本技術(shù)涉及上釉裝置，具體為一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置。

背景技術(shù)：

1、釉漿調(diào)好后，必須把它批附在陶瓷的表面，這道過程叫做上秞，釉有很多種，以石英、長石、硼砂、黏土等為原料制成的物質(zhì)，涂在瓷器、陶器的表面，燒制成有玻璃光澤可分為結(jié)晶釉裂紋釉等，在燒制好的毛坯上涂覆上一層玻璃質(zhì)的釉層，主要起到保護和裝飾作用。

2、例如中國專利(cn?203307241?u)中公開了一種上釉機，它涉及陶瓷設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，底架的底部設(shè)置有滾輪，底架的上方一側(cè)固定有上釉槽，底架的上方另一側(cè)固定有儲釉槽，儲釉槽通過連通管與上釉槽連接，且連通管的頂端固定設(shè)置有上料泵，上釉槽的一側(cè)設(shè)置有伸縮機械手，伸縮機械手上固定有控制器，且控制器與定時器連接，它結(jié)構(gòu)簡單，設(shè)計合理，使用方便，使陶瓷坯件的浸釉時間實現(xiàn)了自動控制，釉層的厚度能保持一致，保證了產(chǎn)品的質(zhì)量，該機適應(yīng)面廣，可對杯、碗、盤、壺等進行施釉，無論對哪一種類型的產(chǎn)品都有很高的生產(chǎn)效率。

3、上述方案還存在如下技術(shù)缺陷，上述方案不便于對陶瓷的內(nèi)孔進行上釉，懸式產(chǎn)品陶瓷的內(nèi)孔上釉不均勻會影響產(chǎn)品的電熱性能，需要通過懸式上釉機對內(nèi)孔進行二次噴釉，才能保證產(chǎn)品內(nèi)孔的質(zhì)量，保證產(chǎn)品釉面平滑光亮，其次可以增加產(chǎn)品的機電熱性能，最后可以順利通過熱機試驗測試，上述方案不便于對陶瓷內(nèi)孔進行二次噴釉，基于此，提出了一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型提供了一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，具備能夠?qū)μ沾蓛?nèi)孔進行二次上釉等優(yōu)點，解決了陶瓷內(nèi)孔不便于二次上釉的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，包括底座，所述底座頂端的右側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的頂部設(shè)有多個陶瓷坯件，所述底座頂端的左側(cè)固定有安裝箱，所述安裝箱的頂端設(shè)有上釉機構(gòu)，所述底座頂端的左側(cè)固定有儲釉箱，所述儲釉箱頂端的左側(cè)固定出釉管，所述出釉管遠離儲釉箱的一端固定有波紋管，所述波紋管遠離第一出釉管的一端固定有第一連接管，所述第一連接管遠離波紋管的一端固定有水泵，所述水泵的輸出端固定有閥門，所述閥門的右端固定有第二連接管；

3、所述上釉機構(gòu)包括固定在安裝箱頂端的電推桿，所述電推桿的頂端固定有連接桿，所述連接桿的頂端固定有移動板，所述上釉機構(gòu)還包括固定在安裝箱頂端四周的四個支撐柱，四個所述支撐柱的頂端固定有擋板，所述上釉機構(gòu)還包括固定在移動板頂端的第一電機，所述第一電機的輸出軸固定有第一轉(zhuǎn)軸，所述第一轉(zhuǎn)軸的外表面轉(zhuǎn)動連接有限位板，所述第一轉(zhuǎn)軸外表面的右端固定有主動錐齒輪，所述上釉機構(gòu)還包括固定在第二連接管遠離閥門一端的旋轉(zhuǎn)接頭，所述旋轉(zhuǎn)接頭的底端轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)動管，所述轉(zhuǎn)動管的外表面固定有從動錐齒輪，所述主動錐齒輪和從動錐齒輪相嚙合，所述轉(zhuǎn)動管外表面左右兩側(cè)的底端均固定有噴頭。

4、進一步，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)包括固定在底座頂端的第二電機，所述第二電機的輸出軸固定有第二轉(zhuǎn)軸，所述第二轉(zhuǎn)軸的外表面固定有主動齒輪，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)還包括轉(zhuǎn)動連接于底座頂端的支撐桿，所述支撐桿的外表面固定有從動齒輪，所述主動齒輪與從動齒輪相嚙合，所述支撐桿的頂端固定有支撐板。

5、進一步，所述儲釉箱的左端固定有進釉口，所述進釉口遠離儲釉箱的一端貫穿至安裝箱左端的外部。

6、進一步，所述出釉管遠離儲釉箱的一端貫穿至安裝箱頂端的外部，所述波紋管遠離出釉管的一端貫穿至移動板的頂部。

7、進一步，所述移動板的四周均開設(shè)有滑孔，支撐柱與滑孔滑動連接，所述限位板的底端與移動板相固定。

8、進一步，所述支撐板的內(nèi)部開設(shè)有多個通孔，所述陶瓷坯件位于通孔內(nèi)部。

9、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本申請的技術(shù)方案具備以下有益效果：

10、該懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，通過在底座頂端的右側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，使得陶瓷坯件能夠被批量二次上釉，從而提高陶瓷坯件的上釉效率，通過在安裝箱的頂端設(shè)有上釉機構(gòu)，使得陶瓷坯件的內(nèi)孔能夠被噴頭旋轉(zhuǎn)噴涂上釉，從而實現(xiàn)均勻上釉，避免因為上釉不均而影響產(chǎn)品的性能，整體的上釉效果良好，能夠滿足陶瓷坯件內(nèi)孔二次上釉的使用需求。

技術(shù)特征：

1.一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）頂端的右側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)機構(gòu)（2），所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)（2）的頂部設(shè)有多個陶瓷坯件（3），所述底座（1）頂端的左側(cè)固定有安裝箱（4），所述安裝箱（4）的頂端設(shè)有上釉機構(gòu)（5），所述底座（1）頂端的左側(cè)固定有儲釉箱（6），所述儲釉箱（6）頂端的左側(cè)固定出釉管（7），所述出釉管（7）遠離儲釉箱（6）的一端固定有波紋管（8），所述波紋管（8）遠離第一出釉管（7）的一端固定有第一連接管（9），所述第一連接管（9）遠離波紋管（8）的一端固定有水泵（10），所述水泵（10）的輸出端固定有閥門（11），所述閥門（11）的右端固定有第二連接管（12）；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)（2）包括固定在底座（1）頂端的第二電機（201），所述第二電機（201）的輸出軸固定有第二轉(zhuǎn)軸（202），所述第二轉(zhuǎn)軸（202）的外表面固定有主動齒輪（203），所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)（2）還包括轉(zhuǎn)動連接于底座（1）頂端的支撐桿（204），所述支撐桿（204）的外表面固定有從動齒輪（205），所述主動齒輪（203）與從動齒輪（205）相嚙合，所述支撐桿（204）的頂端固定有支撐板（206）。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，其特征在于：所述儲釉箱（6）的左端固定有進釉口，所述進釉口遠離儲釉箱（6）的一端貫穿至安裝箱（4）左端的外部。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，其特征在于：所述出釉管（7）遠離儲釉箱（6）的一端貫穿至安裝箱（4）頂端的外部，所述波紋管（8）遠離出釉管（7）的一端貫穿至移動板（503）的頂部。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，其特征在于：所述移動板（503）的四周均開設(shè)有滑孔，支撐柱（504）與滑孔滑動連接，所述限位板（508）的底端與移動板（503）相固定。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，其特征在于：所述支撐板（206）的內(nèi)部開設(shè)有多個通孔，所述陶瓷坯件（3）位于通孔內(nèi)部。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，包括底座，所述底座頂端的右側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的頂部設(shè)有多個陶瓷坯件，所述底座頂端的左側(cè)固定有安裝箱，所述安裝箱的頂端設(shè)有上釉機構(gòu)，所述底座頂端的左側(cè)固定有儲釉箱，所述儲釉箱頂端的左側(cè)固定出釉管，所述出釉管遠離儲釉箱的一端固定有波紋管。該懸式內(nèi)孔二次上釉裝置，通過在底座頂端的右側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，使得陶瓷坯件能夠被批量二次上釉，從而提高陶瓷坯件的上釉效率，通過在安裝箱的頂端設(shè)有上釉機構(gòu)，使得陶瓷坯件的內(nèi)孔能夠被噴頭旋轉(zhuǎn)噴涂上釉，從而實現(xiàn)均勻上釉，避免因為上釉不均而影響產(chǎn)品的性能，整體的上釉效果良好，能夠滿足陶瓷坯件內(nèi)孔二次上釉的使用需求。

技術(shù)研發(fā)人員：張正波,姚紹明,張華秀,畢興旸,余露,張嘉
受保護的技術(shù)使用者：重慶鴿牌電瓷有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231211
技術(shù)公布日：2024/9/19