一種新型低輻射鍍膜玻璃及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種新型低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內(nèi)向外依次包括：包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內(nèi)向外依次包括：第一層SiO2，第二層LaB6-AZO，第三層SiO2。第二層LaB6-AZO厚度是為400-500nm。還公開了這種鍍膜玻璃的制備方法。本發(fā)明鍍膜玻璃具有以下優(yōu)點：本鍍膜玻璃可見光透過率較高，透過率相對AZO可提高3～4%；在Low-E產(chǎn)品中，可以取代銀層，不容易被氧化，可以作為單片使用；輻射率低；產(chǎn)品性能穩(wěn)定，適于大規(guī)模生產(chǎn)，光學(xué)及熱學(xué)性能穩(wěn)定。該玻璃具有良好的外觀顏色，膜層不易脫落、不氧化等特點，可單片、夾層或合中空使用。
【專利說明】一種新型低輻射鍍膜玻璃及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種鍍膜玻璃，更具體的涉及一種新型低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前大多數(shù)的低輻射產(chǎn)品均需要鍍一層紅外反射層Ag才能達到低輻射的效果，而含有Ag膜的產(chǎn)品非常容易被氧化，難以直接暴露在戶外使用，需要合中空使用，增加成本。而在線Low-E輻射率相對較高，且需要配備在線鍍膜設(shè)備才能完成生產(chǎn)，前期投入成本較聞。
[0003]透明導(dǎo)電膜具有一定的低輻射性能，但由于ITO薄膜含有稀有金屬銦(In)，價格昂貴，AZO則作為透明導(dǎo)電膜代替ITO膜在大面積鍍膜玻璃中廣泛應(yīng)用。陶瓷態(tài)氧化鋅鋁(AZO)由于濺射速率快，可使用純Ar進行濺射，濺射條件易控，可節(jié)省隔氣靶位且薄膜可見光透過高等優(yōu)點而得到廣泛研究及應(yīng)用。但是，AZO薄膜較厚時才能具備一定的低輻射性能，實際生產(chǎn)中需要的靶位較多，成本較高。同時，陶瓷態(tài)AZO靶在安裝使用一段時間后，表面容易出現(xiàn)結(jié)瘤放電現(xiàn)象，嚴重影響了靶材的使用功率和壽命，同時也會造成鍍膜產(chǎn)品存在顏色波動的隱患。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)缺陷，本發(fā)明旨在提供一種新型低輻射鍍膜玻璃，不使用銀層，為實現(xiàn)以上技術(shù)目標(biāo)，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:一種摻雜硼化鑭AZO低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內(nèi)向外依次包括:第一層SiO2，第二層LaB6-AZO,第三層 Si02。
[0005]第二層LaB6-AZ0 厚度是為 400_500nm。
[0006]進一步，所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是2.5?10wt%。
[0007]進一步，所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是3?8wt%。
[0008]進一步，所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是4?6wt%。
[0009]第一層SiO2厚度是40nm，第二層LaB6-AZO厚度是473nm，第三層SiO2厚度是30nmo
[0010]鍍膜玻璃的制備過程為:
[0011](I)使用丙酮、無水乙醇和去離子水依次超聲清洗玻璃基片；
[0012](2)烘干；
[0013](3)放入真空腔室內(nèi)進行抽真空；
[0014](4)達到真空度后,充入1200sccm純Ar氣派射娃祀,進行祀表清潔,5min后通入氬氧比為1:2的混合氣體進行內(nèi)層SiO2薄膜的制備；
[0015](5)達到所需厚度后關(guān)閉該靶，再用純氬進行靶表清潔和摻雜LaB6的AZO薄膜制備;
[0016](6)最后按照步驟(4)進行外層SiO2薄膜的制備。
[0017]本發(fā)明玻璃基片厚度包括:4、5、6、8、10、12、15、19mm。玻璃顏色包括:超白玻、白
玻、綠玻、灰玻、水晶灰玻、藍玻、海洋藍玻、茶色玻璃等。玻璃結(jié)構(gòu)包括:夾層玻璃、彩釉玻璃、鋼化玻璃、半鋼化玻璃、退火玻璃、防火玻璃、中空玻璃等。
[0018]本發(fā)明鍍膜玻璃具有以下優(yōu)點:
[0019]1.本鍍膜產(chǎn)品可見光透過率較高，透過率相對AZO可提高3?4% ；
[0020]2.該膜層表面更加平整，在Low-E產(chǎn)品中，摻雜材料做到400多納米退火后，該膜層具有一定的輻射率，內(nèi)外有SiO2起增透和保護作用，可以暴露在空氣中而不氧化，即可以單片使用，輻射率低于可單片使用的在線Low-E (0.25)；
[0021]3.產(chǎn)品性能穩(wěn)定,適于大規(guī)模生產(chǎn),光學(xué)及熱學(xué)性能穩(wěn)定。該玻璃具有良好的外觀顏色，膜層不易脫落、不氧化等特點?？蓨A層或合中空使用。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0022]圖1新型低輻射鍍膜玻璃結(jié)構(gòu)示意圖
[0023]圖2AZ0膜層厚度為473nm的光譜玻面反射光譜
[0024]圖3AZ0膜層厚度為473nm的光譜膜面反射光譜
[0025]圖4AZ0膜層厚度為473nm的光譜透過光譜
【具體實施方式】
[0026]為了闡明本發(fā)明的技術(shù)方案及技術(shù)目的，下面結(jié)合附圖及【具體實施方式】對本發(fā)明做進一步的介紹。
[0027]實施例1
[0028]一種新型低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內(nèi)向外依次包括:第一層SiO2厚度是40nm，第二層LaB6-AZO厚度是473nm，第三層SiO2厚度是30nm。
[0029]所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是5wt%。
[0030]實施例2
[0031]一種新型低輻射鍍膜玻璃鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內(nèi)向外依次包括:第一層SiO2厚度是40nm，第二層LaB6-AZO厚度是400nm，第三層SiO2厚度是30nm。
[0032]所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是10wt%。
[0033]實施例3
[0034]一種新型低輻射鍍膜玻璃鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內(nèi)向外依次包括:
[0035]第一層SiO2厚度是40nm，第二層LaB6-AZO厚度是500nm，第三層SiO2厚度是30nm。
[0036]所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是2.5wt%。
[0037]實施例4
[0038]上述實施例的鍍膜玻璃的制備過程為:
[0039](I)使用丙酮、無水乙醇和去離子水依次超聲清洗玻璃基片；
[0040](2)烘干；
[0041](3)放入真空腔室內(nèi)進行抽真空；
[0042](4)達到真空度后，充入1200SCCm純Ar氣濺射硅靶，進行靶表清潔，5min后通入氬氧比為1:2的混合氣體進行內(nèi)層SiO2薄膜的制備；
[0043](5)達到所需厚度后關(guān)閉該靶，再用純氬進行靶表清潔和摻雜LaB6的AZO薄膜制備;
[0044](6)最后按照步驟(4)進行外層SiO2薄膜的制備。
[0045]實施例5LaB6_AZ0的厚度與輻射率關(guān)系檢測
[0046]如圖2-4所示，是473nm厚的LaB6-AZO膜的光譜圖。LaB6-AZO的厚度和輻射率有關(guān)系，300nm厚的LaB6-AZO鋼化后的輻射率約0.3，可見光透過率是60%，400nm厚的LaB6-AZO鋼化后的輻射率約0.17，可見光透過率是50%，473nm厚的LaB6-AZO鋼化后的輻射率約0.1，可見光透過率是57%，500nm厚的LaB6-AZO鋼化后的輻射率約0.1，可見光透過率是50%。
[0047]以上對本發(fā)明的實施例進行了詳細說明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實施例，并不用以限制本發(fā)明。凡在本發(fā)明的申請范圍內(nèi)所做的任何修改、等同替換和改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種新型低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內(nèi)向外依次包括:第一層SiO2，第二層LaB6-AZO,第三層SiO2 ;第二層LaB6-AZO厚度是為400_500nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是2.5?10wt%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是3?8wt%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是4?6wt%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:第一層SiO2厚度是40nm,第二層LaB6-AZO厚度是473nm，第三層SiO2厚度是30nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述一種新型低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，其中加工方法為: (O使用丙酮、無水乙醇和去離子水依次超聲清洗玻璃基片； (2)烘干; (3)放入真空腔室內(nèi)進行抽真空； (4)達到真空度后,充入1200sccm純Ar氣派射娃祀,進行祀表清潔，5min后通入U1氧比為1:2的混合氣體進行內(nèi)層SiO2薄膜的制備； (5)達到所需厚度后關(guān)閉該靶，再用純氬進行靶表清潔和摻雜LaB6的AZO薄膜制備； (6)最后按照步驟(4)進行外層SiO2薄膜的制備。
【文檔編號】C03C17/34GK103753895SQ201410008953
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2014年1月6日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月6日
【發(fā)明者】王勇, 胡冰, 劉雙, 王爍 申請人:天津南玻節(jié)能玻璃有限公司