一種噴嘴裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種噴嘴裝置，包括進(jìn)漿管，砂漿分配腔和噴嘴，所述進(jìn)漿管與砂漿分配腔相連接，所述砂漿分配腔與噴嘴相連接，其特征在于，所述砂漿分配腔為長方形中空結(jié)構(gòu)，所述砂漿分配腔中部設(shè)置有隔板，將砂漿分配腔分成上腔體和下腔體，所述隔板上設(shè)有若干數(shù)量的分配孔，且沿砂漿分配腔長度方向均勻分布，所述進(jìn)漿管與上腔體相連接，所述下腔體的下部開有下出口，所述下出口與噴嘴相連。采用上述結(jié)構(gòu)這樣可以保證從噴嘴噴的砂漿較為均勻，為多晶硅的切割提供最合適的冷卻砂漿。
【專利說明】一種噴嘴裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種噴嘴裝置，具體地說是多晶硅切割過程中冷卻鋼絲的砂液噴出裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]切割多晶硅時(shí)由于溫度過高，一般都需要砂漿進(jìn)行冷卻，一方面可以降溫，另一方面可以潤滑鋼絲，但現(xiàn)有技術(shù)中一般都采用泵將砂漿抽起然后噴在切割工作區(qū)域，但由于噴出裝置結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不合理，噴出的砂液不均勻，使冷卻效果比較差，如果噴出砂漿壓力小，短時(shí)流量少而冷卻效果差，如果噴出砂漿壓力大，則會(huì)砂漿飛濺，實(shí)際起作用的也很少，同樣效果不佳，所以無論壓力大小都會(huì)影響多晶硅切割精度及鋼絲的使用壽命，作為生產(chǎn)企業(yè)都希望能夠即能保證壓力，又不會(huì)砂漿飛濺，同時(shí)噴出砂漿較為均勻的噴嘴裝置，但目前行業(yè)內(nèi)還沒有達(dá)到上述效果的噴嘴裝置。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足而提供結(jié)構(gòu)合理，噴出砂漿可以均勻分布，并在高壓時(shí)不會(huì)發(fā)生砂漿飛濺的噴嘴裝置。
[0004]本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題采用的技術(shù)方案是:一種噴嘴裝置，包括進(jìn)漿管，砂漿分配腔和噴嘴，所述進(jìn)漿管與砂漿分配腔相連接，所述砂漿分配腔與噴嘴相連接，其特征在于，所述砂漿分配腔為長方形中空結(jié)構(gòu)，所述砂漿分配腔中部設(shè)置有隔板，將砂漿分配腔分成上腔體和下腔體，所述隔板上設(shè)有若干數(shù)量的分配孔，且沿砂漿分配腔長度方向均勻分布，所述進(jìn)漿管與上腔體相連接，所述下腔體的下部開有下出口，所述下出口與噴嘴相連。通過設(shè)置有分配孔的隔板，將砂漿分配腔分成上腔體和下腔體，從而是連接管進(jìn)來的砂漿可以送至上腔體，砂漿經(jīng)過分配孔流入下腔體，再由下腔體的下出口流向噴嘴，由于來自進(jìn)漿管的砂漿是具有很大的壓力，不經(jīng)過合理分配的話，流向不穩(wěn)定，流向噴嘴變得不均勻，采用上述結(jié)構(gòu)這樣可以保證從噴嘴噴的的砂漿較為均勻，為多晶硅的切割提供最合適的冷卻砂漿。
[0005]本實(shí)用新型所述噴嘴包括底板和擋板，所述底板和擋板成共同構(gòu)成開口小的噴口和開口大的連接口，所述連接口與砂漿分配腔相接并連通下出口。通過設(shè)置擋板可以防止砂漿壓力較大時(shí)，下出口流出的砂漿經(jīng)底板的反彈飛濺，另外噴嘴連接口大而噴口小的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)一方面可以使高壓的砂漿可以在該空間的平穩(wěn)調(diào)合緩沖，另一方面可以使從噴口噴出的砂漿可以保持最大流速，即可以保持噴出砂漿均勻又可保證最大流速，提高冷卻效果。
[0006]本實(shí)用新型所述還包括調(diào)節(jié)板，所述調(diào)節(jié)板安裝在擋板上外側(cè)端，并與底板的外側(cè)端對(duì)應(yīng)形成噴口。采用調(diào)節(jié)板設(shè)置可以方便調(diào)節(jié)噴口大小，在生產(chǎn)中可以按實(shí)際需要快速調(diào)整合適噴口大小。
[0007]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn):本實(shí)用新型設(shè)計(jì)合理，結(jié)構(gòu)簡單，保證從噴嘴噴的的砂漿較為均勻，并維持最佳的砂漿流速，為多晶硅的切割提供最合適的冷卻砂漿，同時(shí)可以防止因砂漿壓力過大而產(chǎn)生砂漿飛濺的情況。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]進(jìn)漿管1、砂漿分配腔2、下出口 21、上腔體22、下腔體23、隔板3、分配孔31、噴嘴
4、底板41、擋板42、連接口 43、噴口 44、調(diào)節(jié)板5。

【具體實(shí)施方式】
[0010]實(shí)施例1
[0011 ] 參見圖1，本實(shí)施例中噴嘴裝置，包括進(jìn)漿管I，砂漿分配腔2和噴嘴4，進(jìn)漿管I與砂漿分配腔2相連接，砂漿分配腔2與噴嘴4相連接，砂漿分配腔2為長方形中空結(jié)構(gòu)，砂漿分配腔2中部設(shè)置有隔板3，將砂漿分配腔2分成上腔體22和下腔體23，隔板3上設(shè)有若干數(shù)量的分配孔31，且沿砂漿分配腔2長度方向均勻分布，優(yōu)選采用沿砂漿分配腔2長度方向均勻直線分布，至于分配孔31具體數(shù)量因?qū)嶋H需要安排的，所屬領(lǐng)域技術(shù)人都會(huì)知曉，就不再詳述，但是分配孔31的位置就位于上隔板的中下部是最為合適的，如圖所示同樣位于上腔體22的下部，這樣可以保證每個(gè)分配孔都有充足砂漿流下，更好的保證分配均勻。進(jìn)漿管I與上腔體22相連接，下腔體23的下部開有下出口 21，下出口 21與噴嘴4相連。通過設(shè)置有分配孔31的隔板3，將砂漿分配腔2分成上腔體22和下腔體23，從而是進(jìn)漿管I進(jìn)來的砂漿可以送至上腔體22，砂漿經(jīng)過分配孔流入下腔體23，再由下腔體23的下出口流向噴嘴4，由于來自連接管I的砂漿是具有很大的壓力，不經(jīng)過合理分配的話，流向不穩(wěn)定，流向噴嘴4變得不均勻，采用上述結(jié)構(gòu)這樣可以保證從噴嘴4噴的的砂漿較為均勻，為多晶硅的切割提供最合適的冷卻砂漿。
[0012]本實(shí)施例中噴嘴4包括底板41和擋板42，底板41和擋板42成共同構(gòu)成開口小的噴口 44和開口大的連接口 43，連接口 43與砂漿分配腔2相接并連通下出口 21。通過設(shè)置擋板42可以防止砂漿壓力較大時(shí)，下出口 21流出的砂漿經(jīng)底板41的反彈飛濺，另外噴嘴連接口 43大而噴口 44小的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)一方面可以使高壓的砂漿可以在該空間的平穩(wěn)調(diào)合緩沖，另一方面可以使從噴口 44噴出的砂漿可以保持最大流速，即可以保持噴出砂漿均勻又可保證最大流速，提高冷卻效果。
[0013]本實(shí)施例中還包括調(diào)節(jié)板5，調(diào)節(jié)板5安裝在擋板42上外側(cè)端，并與底板41的外側(cè)端對(duì)應(yīng)形成噴口 44。采用調(diào)節(jié)板5設(shè)置可以方便調(diào)節(jié)噴口 44大小，在生產(chǎn)中可以按實(shí)際需要快速調(diào)整合適噴口大小。
[0014]本說明書中所描述的以上內(nèi)容僅僅是對(duì)本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)所作的舉例說明。本實(shí)用新型所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，只要不偏離本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)或者超越本權(quán)利要求書所定義的范圍，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種噴嘴裝置，包括進(jìn)漿管，砂漿分配腔和噴嘴，所述進(jìn)漿管與砂漿分配腔相連接，所述砂漿分配腔與噴嘴相連接，其特征在于，所述砂漿分配腔為長方形中空結(jié)構(gòu)，所述砂漿分配腔中部設(shè)置有隔板，將砂漿分配腔分成上腔體和下腔體，所述隔板上設(shè)有若干數(shù)量的分配孔，且沿砂漿分配腔長度方向均勻分布，所述進(jìn)漿管與上腔體相連接，所述下腔體的下部開有下出口，所述下出口與噴嘴相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴裝置，其特征在于:所述噴嘴包括底板和擋板，所述底板和擋板成共同構(gòu)成開口小的噴口和開口大的連接口，所述連接口與砂漿分配腔相接并連通下出口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴嘴裝置，其特征在于:還包括調(diào)節(jié)板，所述調(diào)節(jié)板安裝在擋板上外側(cè)端，并與底板的外側(cè)端對(duì)應(yīng)形成噴口。
【文檔編號(hào)】B28D7/02GK204235731SQ201420382299
【公開日】2015年4月1日 申請(qǐng)日期:2014年9月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月25日
【發(fā)明者】沈雪明 申請(qǐng)人:嘉興順聯(lián)橡塑機(jī)械有限公司