專利名稱：有機無機復(fù)合硬質(zhì)屋面瓦的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種新型的復(fù)合材料制成的屋面瓦。
目前，已有的層面瓦均為單一材料制成，如粘土瓦、水泥瓦、鐵皮瓦等。這種由單一材料制成的瓦各有不同的缺點有的成本高，有的絕熱性差，有的強度低，有的使用壽命短等。
本實用新型的目的在于提出一種新型結(jié)構(gòu)的有機無機復(fù)合硬質(zhì)屋面瓦。該瓦克服了已有單一材料瓦的缺點，是一種牢固、耐用、性能好、外觀漂亮的硬質(zhì)屋面瓦，滿足建筑行業(yè)對屋面瓦更高要求的需求。
本實用新型的主要技術(shù)內(nèi)容是，該復(fù)合硬質(zhì)屋面瓦，是由有機材料和無機材料構(gòu)成，由表層、粘接層、底層、工藝層構(gòu)成，表層與底層中間是粘接層，底層下面是工藝層，表層為增強材料與粘接材料組成，粘接層為耐水性粘接劑，底層為無機膠凝材料，增強材料和填料組成，工藝層為紙張、無紡布或塑料薄膜等，該瓦可做成波形、平形或其他形狀，表層可為任何顏色。
本實用新型的技術(shù)效果在于，由于該瓦在結(jié)構(gòu)上采用了復(fù)合結(jié)構(gòu)由表層、粘接層、底層、工藝層構(gòu)成，表層為增強材料與粘接材料組成，底層為無機膠凝材料、增強材料和填料組成，粘接層為耐水性粘接劑、工藝層為紙張、無紡布或塑料薄膜，所以該瓦不僅具有單一材料瓦的優(yōu)點而且克服了單一材料瓦的缺點，發(fā)揮了復(fù)合材料的綜合性能，具有良好的耐侯性和耐環(huán)境破壞性，機械溫度高，耐酸堿、耐腐蝕、耐火、耐老化性能好，使用壽命長，制造成本低，原料來源廣，而且該瓦色彩艷麗，外觀漂亮，適用別墅、民房、廠房、園林建筑等使用，是一種取代石棉瓦的理想屋面瓦。


圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；1、表層2、粘接層3、底層4工藝層實現(xiàn)本實用新型的最佳方案如圖所示，該有機無機復(fù)合硬質(zhì)屋面瓦，是由有機材料和無機材料構(gòu)成，由表層1、粘接層2、底層3、工藝層4構(gòu)成，表層1與底層3中間為粘接層2，底層下面為工藝層；表層1為增強材料與粘接材料組成，底層3為無機膠凝材料、增強材料、和填料組成；粘接層2為耐水性粘接劑，工藝層為紙張、無紡布、塑料薄膜等。
該瓦表層1的粘接材料可為環(huán)氧樹脂、不飽合聚酯、酚醛樹脂、有機硅樹脂、醇酸樹脂或不同樹脂復(fù)配物，增強材料為玻璃纖維布、有機纖維布、紙張或棉布等；底層3的無機膠凝材料可為氯氧鎂水泥、硅酸鹽水泥、鋁酸鹽水泥、鐵酸鹽水泥或高強度石膏，增強材料可為玻璃纖維布、玻璃短纖維、紙漿纖維或有機短纖維，填料為滑石粉、砂子、珍珠巖粉、鋸末、粉煤灰；粘接層2為耐水性粘接劑；工藝層4為紙張、無紡布、塑料薄膜等。
該復(fù)合硬質(zhì)屋面瓦的制造方法為，首先制造表層，將增強材料在粘接材料中浸漬，浸透浸均后，在一定溫度下干燥、固化，其溫度依據(jù)選用不同而變化，一般為120℃～180℃；然后在表層涂上耐水性粘接劑形成粘接層；在粘接層上制造底層，其底層制造方法為，將無機膠凝材料、填料及水或氯化鎂溶液等拌合料按比例調(diào)成漿料，將漿料均勻地灘涂在粘接層上，形成均勻的漿料層，該層的厚度約為瓦體厚度的三分之一，然后再鋪增強材料，這樣制成底層的第一層，然后按同樣的方法制第二層和第三層，第三層制成后，則制成了底層；然后再上面鋪無紡布、紙張或塑料薄膜形成工藝層；該瓦制造全部結(jié)束，經(jīng)養(yǎng)生24小時后即可為成品。
工藝層可根據(jù)制瓦設(shè)備而定，如果采用機械加工制瓦工藝層必須有，采用手工制瓦工藝層可沒有。
權(quán)利要求1.一種有機無機復(fù)合硬質(zhì)屋面瓦，由有機材料和無機材料構(gòu)成，其特征在于該瓦是由表層1、粘接層2、底層3、工藝層4構(gòu)成，表層1與底層3之間是粘接層2，底層下面是工藝層4，表層1為增強材料與粘接材料組成，底層3為無機膠凝材料、增強材料和填料組成，粘接層2為耐水性粘接劑，工藝層4為紙張、無紡布或塑料薄膜，該瓦可制成平形、波形或其他形狀，表層的顏色可為任何顏色。
專利摘要一種有機無機復(fù)合硬質(zhì)屋面瓦，由有機材料和無機材料構(gòu)成，該瓦的結(jié)構(gòu)是由表層、粘接層、底層、工藝層構(gòu)成，表層與底層中間為粘接層，底層下面為工藝層，表面為增強材料與粘接材料組成，底層為無機膠凝材料、增強材料和填料組成，粘接層為耐水性粘接劑，工藝層為紙張、無紡布或塑料薄膜，該瓦可制成波形或其他形狀。
文檔編號E04D1/28GK2114687SQ9120172
公開日1992年9月2日 申請日期1991年1月28日 優(yōu)先權(quán)日1991年1月28日
發(fā)明者許繼昌, 楊慶理, 高福成, 吳強, 劉波 申請人:哈爾濱現(xiàn)代應(yīng)用化學(xué)研究所