22可以與入口管1的中部連接。
[0030] 為了能夠方便地與入口管1連接，連接管2可以采用方形管。
[0031] 以下結(jié)合圖3,對出口管3的結(jié)構(gòu)進行詳細(xì)說明。如圖3所示，出口管3可以為方 形管，出口管3的兩個管壁，即管壁31和管壁32,在出口管3的底端形成開口 33,開口 33 沿出口管3的軸向貫通，即開口 33為在出口管33的底端沿出口管33的軸向開設(shè)的具有一 定寬度的縫隙。優(yōu)選的，開口 33的開口間距可以為2-3mm，以使噴射出的砂漿形成均勻的砂 簾，更易于在線網(wǎng)表面形成砂漿膜。
[0032] 出口管3的管壁31和管壁32在開口 33處設(shè)置有倒角β，出口管3中的砂漿可 以沿著倒角β從開口 33處噴射到線網(wǎng)（圖中未繪示）上，倒角β可以將砂漿噴射方向控 制在銳角范圍內(nèi)，這里所說的砂漿噴射方向是指砂漿噴射路徑與線網(wǎng)所在的平面之間的夾 角0。砂漿噴射路徑與線網(wǎng)所在平面的夾角Θ為銳角，可以使砂漿以傾斜的方式噴射到線 網(wǎng)上，相對于現(xiàn)有的90度垂直噴射，可以減少砂漿重力對其在線網(wǎng)上形成砂漿膜過程的影 響，減少了砂漿的流失，可以使更多的砂漿參與切割晶棒，減少線痕硅片的產(chǎn)生，提高切割 穩(wěn)定性，保證硅片切割的質(zhì)量。
[0033] 優(yōu)選的，倒角β可以為30-60度。將倒角β設(shè)置在30-60度之間，可以保證砂漿 的噴射方向，即Θ角，在30-70度之間。砂漿的噴射方向不但與倒角β的大小有關(guān)，還與 連接管2與入口管1之間的連接角度α以及砂漿的流量有關(guān)，當(dāng)砂漿噴射方向呈45度角 時，可以達到最優(yōu)的切割效果。
[0034] 由于砂漿流量較大，出口管3的開口 33在砂漿長時間的沖擊作用下容易變形，為 了對開口 33進行保護，延長硅片切割用砂漿噴嘴的使用壽命，如圖2所示，硅片切割用砂漿 噴嘴還可以包括板筋35,板筋35為2個，設(shè)置于出口管3外部，且位于出口 33的兩側(cè)。板 筋35呈圓柱狀，可以通過焊接方式固定在開口 33的外側(cè)。
[0035] 為了減小砂漿對出口管3的管壁的沖擊，并平衡管內(nèi)砂漿壓力，在出口管3與連接 管2的連接處還可以設(shè)置壓力平衡條。如圖2所示，壓力平衡條36為折板結(jié)構(gòu)，折板的兩 端分別與出口管3的兩個管壁的連接處連接，折板向出口管3的頂端彎折，以增強支撐力。 在折板上設(shè)置有多個通孔，以供砂漿通過。
[0036] 從連接管2內(nèi)流出的砂漿進入出口管3內(nèi)，落到壓力平衡條36上，并從壓力平衡 條36上的通孔落到出口管3的底端，再從出口 33噴射出去，壓力平衡條36可以對砂漿起 到緩沖作用，降低砂漿的流速，減小砂漿對出口管3的管壁和出口 33的沖擊力，并且，在砂 漿流量突然增大時，還可以起到平衡流量的作用，保證砂漿從出口 33處均勻噴射。
[0037] 本實用新型實施例還提供一種硅片切割機，包括前述的硅片切割用砂漿噴嘴。
[0038] 通過以上描述可以看出，通過將連接管與入口管鄰近晶棒一側(cè)的側(cè)壁傾斜連接， 使得出口管與入口管之間的距離增加，相應(yīng)的，縮短了出口管與晶棒之間的距離，有效減少 了砂漿的飛濺和流失，使得更多的砂漿能夠參與切割晶棒，減少了線痕硅片的產(chǎn)生，提高切 割穩(wěn)定性。
[0039] 可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本實用新型的原理而采用的示例性 實施方式，然而本實用新型并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本 實用新型的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本實 用新型的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種硅片切割用砂漿噴嘴，包括：入口管、連接管和出口管，所述入口管與所述出口 管平行設(shè)置，所述連接管分別與所述入口管和所述出口管連接，其特征在于，所述連接管與 所述入口管鄰近晶棒一側(cè)的側(cè)壁傾斜連接。
2. 如權(quán)利要求1所述的硅片切割用砂漿噴嘴，其特征在于，所述連接管與所述入口管 呈65-70度角向下傾斜連接。
3. 如權(quán)利要求2所述的硅片切割用砂漿噴嘴，其特征在于，所述連接管的長度范圍為 100_120mm。
4. 如權(quán)利要求1-3任一項所述的硅片切割用砂漿噴嘴，其特征在于，所述出口管為方 管； 所述出口管的兩個管壁在所述出口管的底端形成貫通所述出口管的開口，且所述出口 管的兩個管壁在所述開口處設(shè)置有用以將砂漿噴射方向控制在銳角范圍內(nèi)的倒角。
5. 如權(quán)利要求4所述的硅片切割用砂漿噴嘴，其特征在于，所述倒角為30-60度。
6. 如權(quán)利要求4所述的硅片切割用砂漿噴嘴，其特征在于，所述開口的開口間距為 2-3mm〇
7. 如權(quán)利要求4所述的硅片切割用砂漿噴嘴，其特征在于，所述砂漿噴嘴還包括設(shè)置 于所述出口管外部的板筋，所述板筋為兩個，分別設(shè)置在所述出口的兩側(cè)。
8. 如權(quán)利要求4所述的硅片切割用砂漿噴嘴，其特征在于，所述出口管與所述連接管 的連接處設(shè)置有用于平衡砂漿壓力的壓力平衡條，所述壓力平衡條為折板結(jié)構(gòu)，所述折板 的兩端分別與所述出口管的兩個管壁的連接處連接，所述折板向出口管的頂端彎折，且所 述折板上設(shè)置有多個供砂漿通過的通孔。
9. 一種硅片切割機，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-8任一項所述的硅片切割用砂漿 噴嘴。
【文檔編號】B28D7/00GK203863859SQ201320807805
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2013年12月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月10日
【發(fā)明者】翟大東, 戰(zhàn)永強, 陳潔 申請人:特變電工新疆新能源股份有限公司