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      一種幕墻用鋁合金板的制作方法

      文檔序號:9369212閱讀:409來源:國知局
      一種幕墻用鋁合金板的制作方法
      【技術(shù)領域】
      [0001]本發(fā)明涉及建筑材料領域,特別是涉及一種幕墻用鋁合金板。
      【背景技術(shù)】
      [0002]隨著建筑物外部更多的采用幕墻,傳統(tǒng)的材料已不適合防腐、耐用、色彩性能出色的要求,高性能的鋁合金板材的需求市場越來越大,而因為高層建筑很高,后期的清理的工作量也非常大,人們希望找到更便捷的方式來避免。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本發(fā)明為了解決現(xiàn)有技術(shù)的問題,提供了一種耐腐蝕性好、自潔性高、使用壽命長、色彩多樣的幕墻用鋁合金板。
      [0004]為了達到以上目的,本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:
      一種幕墻用鋁合金板,包含鋁合金基層,在鋁合金基層的外表面上,從內(nèi)而外依次復合有金剛砂鈍化層、硅酸鹽納米陶瓷底漆層和改性陶瓷面漆層,在鋁合金基層(I)的內(nèi)表面上,也復合有一層第二金剛砂鈍化層,所述鋁合金基層的厚度為3~6mm,所述金剛砂鈍化層、硅酸鹽系列納米陶瓷底漆層和改性陶瓷面漆層三層的總厚度為30~50um。
      [0005]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的幕墻用鋁合金板,耐腐蝕性強,涂層環(huán)境友好度高,見人不易劃傷,且自潔性好,大大減少后期維護工作量,,也能做到色彩多樣,具有廣闊的市場前景。
      【附圖說明】
      [0006]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
      【具體實施方式】
      [0007]本說明書中公開的所有特征,或公開的所有方法或過程中的步驟,除了互相排斥的特征和/或步驟以外,均可以以任何方式組合。
      [0008]本說明書(包括任何附加權(quán)利要求、摘要)中公開的任一特征,除非特別敘述,均可被其他等效或具有類似目的的替代特征加以替換。即,除非特別敘述,每個特征只是一系列等效或類似特征中的一個例子而已。
      [0009]如圖1所示,本發(fā)明所提供的一種幕墻用鋁合金板,包含鋁合金基層1,其特征在于,在鋁合金基層I的外表面上,從內(nèi)而外依次復合有金剛砂鈍化層2、硅酸鹽納米陶瓷底漆層3和改性陶瓷面漆層4,在鋁合金基層I的內(nèi)表面上,也復合有一層第二金剛砂鈍化層5,所述鋁合金基層I的厚度為3~6mm,所述金剛砂鈍化層2、硅酸鹽系列納米陶瓷底漆層3和改性陶瓷面漆層4三層的總厚度為30~50um。
      [0010]本發(fā)明的幕墻用鋁合金板,耐腐蝕性強,自潔性好,大大減少后期維護工作量,制作成本低,也能做到色彩多樣,具有廣闊的市場前景。
      [0011]本發(fā)明并不局限于前述的【具體實施方式】。本發(fā)明擴展到任何在本說明書中披露的新特征或任何新的組合,以及披露的任一新的方法或過程的步驟或任何新的組合。
      【主權(quán)項】
      1.一種幕墻用鋁合金板,包含鋁合金基層(I),其特征在于,在鋁合金基層(I)的外表面上,從內(nèi)而外依次復合有第一金剛砂鈍化層(2)、硅酸鹽納米陶瓷底漆層(3)和改性陶瓷面漆層(4),在鋁合金基層(I)的內(nèi)表面上,也復合有一層第二金剛砂鈍化層(5),所述鋁合金基層(I)的厚度為3~6mm,所述金剛砂鈍化層(2)、硅酸鹽系列納米陶瓷底漆層(3)和改性陶瓷面漆層(4)三層的總厚度為30~50um。
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種幕墻用鋁合金板,包含鋁合金基層(1),其特征在于,在鋁合金基層(1)的外表面上,從內(nèi)而外依次復合有金剛砂鈍化層(2)、硅酸鹽納米陶瓷底漆層(3)和改性陶瓷面漆層(4),在鋁合金基層(1)的內(nèi)表面上,也復合有一層第二金剛砂鈍化層(5),所述鋁合金基層(1)的厚度為3~6mm,所述金剛砂鈍化層(2)、硅酸鹽系列納米陶瓷底漆層(3)和改性陶瓷面漆層(4)三層的總厚度為30~50um。本發(fā)明的幕墻用鋁合金板,耐腐蝕性強,涂層環(huán)境友好度高,見人不易劃傷,且自潔性好,大大減少后期維護工作量,也能做到色彩多樣,具有廣闊的市場前景。
      【IPC分類】B32B13/04, B32B9/04, B32B15/04, E04B2/88
      【公開號】CN105089188
      【申請?zhí)枴緾N201510513586
      【發(fā)明人】許才坤
      【申請人】江陰市中聯(lián)電力設備有限公司
      【公開日】2015年11月25日
      【申請日】2015年8月20日
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