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      清潔基站及清潔系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號:40274653發(fā)布日期:2024-12-11 13:09閱讀:17來源:國知局
      清潔基站及清潔系統(tǒng)的制作方法

      本公開涉及清潔機械領(lǐng)域,更準(zhǔn)確地說,特別涉及一種清潔基站;本公開還涉及一種清潔系統(tǒng)。


      背景技術(shù):

      1、環(huán)境衛(wèi)生是影響生活質(zhì)量的重要因素,因此,伴隨著人們對生活質(zhì)量的要求的不斷提高,相應(yīng)的對環(huán)境衛(wèi)生的要求也越來越高,于是出現(xiàn)了許多清潔地面的設(shè)備,常用的有吸塵器、掃地機和洗地機等。洗地機是一種清洗地面同時吸干污水,并將污水帶離現(xiàn)場的清潔設(shè)備。

      2、為了向洗地機中提供清水,并回收清洗過程中產(chǎn)生的污水,現(xiàn)有的清潔基站中一般設(shè)置有用于儲存清水的清水桶和存儲污水的污水桶。但是這類清潔基站需要定期添加清水和清理污水,現(xiàn)有基站的自動上下水功能也是在這類具有清水箱、污水箱的結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上進行兼容,基站本身體積較大,占用空間大,不易布置,從而影響到了用戶的使用體驗。


      技術(shù)實現(xiàn)思路

      1、本公開為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,提供了一種清潔基站及清潔系統(tǒng)。

      2、根據(jù)本公開的第一方面,提供了一種清潔基站,用于對自移動設(shè)備進行清潔,包括:

      3、基站本體,所述基站本體包括供用于對接清潔機器人的容納腔,在所述容納腔的底部設(shè)置有清洗槽,所述清洗槽被構(gòu)造為用于供清潔機器人進行自清潔;

      4、上水組件,所述上水組件設(shè)置在所述基站本體上,且被構(gòu)造為與外部水源連通,所述基站本體被構(gòu)造為僅通過上水組件使外部水源為所述清潔機器人進行供水;

      5、排污組件,所述排污組件連通所述清洗槽與外界;所述基站本體被構(gòu)造為僅通過所述排污組件將所述清洗槽中的臟污排到外界。

      6、在本公開的一個實施例中,所述上水組件包括:

      7、進水接頭,所述進水接頭被構(gòu)造為用于與外部水源連通;

      8、注水件,所述注水件設(shè)置于所述容納腔的腔壁上,并通過閥門組件與所述進水接頭連通,所述注水件被配置為在所述清潔機器人進入所述容納腔的情況下與所述清潔機器人的入水口對接,以使外部水源在自身水壓作用下為所述清潔機器人進行供水。

      9、在本公開的一個實施例中,所述清洗槽內(nèi)設(shè)置有進水口,所述進水口通過閥門組件與所述進水接頭連通,以使外部水源在自身水壓作用下向所述清洗槽內(nèi)供水。

      10、在本公開的一個實施例中,所述閥門組件包括第一閥門和第二閥門,所述第二閥門設(shè)置有閥門入口、第一出口和第二出口,所述閥門入口通過總?cè)胨艿琅c所述進水接頭連通,所述第一出口與所述注水件連通,所述第二出口與所述進水口連通;

      11、所述第一閥門被配置為控制所述總?cè)胨艿赖耐〝啵龅诙y門被配置為用于控制所述閥門入口在連通所述第一出口或連通所述第二出口的狀態(tài)之間切換。

      12、在本公開的一個實施例中,所述上水組件還包括設(shè)置于所述總?cè)胨艿郎系臍⒕鷨卧?,所述殺菌單元被?gòu)造為向從所述進水接頭流入的水中加入具有殺菌作用的物質(zhì)。

      13、在本公開的一個實施例中,所述上水組件還包括設(shè)置于所述總?cè)胨艿郎系牧髁繖z測單元,所述流量檢測單元被構(gòu)造為獲取從所述進水接頭流入的水流量。

      14、在本公開的一個實施例中,所述上水組件還包括兩端分別與所述第二出口、所述進水口連通的加熱單元,所述加熱單元被配置為對從所述第二出口流出的水進行加熱。

      15、在本公開的一個實施例中,所述清潔基站還包括控制單元,所述上水組件還包括溫度傳感器,所述溫度傳感器被配置為獲取從所述加熱單元流出的水溫,所述控制單元被配置為基于所述溫度傳感器所獲取的水溫控制所述加熱單元的加熱功率和/或開關(guān)狀態(tài)。

      16、在本公開的一個實施例中,所述進水口設(shè)置有至少兩個,所述上水組件還包括匯合件,所述匯合件設(shè)置有至少一個入口和至少兩個出口,所述第二出口與所述匯合件的其中一個所述入口連通,各個所述進水口分別與所述匯合件的對應(yīng)出口連通。

      17、在本公開的一個實施例中,還包括清潔液組件,所述清潔液組件包括清潔液箱和輸送泵,所述輸送泵被配置為將所述清潔液箱中的清潔液輸送至所述匯合件的其中一個入口。

      18、在本公開的一個實施例中,所述排污組件包括:

      19、出水接頭,所述出水接頭被構(gòu)造為用于與排污口連通;

      20、吸污泵,所述吸污泵的吸污口設(shè)置于所述清洗槽內(nèi),所述吸污泵被構(gòu)造為將所述清洗槽內(nèi)的臟污泵至所述出水接頭,進而排出至外界。

      21、在本公開的一個實施例中,所述吸污口被構(gòu)造為低于所述清洗槽的底面。

      22、在本公開的一個實施例中,所述清洗槽內(nèi)設(shè)置有過濾件,所述過濾件被構(gòu)造為將臟污中尺寸大于設(shè)定尺寸的固體垃圾攔截于所述清洗槽內(nèi),以避免尺寸大于設(shè)定尺寸的固體垃圾進入所述排污口。

      23、在本公開的一個實施例中,所述清潔基站還包括控制單元,所述排污組件還包括臟污傳感器,所述臟污傳感器被配置為獲取從吸污泵流出臟污的渾濁度,所述控制單元被配置為在所述臟污傳感器所獲取的渾濁度低于設(shè)定渾濁度時控制閥門組件使外部水源停止向所述清洗槽內(nèi)供水,并控制所述吸污泵工作設(shè)定時間后停機。

      24、在本公開的一個實施例中,所述基站本體的側(cè)面上設(shè)置有水管接頭,所述進水接頭和所述出水接頭均被構(gòu)造為延伸至所述水管接頭,以與外界連通。

      25、在本公開的一個實施例中,還包括設(shè)置于所述基站本體上的集塵組件,所述容納腔內(nèi)設(shè)置有集塵口,所述集塵組件被配置為在所述集塵口與所述清潔機器人的排塵口對接時,將所述清潔機器人的塵盒內(nèi)的垃圾吸出。

      26、在本公開的一個實施例中,所述集塵組件設(shè)置于所述容納腔上方;

      27、所述清潔基站還包括控制單元,所述控制單元、所述上水組件的部分結(jié)構(gòu)和所述排污組件的部分結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述集塵組件的上方或側(cè)面。

      28、根據(jù)本公開的第二方面,提供了一種清潔系統(tǒng),包括清潔機器人和所述清潔基站。

      29、在本公開的清潔基站,由于基站本體僅通過上水組件使外部水源為清潔機器人進行供水,并且僅通過排污組件將清洗槽中的臟污排到外界,無需設(shè)置清水箱、污水箱等結(jié)構(gòu),從而可以有效減小清潔基站的體積,進而減小清潔基站的占用空間,使得清潔基站的布置更加容易,有效提高了用戶的使用體驗。

      30、通過以下參照附圖對本公開的示例性實施例的詳細(xì)描述,本公開的其它特征及其優(yōu)點將會變得清楚。



      技術(shù)特征:

      1.一種清潔基站,用于對自移動設(shè)備進行清潔,其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基站,其特征在于,所述上水組件(2)包括:

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔基站,其特征在于,所述清洗槽(12)內(nèi)設(shè)置有進水口(13),所述進水口(13)通過閥門組件(23)與所述進水接頭(21)連通,以使外部水源在自身水壓作用下向所述清洗槽(12)內(nèi)供水。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔基站,其特征在于,所述閥門組件(23)包括第一閥門(231)和第二閥門(232),所述第二閥門(232)設(shè)置有閥門入口(2321)、第一出口(2322)和第二出口(2323),所述閥門入口(2321)通過總?cè)胨艿?24)與所述進水接頭(21)連通,所述第一出口(2322)與所述注水件(22)連通,所述第二出口(2323)與所述進水口(13)連通;

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清潔基站,其特征在于,所述上水組件(2)還包括設(shè)置于所述總?cè)胨艿?24)上的殺菌單元(25),所述殺菌單元(25)被構(gòu)造為向從所述進水接頭(21)流入的水中加入具有殺菌作用的物質(zhì)。

      6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清潔基站,其特征在于,所述上水組件(2)還包括設(shè)置于所述總?cè)胨艿?24)上的流量檢測單元(26),所述流量檢測單元(26)被構(gòu)造為獲取從所述進水接頭(21)流入的水流量。

      7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清潔基站,其特征在于,所述上水組件(2)還包括兩端分別與所述第二出口(2323)、所述進水口(13)連通的加熱單元(271),所述加熱單元(271)被配置為對從所述第二出口(2323)流出的水進行加熱。

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清潔基站,其特征在于,所述清潔基站還包括控制單元(5),所述上水組件(2)還包括溫度傳感器(272),所述溫度傳感器(272)被配置為獲取從所述加熱單元(271)流出的水溫,所述控制單元(5)被配置為基于所述溫度傳感器(272)所獲取的水溫控制所述加熱單元(271)的加熱功率和/或開關(guān)狀態(tài)。

      9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清潔基站,其特征在于,所述進水口(13)設(shè)置有至少兩個,所述上水組件(2)還包括匯合件(28),所述匯合件(28)設(shè)置有至少一個入口和至少兩個出口,所述第二出口(2323)與所述匯合件(28)的其中一個所述入口連通,各個所述進水口(13)分別與所述匯合件(28)的對應(yīng)出口連通。

      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清潔基站,其特征在于,還包括清潔液組件(29),所述清潔液組件(29)包括清潔液箱(291)和輸送泵(292),所述輸送泵(292)被配置為將所述清潔液箱(291)中的清潔液輸送至所述匯合件(28)的其中一個入口。

      11.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔基站,其特征在于,所述排污組件(3)包括:

      12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的清潔基站,其特征在于,所述吸污口(33)被構(gòu)造為低于所述清洗槽(12)的底面。

      13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的清潔基站,其特征在于,所述清洗槽(12)內(nèi)設(shè)置有過濾件(14),所述過濾件(14)被構(gòu)造為將臟污中尺寸大于設(shè)定尺寸的固體垃圾攔截于所述清洗槽(12)內(nèi)。

      14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的清潔基站,其特征在于,所述清潔基站還包括控制單元(5),所述排污組件(3)還包括臟污傳感器(34),所述臟污傳感器(34)被配置為獲取從吸污泵(32)流出臟污的渾濁度,所述控制單元(5)被配置為在所述臟污傳感器(34)所獲取的渾濁度低于設(shè)定渾濁度時控制閥門組件(23)使外部水源停止向所述清洗槽(12)內(nèi)供水,并控制所述吸污泵(32)工作設(shè)定時間后停機。

      15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的清潔基站,其特征在于,所述基站本體(1)的側(cè)面上設(shè)置有水管接頭(4),所述進水接頭(21)和所述出水接頭(31)均被構(gòu)造為延伸至所述水管接頭(4),以與外界連通。

      16.根據(jù)權(quán)利要求1至15任一項所述的清潔基站,其特征在于,還包括設(shè)置于所述基站本體(1)上的集塵組件(6),所述容納腔(11)內(nèi)設(shè)置有集塵口(15),所述集塵組件(6)被配置為在所述集塵口(15)與所述清潔機器人的排塵口對接時,將所述清潔機器人的塵盒內(nèi)的垃圾吸出。

      17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的清潔基站,其特征在于,所述集塵組件(6)設(shè)置于所述容納腔(11)上方;

      18.一種清潔系統(tǒng),其特征在于,包括清潔機器人和根據(jù)權(quán)利要求1至17任一項所述的清潔基站。


      技術(shù)總結(jié)
      本公開涉及一種清潔基站及清潔系統(tǒng),該清潔基站用于對自移動設(shè)備進行清潔,包括基站本體、上水組件和排污組件;基站本體包括供用于對接清潔機器人的容納腔,在容納腔的底部設(shè)置有清洗槽,清洗槽被構(gòu)造為用于供清潔機器人進行自清潔;上水組件設(shè)置在基站本體上,且被構(gòu)造為與外部水源連通,基站本體被構(gòu)造為僅通過上水組件使外部水源為清潔機器人進行供水;排污組件連通清洗槽與外界;基站本體被構(gòu)造為僅通過排污組件將清洗槽中的臟污排到外界。本公開的清潔基站沒有設(shè)置傳統(tǒng)的清水箱、污水箱結(jié)構(gòu),由此可以有效減小清潔基站的體積,進而減小清潔基站的占用空間,使得清潔基站的布置更加容易,有效提高了用戶的使用體驗。

      技術(shù)研發(fā)人員:鄭杰,陳超,唐澤恒,錢帥
      受保護的技術(shù)使用者:科沃斯機器人股份有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/10
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