專利名稱：低溫回流介電－氟化硼磷硅玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及到半導(dǎo)體電子元件及其制造方法，更確切地說是涉及到用作半導(dǎo)體晶片上的基本上無空洞的窄達(dá)0.10μm且形狀比高達(dá)6∶1的層的改進(jìn)的硼磷硅玻璃，以及包括低于目前建議的制造要求的大約750℃的回流溫度下制作玻璃層的方法。
在半導(dǎo)體電子元件的制造中，必須將元件包封在玻璃中，或用玻璃作為層間介電膜。通常，玻璃層是用化學(xué)汽相淀積(CVD)方法制作在晶片表面上的SiO2層。由于工業(yè)界不斷增長的要求，對更精細(xì)的電路圖形和更高的電路密度的需求使得必須開發(fā)改進(jìn)的玻璃層來使半導(dǎo)體表面在制造工藝中層化。特別關(guān)心的是半導(dǎo)體襯底表面的不均勻性，在電路密度和高精度電路圖形進(jìn)一步提高時，變得更為關(guān)鍵。
早期在半導(dǎo)體晶片上制作玻璃層，SiO2層被用作玻璃材料。借助于將諸如硼和/或磷之類的摻雜劑加入到玻璃中，改進(jìn)了這些氧化物玻璃層，這種摻雜劑降低了熔點并使得有可能對層進(jìn)行重新加熱以軟化玻璃，使之回流，以在半導(dǎo)體器件上產(chǎn)生平坦的表面。然而，隨著電路密度和對精細(xì)電路圖形的需求的增加，已經(jīng)認(rèn)識到，制備和加工氧化物玻璃膜以填充半導(dǎo)體器件表面上的更為細(xì)小的間隙而不在氧化物玻璃層中留下空洞或氣泡，是很重要的。
硼磷硅玻璃(BPSG)目前被用作層間介電層，且必須提供窄達(dá)0.10μm且形狀比高達(dá)6∶1的無空洞的結(jié)構(gòu)填充。為了滿足這一要求，通常在其約為800-850℃的玻璃轉(zhuǎn)變溫度范圍內(nèi)，在淀積之后使BPSG層回流。玻璃轉(zhuǎn)變溫度是玻璃的一個重要性質(zhì)，而為了工藝效率和避免制造工藝中溫度對半導(dǎo)體晶片的損傷作用，非常希望回流溫度盡可能低。
通常借助于在載氣中和在汽相中，使原硅酸四乙酯(TEOS)、磷酸三甲酯(TMP)或磷化氫(PH3)和硼酸三甲酯(TMB)或硼酸三乙酯(TEB)在有氧且最好有少量臭氧存在的情況下進(jìn)行反應(yīng)而制造硼和磷摻雜的氧化硅層(BPSG)。此工藝可以在等離子體弧光工藝中，或在具有臭氧的大氣壓力下(350-600℃)，或用較高溫度(例如700-850℃)下的減壓工序來進(jìn)行。通常，較高壓力的工藝使用低溫工序，例如在400-600℃溫度于50-760乇(具有臭氧)下和350-480℃溫度于1-10乇下，用反應(yīng)劑的共同氧化來淀積BPSG。作為變通，可以采用諸如約為0.5-5乇的低壓的高溫淀積工藝，此工藝在約為700-850℃的溫度范圍內(nèi)執(zhí)行。
廣義地說，為了提供窄達(dá)0.10μm且形狀比高達(dá)6∶1的無空洞結(jié)構(gòu)填充，非常希望BPSG在制造工藝中具有低的粘度。借助于提高回流溫度，即淀積的玻璃開始流動的溫度，通常也稱為玻璃轉(zhuǎn)化溫度，可以降低BPSG的粘度。借助于提高硼和磷在BPSG中的摻雜劑濃度，也可以降低粘度。此外，玻璃的填充行為是表面張力的函數(shù)。摻氟提高了表面張力，從而降低粘度并增強了較低溫度下的填充特性。
然而，半導(dǎo)體器件的熱聚集被限制在大約800℃下30分鐘。因此，對于許多制造情況，回流溫度的提高是不可取的。同樣，由于過高的摻雜劑濃度在淀積之后導(dǎo)致硼酸或磷酸硼的表面晶體生長，故B2O3和P2O5的摻雜劑濃度被限制在大約5％重量比。由于后續(xù)光刻、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和化學(xué)機械拋光(CMP)工藝中的制造和集成問題，表面晶體是不可取的。
在這方面已經(jīng)授權(quán)了許多專利來努力改進(jìn)BPSG膜。美國專利4791005、4845054、5094984、5104482、5180692、5286681和5354387說明了在半導(dǎo)體襯底上制作BPSG膜的方法。
在歐洲公開號0562625中，公開了可以用諸如包括氟的鹵原子之類的非橋鍵組分來取代BPSG膜的氧原子。這擊破了硅原子之間的氧橋鍵，導(dǎo)致介電膜粘度降低。典型的是用氟取代BPSG膜中的部分氧，從而將介電膜的流動溫度降低到約為850℃。
考慮到現(xiàn)有技術(shù)的問題和缺陷，因此，本發(fā)明的目的是提供一種在諸如半導(dǎo)體晶片之類的襯底上制作硼磷硅玻璃的改進(jìn)了的方法，此玻璃具有改進(jìn)了的間隙填充性能和低的回流溫度。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種諸如半導(dǎo)體晶片之類的其上具有硼磷硅玻璃層的襯底，此玻璃具有改進(jìn)了的間隙填充性能和低的回流溫度。
本發(fā)明的又一目的是提供一種具有增強的間隙填充能力的硼磷硅玻璃，以提供窄達(dá)0.10μm且形狀比高達(dá)6∶1的無空洞結(jié)構(gòu)填充。
本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點將從說明書得到了解。
在本發(fā)明中達(dá)到了對本技術(shù)領(lǐng)域熟練人員而言將是顯而易見的上述和其它目的和優(yōu)點，本發(fā)明的第一種情況是在低壓化學(xué)汽相淀積室中，在諸如半導(dǎo)體晶片之類的襯底上制作增強的摻氟的硼磷硅玻璃(BPSG)的方法，它包含下列步驟在低壓化學(xué)汽相淀積室中，使由TEOS、諸如FTES(氟三乙氧基硅烷)的含氟的烷氧基硅烷、諸如TEB或TMB和PH3之類的硼和磷摻雜劑、和氧源組成的氣態(tài)源，在大約650-850℃，最好是720-780℃的溫度，和大約0.5-5乇，最好是1-3乇的壓力下，進(jìn)行混合和反應(yīng)；在淀積室中的半導(dǎo)體襯底上淀積一層摻氟的BPSG；以及在低于大約800℃，最好低于大約750℃的溫度下，回流層疊的半導(dǎo)體器件例如10-20分鐘有效時間以整平淀積的層。
在本發(fā)明的最佳情況下，本方法采用氟源對TEOS的重量比約為0.25∶1-3∶1，最好是0.5∶1-2∶1的由氟源和TEOS組成的氣態(tài)混合物。在另一個最佳實施例中，反應(yīng)溫度約為720-780℃，而反應(yīng)壓力約為1-3乇。
在半導(dǎo)體器件上制作摻氟的BPSG的最佳方法是在包含圓形反應(yīng)室的裝置中，其中多個器件水平地等距離排列在反應(yīng)室中并旋轉(zhuǎn)，氣態(tài)反應(yīng)劑進(jìn)行反應(yīng)。在本發(fā)明的極佳情況下，采用交替的分段氣流方法，其中由硼組分(例如TEB)、TEOS、氧源(例如O2)、載氣(例如N2)和氟源(例如FTES)組成的氣態(tài)混合物被混合并送入反應(yīng)室周邊處的交替的入口，而含磷摻雜劑組分(例如PH3)、氧源(例如O2)和載氣(例如N2)的氣態(tài)混合物被送入另一些交替的入口。
在本發(fā)明的又一種情況下，裝置被用來在諸如半導(dǎo)體晶片之類的襯底上制作增強的氟摻雜硼磷硅玻璃，該裝置包含低壓圓形化學(xué)汽相淀積室，它具有氣體入口裝置和將襯底支持在反應(yīng)室中的支持裝置，最好還具有旋轉(zhuǎn)襯底支持裝置的裝置；用來向入口裝置饋送由原硅酸四乙酯、含氟的烷氧基硅烷、硼和磷摻雜劑以及氧源組成的氣態(tài)源的裝置；且其中各氣體在反應(yīng)室中反應(yīng)并在襯底上淀積氟摻雜的硼磷硅玻璃層。
在本發(fā)明的再一種情況下，用本發(fā)明的方法和裝置來制作其上具有氟摻雜的BPSG(F-BPSG)層的半導(dǎo)體晶片。
在所附權(quán)利要求中詳細(xì)描述了本發(fā)明的新穎特點和元件特性。附圖僅僅是為了說明的目的，故未按比例繪出。但參照結(jié)合附圖的詳細(xì)描述，可最好地理解本發(fā)明本身的組織和操作方法，在這些附圖中

圖1是層疊有本發(fā)明BPSG膜的半導(dǎo)體器件的側(cè)視剖面圖。
圖2是層疊有現(xiàn)有技術(shù)的含有空洞的BPSG膜的半導(dǎo)體器件的側(cè)視剖面圖。
圖3是層疊有現(xiàn)有技術(shù)的含有表面晶體的BPSG膜的半導(dǎo)體器件的側(cè)視剖面圖。
圖4是本發(fā)明用來在多個半導(dǎo)體晶片襯底上淀積BPSG膜的反應(yīng)室裝置的俯視圖。
在描述本發(fā)明的最佳實施例時，將參考圖1-4，其中相同的參考號表示本發(fā)明的相同的元件。圖中本發(fā)明的各個元件不一定按比例繪出。
根據(jù)本發(fā)明，含氟的BPSG絕緣平整層(以下稱為F-BPSG)制作在半導(dǎo)體晶片和其它電子元件襯底的表面上。此F-BPSG層的特征是基本上沒有空洞和表面晶體，而且是可以在與目前提出的半導(dǎo)體晶片制造工藝相符的相當(dāng)?shù)偷幕亓鳒囟认氯菀谆亓鞯牟Ａ印?br> 此處所用的術(shù)語“半導(dǎo)體晶片”意味著包括諸如隆起的引線、溝槽和晶體管等器件之類的晶片表面結(jié)構(gòu)。半導(dǎo)體晶片表面上的結(jié)構(gòu)組成通常所稱的“臺階型表面”，表示表面結(jié)構(gòu)在結(jié)構(gòu)之間形成溝槽，包括高形狀比溝槽，亦即深度對寬度的比率大于1，例如4∶1或甚至6∶1的溝槽的一種構(gòu)造。本技術(shù)領(lǐng)域熟練人員知道，被層疊的襯底的表面內(nèi)也可以含有諸如被淀積的玻璃層填充的溝道(或溝槽)。
首先參照圖2和3，商業(yè)上無法接受的現(xiàn)有技術(shù)的集成電路結(jié)構(gòu)顯示出其上具有含空洞和/或表面晶體的BPSG層。于是，在圖2中，通常示為10的半導(dǎo)體器件包含諸如其表面上有多個隆起的引線12的硅晶片之類的襯底11。隆起的引線12在其間形成一系列的溝道即溝槽14，此溝道必須用BPSG層完全填充，不能有任何明顯數(shù)量的空洞或表面顆粒。常規(guī)涂敷并回流的BPSG層被示為13，在溝槽14中有大量的空洞15。同樣，在圖3中，在BPSG層13的表面處以及BPSG層的溝槽14中，示出了表面晶體16。
將圖2和3與根據(jù)本發(fā)明方法制得的玻璃層疊半導(dǎo)體晶片的圖1進(jìn)行比較。用本發(fā)明的方法，用F-BPSG 22涂敷其上具有一系列隆起的引線12的半導(dǎo)體襯底11。在層中沒有可能使晶片在商業(yè)上無法接受的明顯數(shù)量的空洞或表面晶體，且這種類型的玻璃層疊電子元件正是電子制造工業(yè)所需的。
本發(fā)明的F-BPSG膜層是在本技術(shù)領(lǐng)域眾所周知的低壓化學(xué)汽相淀積(LP-CVD)中制得的。在最佳實施例中，反應(yīng)室為圓形并繞垂直中心軸水平旋轉(zhuǎn)，在水平圓形平臺上置有多個硅晶片。工藝氣體被注入到反應(yīng)室中，最好注入到位于反應(yīng)室周邊的一系列入口處。在本發(fā)明的最佳情況下，采用了二組反應(yīng)氣體，每組氣體被交替地通過一系列入口注入反應(yīng)室。以下參照圖4作進(jìn)一步討論。
廣義地說，反應(yīng)劑是由磷和硼摻雜劑、原硅酸四乙酯(TEOS)和含氟的烷氧基硅烷，最好是乙氧基硅烷(FTES表示氟三乙氧基硅烷，通常用來表示氟烷氧基硅烷源)組成的氣態(tài)源。乙氧基硅烷也可以用二個氟原子取代以形成二氟二乙氧基硅烷。雖然諸如氟乙氧基硅烷的其它氟烷氧基硅烷此處也打算并可以用于工藝中，但為方便起見，下面將只對FTES進(jìn)行描述。烷氧基族最好是較低的烷氧基，通常是乙氧基。氣態(tài)反應(yīng)劑還包括由包括臭氧和氧/臭氧混合物的氧和過氧化氫組成的氣態(tài)源。諸如氬、氮或氦的載氣通常也出現(xiàn)在氣體混合物中，而且從工藝操作的觀點看是較好的。
硼和磷的氣體源可以包含分別含有硼或磷的任何氣體。硼和磷源可以含有不妨礙F-BPSG淀積，并在工藝的具體壓力和溫度范圍內(nèi)能夠分解并與TEOS和FTES二者以及氧和/或臭氧發(fā)生反應(yīng)的任何其它材料。硼和磷的這種氣態(tài)源最好是有機的含硼和含磷氣體，它在淀積溫度下會分解，而氣體組分的剩余部分揮發(fā)并被保持反應(yīng)室真空的真空抽氣系統(tǒng)清除。
硼和磷的這種氣態(tài)源的例子包括硼酸三乙酯(TEB)、硼酸三甲酯(TMB)、磷化氫、磷酸三乙酯(TEP)之類及其混合物。由于所顯現(xiàn)的效率，最佳的硼和磷氣態(tài)源是TEB和磷化氫。
本發(fā)明的一個重要特點是，在低壓化學(xué)汽相淀積(LPCVD)反應(yīng)室中采用由TEOS和FTES組成的混合物來獲得本發(fā)明的增強F-BPSG膜層。FTES對TEOS的重量比可以大幅度變化，最好是在大約0.25∶1-3∶1之間，大約0.5∶1-2∶1，例如0.5∶1-1∶1更好。
通常，用本技術(shù)領(lǐng)域眾所周知的液體注入系統(tǒng)，將氣態(tài)反應(yīng)劑源與諸如氮、氬或氦之類的不反應(yīng)的載氣混合。液體注入系統(tǒng)一般利用分立的泵將液體反應(yīng)劑抽入揮發(fā)腔，然后將蒸汽饋至反應(yīng)室中。這樣，若要將一種以上的液體以氣態(tài)混合物的形式饋至反應(yīng)室，則各個液體被抽入同一個腔并揮發(fā)，然后以氣態(tài)混合物的形式注入。
氣態(tài)反應(yīng)劑和/或蒸發(fā)的液體反應(yīng)劑可以單獨地與各個惰性載氣混合并分別注入到反應(yīng)室中。最好的方法是將硼和磷摻雜劑的氣態(tài)源與恰當(dāng)?shù)姆欠磻?yīng)性載氣組合成一個氣態(tài)注入流，而TEOS和FTES組合成另一個氣態(tài)注入流。氧和/或臭氧反應(yīng)劑可以與所述二個流中的一個或二者混合。
在本發(fā)明的極佳實施例中，由于其顯現(xiàn)的效率，形成了二個氣態(tài)注入流。一個注入流含有磷化氫(或其它磷源)、氧和/或臭氧、以及氮之類的載氣。另一個反應(yīng)劑流含有諸如TEB、TEOS、FTES、氧和/或臭氧、以及氮之類的載氣?？梢匀缟纤鍪褂蒙鲜龅囊后w注入系統(tǒng)。
本發(fā)明所用的最佳真空反應(yīng)室裝置包含圓形裝置，其中晶片位于旋轉(zhuǎn)的水平平臺的周邊。圖4示出了此裝置的分區(qū)情況，它包含一系列注入口，各個上述氣體流沿真空反應(yīng)室的周邊交替地注入。于是，如圖4所示，示為17的反應(yīng)室具有均勻地位于反應(yīng)室平臺21的周邊的9個晶片10。在反應(yīng)室周邊處示出了表示為18a-18l的許多輸入口。如上所述用液體注入系統(tǒng)制備的包含TEB/TEOS/FTES/O2/N2的氣態(tài)源19，在交替的輸入口18a、18c、18e、18g、18i、18k處被引入。含磷化氫/O2/N2的含磷流20如所示被饋送到入口18b、18d、18f、18h、18j、18l。反應(yīng)室17在淀積工藝過程中如箭頭A所示的方向旋轉(zhuǎn)。
本發(fā)明的方法包含采用低壓化學(xué)汽相淀積(LPCVD)工藝以及使用由TEOS和FTES反應(yīng)劑組成的混合物作為硅源。廣義地說，F(xiàn)-BPSG層的反應(yīng)和淀積是在約為650-850℃的淀積溫度和約為0.5-5乇的壓力下進(jìn)行的。在最佳實施例中，采用了約為750-850℃的淀積溫度，這在淀積工藝過程中提供了淀積的F-BPSG層的原位回流。由于這一原位回流，可以用同一個淀積/退火溫度和同一個硼和磷摻雜劑濃度來填充具有高形狀比和例如小于0.10μm的小間隙的晶片窗口。不管所用的淀積條件如何，在淀積之后，可以而且通常是在與進(jìn)行淀積時所用的同一個LPCVD系統(tǒng)中于750-850℃下，最好是在低于800℃，例如750℃下，執(zhí)行20分鐘的退火。這就提高了工作效率并降低了制造工藝的成本。通常在0.5-5乇，例如1-3乇的低壓下進(jìn)行退火。
已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，在同一個淀積溫度和同一個退火溫度下以同一個硼和磷摻雜劑濃度來制作常規(guī)BPSG膜和本發(fā)明的F-BPSG膜的比較例子中，本發(fā)明的F-BPSG膜提供了無空洞的填充，而BPSG淀積具有大量的空洞，在商業(yè)上是無法接受的。
為了得到最高淀積速率而進(jìn)入淀積室的氣態(tài)反應(yīng)劑的總流速，隨用于淀積工藝的特定裝置的設(shè)計和幾何形狀稍有變化。通常，反應(yīng)劑的流速被用來提供組分重量比約為2-5％的硼和2-5％的磷的F-BPSG膜。F-BPSG中的氟濃度約為1ppm-1％重量比。
下面的例子被用來描述本發(fā)明，但不是用來限制本發(fā)明。
例利用Lam Research制造的DSM9800系統(tǒng)，同時處理了9個8英寸的晶片。如圖4所示，通過12個注入口交替地注入用液體注入系統(tǒng)制備的TEB/FTES/TEOS/O2/N2混合物和PH3/O2/N2氣體混合物。液體的供應(yīng)速率約為10ml/min(總的液體)。PH3約為每分鐘1標(biāo)準(zhǔn)升(slpm)，O2約為2slpm，而N2約為3slpm。
固定晶片的平臺在淀積過程中以1-10rpm的速率旋轉(zhuǎn)。系統(tǒng)的壓力為2.9乇，而淀積溫度為750℃。5分鐘之后停止淀積。在同樣為2.9乇的反應(yīng)室中進(jìn)行20分鐘的750℃退火。
淀積的晶片的組分重量比為大約4.5％的P，大約4.5％的B和大約0.1％的F。淀積的晶片呈現(xiàn)平坦的表面而沒有明顯數(shù)量的空洞或表面顆粒。此晶片的特征是其上具有一系列的64兆位器件，器件之間有0.15μm的間隙，而形狀比約為4∶1。
雖然結(jié)合具體的最佳實施例已經(jīng)具體地描述了本發(fā)明，但顯然，對于本技術(shù)領(lǐng)域的熟練人員來說，根據(jù)前面的描述，可以作出許多的變通、修正和變化。因此認(rèn)為所附權(quán)利要求包羅了所有這些符合本發(fā)明范圍與構(gòu)思的變通、修正和變化。
權(quán)利要求
1.一種在低壓化學(xué)汽相淀積室中，在半導(dǎo)體晶片上制作摻氟的硼磷硅玻璃(F-BPSG)的方法，它包含下列步驟在低壓化學(xué)汽相淀積室中，于大約650-850℃的溫度和大約0.5-5乇的壓力下，混合并反應(yīng)由TEOS、氟烷氧基硅烷、硼和磷摻雜劑以及氧源組成的氣態(tài)源；在反應(yīng)室中淀積的半導(dǎo)體襯底上，淀積摻氟的BPSG層；以及在低于大約800℃的溫度下，使層疊的半導(dǎo)體器件回流一段有效的時間以整平淀積的層。
2.權(quán)利要求1的方法，其中氟烷氧基硅烷對原硅酸四乙酯的重量比約為0.25∶1-3∶1。
3.權(quán)利要求2的方法，其中氟烷氧基硅烷是氟三乙氧基硅烷。
4.權(quán)利要求3的方法，其中反應(yīng)溫度約為720-780℃，而壓力約為1-3乇。
5.權(quán)利要求4的方法，其中硼源是硼酸三乙酯或硼酸三甲酯，而磷源是磷化氫。
6.權(quán)利要求1的方法，其中二個分立的氣態(tài)注入流被混合并反應(yīng)，第一流含有磷源、氧和載氣，而第二流含有硼源、原硅酸四乙酯、含氟的烷氧基硅烷、氧和載氣。
7.權(quán)利要求6的方法，其中硼源是硼酸三乙酯或硼酸三甲酯，而磷源是磷化氫。
8.一種用權(quán)利要求1的方法制得的摻氟的硼磷硅玻璃涂敷的半導(dǎo)體晶片。
9.一種用權(quán)利要求6的方法制得的摻氟硼磷硅玻璃涂敷的半導(dǎo)體晶片。
10.一種用來在半導(dǎo)體晶片上制作摻氟的硼磷硅玻璃的裝置，它包含低壓圓形化學(xué)汽相淀積室，它具有氣體入口裝置、用來將晶片支持在反應(yīng)室中的支持裝置、和用來旋轉(zhuǎn)襯底支持裝置的裝置；用來將由原硅酸四乙酯、含氟的烷氧基硅烷、硼和磷摻雜劑、以及氧源饋送到入口裝置的裝置；且其中氣體在反應(yīng)室中反應(yīng)，并在晶片上淀積摻氟的硼磷硅玻璃層。
11.權(quán)利要求10的裝置，其中反應(yīng)室具有多個入口裝置，二個氣態(tài)流被引入不同的入口裝置，第一流含有磷源、氧和載氣，而第二流含有硼源、原硅酸四乙酯、含氟的烷氧基硅烷、氧和載氣。
12.權(quán)利要求11的裝置，其中含氟的烷氧基硅烷是乙氧基硅烷，硼源是硼酸三乙酯或硼酸三甲酯，而磷源是磷化氫。
13.權(quán)利要求12的裝置，其中含氟的烷氧基硅烷是氟三乙氧基硅烷。
全文摘要
用低壓CVD工藝在器件上制作摻氟硼磷硅玻璃(F－BPSG)的裝置和方法。F－BPSG玻璃在具有窄達(dá)0.10μm的間隙和6∶1的形狀比的結(jié)構(gòu)的襯底上,表現(xiàn)為基本上無空洞和無顆粒的層。反應(yīng)劑氣體包括由硼和磷摻雜劑、氧、以及TEOS和FTES的混合物組成的源。在約為750—850℃的溫度和1—3乇的壓力下淀積。最好于相似的條件下退火,以進(jìn)一步整平F－BPSG表面。還提供了F－BPSG玻璃和其上有摻氟BPSG層的半導(dǎo)體晶片。
文檔編號C03B19/00GK1270935SQ9910512
公開日2000年10月25日 申請日期1999年4月16日 優(yōu)先權(quán)日1999年4月16日
發(fā)明者馬庫斯·基爾紹夫, 阿什馬·查克拉瓦蒂, 馬西斯·伊爾格, 凱文·A·邁克金利, 桑·V·恩古恩, 邁克爾·J·沙皮羅 申請人:國際商業(yè)機器公司, 西門子公司, 蘭姆研究公司