本發(fā)明涉及一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，上釉速度快，效果好和生產(chǎn)效率高的上釉裝置。
背景技術(shù)：
絕緣子泥坯的制作流程中，需要上釉和加砂等多道流程。目前的絕緣子泥坯的制作多為人工或單一設(shè)備來實(shí)現(xiàn)絕緣子泥坯的部分制作流程，如上釉工序由人工拿起絕緣子泥坯在釉料桶中浸泡轉(zhuǎn)動(dòng)；如上砂工序則是由人一邊旋轉(zhuǎn)絕緣子泥坯，另一邊向絕緣子泥坯表面撒砂子，操作復(fù)雜，且效率極低。為此，我們研發(fā)了一種生產(chǎn)效率高，同時(shí)合格率也高的全自動(dòng)絕緣子泥坯制作裝置，同時(shí)也研發(fā)了一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，上釉速度快，效果好和生產(chǎn)效率高的上釉裝置。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，上釉速度快，效果好和生產(chǎn)效率高的上釉裝置。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：一種上釉裝置，包括上釉架；所述上釉架頂端設(shè)置有螺桿電機(jī)；所述螺桿電機(jī)連接有螺桿；所述螺桿豎直設(shè)置；所述螺桿上設(shè)置有滑臺(tái)；所述螺桿電機(jī)驅(qū)動(dòng)螺桿旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng)滑臺(tái)上下移動(dòng)；所述滑臺(tái)固定設(shè)置有釉液箱；所述釉液箱內(nèi)盛滿釉液料。
優(yōu)選的，所述釉液箱中有2個(gè)液槽，每個(gè)液槽均能給一個(gè)絕緣子泥坯上釉。
由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)：
本發(fā)明所述的上釉裝置通過螺桿電機(jī)驅(qū)動(dòng)螺桿來實(shí)現(xiàn)釉液箱的上下運(yùn)動(dòng)，從而可方便實(shí)現(xiàn)絕緣子泥坯到位時(shí)，釉液箱上升去進(jìn)行上釉工作；上釉結(jié)束后，釉液箱下降，絕緣子泥坯便可直接進(jìn)入下一個(gè)工序，生產(chǎn)效率高；本實(shí)用結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，上釉速度快，效果好，生產(chǎn)效率高。
附圖說明
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案作進(jìn)一步說明：
附圖1為本發(fā)明所述的上釉裝置的立體圖；
其中：41、上釉架；42、螺桿電機(jī)；43、螺桿；44、滑臺(tái)；45、釉液箱。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
附圖1為本發(fā)明所述的上釉裝置，包括上釉架41；所述上釉架41頂端設(shè)置有螺桿電機(jī)42；所述螺桿電機(jī)42連接有螺桿43；所述螺桿43豎直設(shè)置；所述螺桿43上設(shè)置有滑臺(tái)44；所述螺桿電機(jī)42驅(qū)動(dòng)螺桿43旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng)滑臺(tái)44上下移動(dòng)；所述滑臺(tái)44固定設(shè)置有釉液箱45；所述釉液箱45內(nèi)盛滿釉液料。
本實(shí)施例中，所述釉液箱45中有2個(gè)液槽（未標(biāo)出），每個(gè)液槽（未標(biāo)出）均能給一個(gè)絕緣子泥坯上釉；本實(shí)施例所述的上釉裝置生產(chǎn)效率高。
特別說明，絕緣子泥坯上釉時(shí)，絕緣子泥坯是沿其水平狀的旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)的。
由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)：
本發(fā)明所述的上釉裝置通過螺桿電機(jī)驅(qū)動(dòng)螺桿來實(shí)現(xiàn)釉液箱的上下運(yùn)動(dòng)，從而可方便實(shí)現(xiàn)絕緣子泥坯到位時(shí)，釉液箱上升去進(jìn)行上釉工作；上釉結(jié)束后，釉液箱下降，絕緣子泥坯便可直接進(jìn)入下一個(gè)工序，生產(chǎn)效率高；本實(shí)用結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，上釉速度快，效果好，生產(chǎn)效率高。
上述實(shí)施例只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。