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      低輻射鍍膜中空玻璃的生產(chǎn)工藝的制作方法

      文檔序號(hào):2111153閱讀:1237來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:低輻射鍍膜中空玻璃的生產(chǎn)工藝的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明屬于建筑材料技術(shù)領(lǐng)域,具體來(lái)說(shuō)是一種低輻射鍍膜中空玻璃的生產(chǎn)工藝。
      背景技術(shù)
      中空玻璃是一種玻璃深加工產(chǎn)品,由兩片或多片透明玻璃或鍍膜玻璃進(jìn)行合片加工而成。玻片之間充有空氣,由于空氣的熱傳導(dǎo)率非常低,只有普通玻璃的1/27,所以中空玻璃能有效地直接隔斷熱量傳導(dǎo)流失,從而達(dá)到節(jié)能、防結(jié)露等效果。
      低輻射鍍膜中空玻璃是又一種玻璃深加工產(chǎn)品,也稱Low-E玻璃,它是在玻璃的表面鍍一層金屬銀膜,使玻璃輻射率從0.84降到0.04-0.12。它還具有較好的光譜選擇性,在大量通過(guò)可見(jiàn)光的基礎(chǔ)上,能阻擋相當(dāng)部分紅外線進(jìn)入室內(nèi),特別是遠(yuǎn)紅外線幾乎全被反射回去而不透過(guò)玻璃,因而它能保持室內(nèi)光線明亮,又在一定程度上減少了室內(nèi)的熱負(fù)荷。采用低輻射鍍膜中空玻璃的幕墻結(jié)構(gòu),使建筑物具有最大限度的光通透性和最佳的視覺(jué)效果,同時(shí)具有良好的隔熱保溫、防結(jié)露和隔聲效果,其熱阻性比普通中空玻璃提高一倍以上。所以,低輻射鍍膜中空玻璃是一種非常有使用價(jià)值的節(jié)能玻璃。這種玻璃的生產(chǎn)工藝依鍍膜方法的不同分為在線鍍膜法和離線鍍膜法。在線鍍膜法即CVD法。離線鍍膜法即真空磁控濺射法,真空磁控濺射法的缺點(diǎn)在于設(shè)備投資大,成本高,操作復(fù)雜。

      發(fā)明內(nèi)容
      針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的上述不足,本發(fā)明的目的是提供一種生產(chǎn)低輻射鍍膜中空玻璃的工藝,它采用銀鏡反應(yīng)法對(duì)基片鍍銀膜,設(shè)備投資小、成本低、操作簡(jiǎn)單、能適用于不同生產(chǎn)規(guī)模應(yīng)用。
      本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是生產(chǎn)低輻射鍍膜中空玻璃的工藝流程包括切片、磨邊、清洗烘干、離線鍍膜、鋁框拼裝定位、合片及合片后工序等,本發(fā)明的特別之處在于所述的離線鍍膜工序是采用銀鏡反應(yīng)法鍍銀膜,它包括以下次序的幾個(gè)步驟(1)、鍍介質(zhì)膜——即敏化處理用噴嘴將SnCl2溶液均勻地噴在已清洗烘干的基片上,處理時(shí)間為2-3分鐘。將鍍完介質(zhì)膜的基片進(jìn)行充分沖洗,沖洗至基片上不再殘留有Cl-為度。
      (2)、鍍功能膜——銀膜用噴嘴將氫氧化二氨合銀(Ag(NH3)2OH)溶液均勻地噴鍍?cè)谝彦兺杲橘|(zhì)膜的基片上,同時(shí)用另一噴嘴將還原液——葡萄糖溶液均勻地噴鍍?cè)谏鲜鲆彦冇薪橘|(zhì)膜的基片上,單片噴鍍時(shí)間為50-70秒。
      (3)、鍍保護(hù)膜將聚甲基丙烯酸甲脂溶于丙酮中,使其粘度為3-8dPa·S,用噴嘴將此溶液均勻地噴鍍?cè)谝彦冇秀y膜的基片上。
      在磨邊和清洗烘干工序之間,增加一個(gè)貼保護(hù)帶工序即在需鍍膜的基片周邊貼上一層保護(hù)膠帶,膠帶寬為30-50mm。
      所述的SnCl2溶液的濃度為5-27g/l;氫氧化二氨合銀溶液的濃度為0.1-1.5%;葡萄糖溶液的濃度為3-10%。
      所述的噴嘴的壓力為2-3Kgf/cm2,噴嘴的口徑為0.2-0.3mm。
      所述的鍍功能膜工序和其后的吹風(fēng)干燥過(guò)程均需在保護(hù)氣氛下進(jìn)行,所述的保護(hù)氣氛的氣體是氮?dú)饣蚨栊詺怏w。
      清洗烘干和敏化處理的污水均需在污水處理工序中進(jìn)行處理,達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)后才能排放。
      合片后的中空玻璃中充有氬氣或其它惰性氣體。
      本發(fā)明采用了一種技術(shù)成熟的鍍銀膜方法——銀鏡反應(yīng)法來(lái)進(jìn)行玻片的鍍膜,它具有設(shè)備投資小、成本低、操作簡(jiǎn)單、能適用于不同生產(chǎn)規(guī)模應(yīng)用等優(yōu)點(diǎn)。用銀鏡反應(yīng)法生產(chǎn)的銀膜很均勻,很薄(一般在0.03-0.06μm),可見(jiàn)光透過(guò)率在70%以上。在這里要說(shuō)明的是本發(fā)明是基于銀鏡反應(yīng)的原理,它與普通銀鏡玻璃的鍍銀是根本不同的兩回事,不同點(diǎn)有(1)、普通銀鏡玻璃的銀膜很厚,一般在80μm左右,而本發(fā)明的銀膜很薄,僅只有0.03-0.06μm。
      (2)、普通銀鏡玻璃的鍍銀液濃度很大,一般在5%左右,而本發(fā)明的鍍銀液濃度很小,僅只有0.1-1.5%。
      (3)、普通銀鏡玻璃的保護(hù)膜為銅或不透明的油漆,而本發(fā)明的保護(hù)膜是透明度極佳的聚甲基丙烯酸甲脂;因而,普通銀鏡玻璃膜可見(jiàn)光透過(guò)率在20%以下,而本發(fā)明的膜層可見(jiàn)光透過(guò)率在70%以上;普通銀鏡玻璃的鍍膜完成后是不透光的,而本發(fā)明的中空玻璃成品的透光率仍能達(dá)到65%以上。
      (4)所采用的工藝措施也是不一樣的,普通銀鏡玻璃噴鍍時(shí)噴嘴口徑較大,通常為0.76mm,而本發(fā)明的噴嘴口徑僅只0.28mm或更小。
      (5)普通銀鏡玻璃鍍膜的反應(yīng)時(shí)間一般在3-5分鐘左右,而本發(fā)明的反應(yīng)時(shí)間為1分鐘左右。
      由于鍍銀液濃度低,極易被氧化,鍍銀和吹風(fēng)干燥過(guò)程所采用的保護(hù)氣氛避免了銀膜在生產(chǎn)過(guò)程中被氧化,從而保證了銀膜的性能。
      本發(fā)明還在銀膜上鍍有一層保護(hù)膜,此保護(hù)膜是聚甲基丙烯酸甲脂,它又稱PMMA塑料(有機(jī)玻璃),它透明性極好,強(qiáng)度較高,有一定的耐熱耐寒性,耐腐蝕,絕緣性良好。因此,使用本發(fā)明的工藝生產(chǎn)的低輻射鍍膜中空玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率大于65%,紅外線(熱能)的反射率大于75%,建筑物使用普通中空玻璃比單層玻璃節(jié)能達(dá)50%左右,而使用本發(fā)明的銀鏡反應(yīng)法鍍銀的低輻射鍍膜中空玻璃比單層玻璃節(jié)能達(dá)70%左右。
      由于中空玻璃密封劑不粘貼鍍膜的涂層,需將邊部膜層磨去才能粘貼,由此增加了生產(chǎn)成本及工序費(fèi)用,延長(zhǎng)了生產(chǎn)周期。本發(fā)明采用了在鍍膜前先貼保護(hù)帶的措施,經(jīng)鍍膜處理完后再撕掉保護(hù)帶就可直接粘貼裝配成中空玻璃,省去了工序節(jié)約了成本。


      附圖1為本發(fā)明的LOW-E中空玻璃生產(chǎn)工藝流程示意圖。
      具體實(shí)施例方式
      下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
      作進(jìn)一步詳細(xì)的描述。木發(fā)明的工藝流程如附圖所示,它與現(xiàn)有技術(shù)的工藝流程的最大不同在于采用了銀鏡反應(yīng)法鍍銀膜,鍍銀膜之前要對(duì)基片進(jìn)行敏化處理,又稱為鍍第一層介質(zhì)膜,這一層作為可見(jiàn)光和近紅外線部分的防止反射物質(zhì),維持玻璃的清晰,同時(shí)提高了銀膜和玻璃的表面附著力。介質(zhì)膜鍍完之后要沖洗干凈,避免產(chǎn)生氯化銀沉淀物,影響銀膜的附著力。然后用銀鏡反應(yīng)法鍍銀膜,由于鍍銀液濃度低,極易被氧化,鍍銀和吹風(fēng)干燥過(guò)程均需要采用保護(hù)氣氛,以避免了銀膜在生產(chǎn)過(guò)程中被氧化,從而保證銀膜的性能。鍍銀液的配制例用硝酸銀溶液(濃度為10~15%)加入等體積的氫氧化鉀溶液(濃度為10~15%)混合均勻,再加入與上述硝酸銀溶液等體積的氨水溶液(濃度為20-30%),再將此溶液稀釋到所需的應(yīng)用濃度(0.1~1.5%)。還原液的配制例將精制白糖60-100g溶于500-600ml蒸餾水中,加入8-12%的硫酸溶液20-50ml,煮沸10分鐘,放置冷卻,冷卻后加入蒸餾水,使溶液濃度為3~10%。在所鍍的銀膜之上再鍍一層保護(hù)膜。此保護(hù)膜采用透光性極好的聚甲基丙烯酸甲脂。然后進(jìn)行合片,在合片后的中空玻璃中充入氬氣。在本發(fā)明的工藝中還包括污水處理的工序,工藝中所排出的污水均需進(jìn)行污水處理,使其達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)后再排放。
      權(quán)利要求
      1.一種低輻射鍍膜中空玻璃的生產(chǎn)工藝,其工藝流程包括切片、磨邊、清洗烘干、離線鍍膜、鋁框拼裝定位、合片及合片后工序等,其特征在于所述的離線鍍膜工序是采用銀鏡反應(yīng)法鍍銀膜,它包括以下次序的幾個(gè)步驟(1)、鍍介質(zhì)膜——即敏化處理用噴嘴將SnCl2溶液均勻地噴在已清洗烘干的基片上,處理時(shí)間為2-3分鐘;將鍍完介質(zhì)膜的基片進(jìn)行充分沖洗,沖洗至基片上不再殘留有Cl-為度;(2)、鍍功能膜——銀膜用噴嘴將氫氧化二氨合銀(Ag(NH3)2OH)溶液均勻地噴鍍?cè)谝彦兺杲橘|(zhì)膜的基片上,同時(shí)用另一噴嘴將還原液——葡萄糖溶液均勻地噴鍍?cè)谝彦冇薪橘|(zhì)膜的基片上,單片噴鍍時(shí)間為50-70秒;(3)、鍍保護(hù)膜將聚甲基丙烯酸甲脂溶于丙酮中,使其粘度為3-8dPa·S,用噴嘴將此溶液均勻地噴鍍?cè)谝彦冇秀y膜的基片上;在磨邊和清洗烘干工序之間,增加一個(gè)貼保護(hù)帶工序即在需鍍膜的基片周邊貼上一層保護(hù)膠帶,膠帶寬為30-50mm。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于所述的SnCl2溶液的濃度為5-27g/l;氫氧化二氨合銀溶液的濃度為0.1-1.5%;葡萄糖溶液的濃度為3-10%。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于所述的噴嘴的壓力為2-3Kgf/cm2,噴嘴的口徑為0.2-0.3mm。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于所述的鍍功能膜工序和其后的吹風(fēng)干燥過(guò)程均需在保護(hù)氣氛下進(jìn)行,所述的保護(hù)氣氛的氣體是氮?dú)饣蚨栊詺怏w。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于清洗烘干和敏化處理的污水均需在污水處理工序中進(jìn)行處理,達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)后排放。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于合片后的中空玻璃中充有氬氣或其它惰性氣體。
      全文摘要
      本發(fā)明公開(kāi)了一種低輻射鍍膜中空玻璃的生產(chǎn)工藝。屬于建筑材料技術(shù)領(lǐng)域,具體來(lái)說(shuō)是一種中空玻璃的生產(chǎn)工藝。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是采用銀鏡反應(yīng)法鍍銀膜,先用SnCl
      文檔編號(hào)E06B3/66GK1569715SQ03128379
      公開(kāi)日2005年1月26日 申請(qǐng)日期2003年7月24日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月24日
      發(fā)明者易喬木, 劉懷藝, 趙青南, 楊永力, 趙勇, 張琦, 馮國(guó)華 申請(qǐng)人:武漢利安捷建材有限公司, 武漢理工大學(xué)
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