平板玻璃低反射蒙砂工藝的制作方法
【專利摘要】一種平板玻璃低反射蒙砂工藝，包括如下步驟：a.研磨蒙砂，用帶有金屬盤的研磨機對平板玻璃單面的表面進行研磨，研磨液為含有碳化硅微粉的溶液；b.化學拋光，使用AR級的氫氧化鉀或氫氧化鈉熔鹽，在280℃±2℃溫度下，對研磨后的產(chǎn)品拋光2～6分鐘；c.酸洗，使用2％-4％的強酸溶液對化學拋光后的產(chǎn)品浸泡清洗5分鐘以上。本發(fā)明的目的是提供一種無氟蒙砂工藝，具有可控性高、成品率穩(wěn)定、便于管控、運輸、廢棄物易處理、適合于所有不同材質(zhì)玻璃的低反射蒙砂處理等優(yōu)勢。
【專利說明】平板玻璃低反射蒙砂工藝
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種平板玻璃低反射蒙砂工藝，適用于所有平面玻璃鏡片蒙砂加工處理，能得到表面很好、蒙砂效果一致的蒙砂玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著玻璃鏡片冷加工工藝在手機、觸摸屏領(lǐng)域的日趨完善，各種不同樣式的玻璃鏡片已越來越不能滿足消費者的審美觀。低反射蒙砂玻璃以其典雅的風格更能吸引消費者的眼球；同時低反射蒙砂玻璃防眩效果好，強光下不會產(chǎn)生眩光；低反射玻璃同時具有觸摸手感好。
[0003]因為蒙砂玻璃所具備其他玻璃產(chǎn)品沒有的優(yōu)勢，蘋果、惠普等公司早已使用化學蒙砂鏡片、研磨砂面鏡片作為筆記本觸摸板。但化學蒙砂存在良率低、蒙砂效果不一致、以及蒙砂液含氟高等諸多弊端；研磨砂面存在砂面視覺效果發(fā)白、觸摸感差、光澤度差等弊端。
[0004]具體來講，目前常用做蒙砂的工藝與設(shè)備分氫氟酸噴淋蒙砂、研磨、噴砂等，氫氟酸噴淋蒙砂缺陷在于工藝較難控制，很難達到整面均勻性；研磨、噴砂不足在于，蒙砂后的產(chǎn)品再經(jīng)過化學拋光，均會因為產(chǎn)品表面損傷層不一致，導(dǎo)致產(chǎn)品表面砂面效果參差不齊，嚴重時甚至出現(xiàn)明顯的深劃傷、凹坑不良。而且氫氟酸、硫酸混合酸常溫下拋光，設(shè)備需考慮溶液揮發(fā)、 表面蒙砂不均勻等異常，要求設(shè)備密閉抽風、溶液不停循環(huán)、噴淋，且氫氟酸作為一種有毒酸，對人體有很嚴重的創(chuàng)傷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種防止因研磨蒙砂后再拋光產(chǎn)品表面深劃傷現(xiàn)象、可去除化學拋光殘留的印潰、降低化學蒙砂對氫氟酸的依賴性的平板玻璃低反射蒙砂工藝。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本方法所采用的技術(shù)方案為:包括如下步驟:
[0007]a.研磨蒙砂，
[0008]用帶有金屬盤的研磨機對平板玻璃單面的表面進行研磨，研磨液為含有碳化硅微粉的溶液；
[0009]b.化學拋光，
[0010]使用AR級的氫氧化鉀或氫氧化鈉熔鹽，在280°C ±2°C溫度下，對研磨后的產(chǎn)品拋光2~6分鐘；
[0011]C.酸洗，
[0012]使用2% -4%的強酸溶液對化學拋光后的產(chǎn)品浸泡清洗5分鐘以上。
[0013]步驟a中的金屬盤研磨機的研磨盤面由銅、錫、鐵軟金屬制成；
[0014]所述碳化硅微粉的粒徑為5-10um。
[0015]所述步驟a中,研磨平板玻璃單面的研磨量不低于0.04mm。[0016]步驟c中的強酸是分析純硫酸、鹽酸、硝酸或磷酸。
[0017]本方法采用銅盤或錫盤機,采用粒徑5-10um的碳化娃微粉研磨液,研磨5Min,由于使用銅盤或錫盤機，使得研磨能得到很好的平整度，同時使產(chǎn)品表面損傷層達到一致的效果，經(jīng)過化學拋光，不會出現(xiàn)表面劃痕、砂面效果參差不齊等等不良現(xiàn)象。使用分析純的Κ0Η,NaOH強堿280°C熔鹽拋光2_6Min，對設(shè)備無復(fù)雜的要求，熔鹽不會揮發(fā)，不需要佩帶防毒面具，廢棄物可再回收利用。熔鹽溫度較高，已經(jīng)超過強化玻璃表面活化溫度，因此只需浸泡拋光即可。使用2% -4%的氏504浸泡清洗51^11，可去除強堿作用在玻璃表面殘留的色澤不均、水印等不良外觀。在濃度高的強酸、強堿下，玻璃表面容易發(fā)生吸附，表面產(chǎn)生色澤不均等現(xiàn)象，對應(yīng)使用濃度低的堿、酸進行浸泡清洗，可快速去除。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1為不同粒徑的碳化硅微粉研磨液與產(chǎn)品表面粗糙度的直方圖。
[0019]圖2為不同拋光時間與產(chǎn)品光澤度之間關(guān)系的曲線圖。
【具體實施方式】
[0020]以下使用康寧公司生產(chǎn)的Corning2317玻璃為對象，結(jié)合手機玻璃屏幕的加工進一步說明本發(fā)明的實施方式，制作粗糙度為250nm、光澤度為IOGu的蒙砂。
[0021]采用如下工藝步驟:
[0022]粗磨:采用創(chuàng)機公司生產(chǎn)的16B單面銅盤機，山東濰坊凱華碳化硅微粉有限公司生產(chǎn)的F1200型反應(yīng)燒結(jié)專用碳化硅微粉研磨液，拋光粉粒徑5-6um，研磨單位面壓50-60Kg/cm2，研磨轉(zhuǎn)速20轉(zhuǎn)/Min，研磨時溫度控制在25 ±5°C，單面去除量0.04mm ;研磨使用不同粒徑的碳化硅微粉研磨液，可獲得不同粗糙度的產(chǎn)品表面，具體粗糙度要求可視客戶要求而定，可參考圖1。
[0023]
【權(quán)利要求】
1.一種平板玻璃低反射蒙砂工藝，其特征在于:包括如下步驟: a.研磨蒙砂， 用帶有金屬盤的研磨機對平板玻璃單面的表面進行研磨，研磨液為含有碳化硅微粉的溶液； b.化學拋光， 使用AR級的氫氧化鉀或氫氧化鈉熔鹽，在280°C ±2°C溫度下，對研磨后的產(chǎn)品拋光2~6分鐘； c.酸洗， 使用2% -4%的強酸溶液對化學拋光后的產(chǎn)品浸泡清洗5分鐘以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平板玻璃低反射蒙砂工藝，其特征在于，步驟a中的金屬盤研磨機的研磨盤面由銅、錫、鐵軟金屬制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平板玻璃低反射蒙砂工藝，其特征在于:所述碳化硅微粉的粒徑為5-10um。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平板玻璃低反射蒙砂工藝，其特征在于:所述步驟a中，研磨平板玻璃單面的研磨量不低于0.04_。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平板玻璃低反射蒙砂工藝，其特征在于，步驟c中的強酸是分析純硫酸、鹽酸、硝酸或磷酸。
【文檔編號】C03C15/00GK104016591SQ201410272571
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2014年6月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月18日
【發(fā)明者】周群飛, 饒橋兵, 趙軍華 申請人:藍思科技股份有限公司